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文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇核科学技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇电子辐照
  • 1篇三极管
  • 1篇势垒
  • 1篇势垒电容
  • 1篇中子
  • 1篇中子辐照
  • 1篇晶体管
  • 1篇负电容
  • 1篇NPN晶体管
  • 1篇

机构

  • 2篇四川大学

作者

  • 2篇龚敏
  • 2篇石瑞英
  • 2篇田野
  • 2篇温景超
  • 2篇巫晓燕
  • 2篇王靳君

传媒

  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇原子能科学技...

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2011
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
硅三极管电子辐照的残余电压效应
2012年
研究了双极型晶体管(BJT)高能电子(1.5MeV)辐照的总注量效应,电子辐照的总注量为5×1013~1.2×1016 cm-2。实验结果表明,三极管经电子辐照后,有残余电压产生,残余电压随电子总注量的增加而增大。认为是由于辐照后产生的缺陷能级导致的去载流子效应使得BC结自建电势差变化量大于BE结,以及缺陷能级使BC结导带差变化量大于BE结这两方面原因引起的。
巫晓燕田野石瑞英龚敏温景超王靳君
关键词:电子辐照
中子和电子辐照诱发硅NPN晶体管负电容现象的机理分析被引量:1
2011年
研究了硅NPN双极型晶体管(C2060)的中子和电子辐照效应。实验结果显示:经中子和电子辐照后,晶体管扩散电容出现退化,甚至出现负电容(NC)现象;电子辐照后晶体管势垒电容出现明显退化,而中子辐照后并无此现象。对中子和电子辐照后晶体管的退化机理进行了分析,认为:晶体管经中子和电子辐照后产生的缺陷团是产生NC现象的根本原因;中子和电子辐照后产生的缺陷团在晶体管内表现为复合中心,这些复合中心大大降低了少数载流子的数密度和寿命,从而使晶体管扩散电容出现严重退化,甚至出现NC现象;电子辐照产生的点缺陷使晶体管多子数密度降低,从而使势垒电容增大。
王靳君田野石瑞英龚敏温景超巫晓燕
关键词:NPN晶体管负电容中子辐照电子辐照势垒电容
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