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周明

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：兰州大学物理科学与技术学院更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电子发射
  • 1篇氮
  • 1篇场发射
  • 1篇场发射性能
  • 1篇场致电子发射
  • 1篇衬底

机构

  • 1篇兰州大学

作者

  • 1篇段辉高
  • 1篇叶凡
  • 1篇谢二庆
  • 1篇王晓明
  • 1篇周明

传媒

  • 1篇功能材料与器...

年份

  • 1篇2008
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
氮氧化铪薄膜在不同衬底上的场发射性能被引量：1
2008年
利用直流溅射法在Si、Zn、Ni三种不同衬底上沉积HfNxOy薄膜并测试了其场发射性能。扫描电子显微镜(SEM)显示HfNxOy薄膜表面由纳米颗粒组成,X射线衍射(XRD)说明薄膜中含有HfN和HfO2两种相。场发射测试结果显示,和金属衬底上的薄膜相比,Si衬底上的薄膜的开启电场小且发射电流密度大。文中对三种衬底上发射电流密度大小不同的原因进行了讨论。电流-时间的对应关系说明HfNxOy薄膜的场发射电流稳定。
王晓明谢二庆叶凡段辉高周明
关键词：场致电子发射
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共1页<1>
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