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高剑锋

作品数:1 被引量:0H指数:0
供职机构:南京电子器件研究所更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇截止频率
  • 1篇T形栅
  • 1篇HEMT器件
  • 1篇GAAS
  • 1篇METAMO...

机构

  • 1篇南京电子器件...

作者

  • 1篇康耀辉
  • 1篇朱赤
  • 1篇高剑锋
  • 1篇张政

传媒

  • 1篇固体电子学研...

年份

  • 1篇2009
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
具有136GHz的0.18m GaAs Metamorphic HEMT器件
2009年
应用电子束直写技术成功制作了栅长0.18μm的高性能In0.52Al0.48As/In0.53Ga0.47As MHEMT。从工艺角度,结合器件的小信号等效电路的理论分析,优化了器件结构,特别是T形栅结构,从而减小了器件寄生参数,达到了较好的器件性能。最终制作的In0.52Al0.48As/In0.53Ga0.47As MHEMT饱和电流达到275mA/mm,夹断电压-0.8V,在Vgs为-0.15V时的最大非本征跨导gm为650mS/mm,截止频率ft达到136GHz,最大振荡频率fmax大于120GHz。
康耀辉张政朱赤高剑锋
关键词:T形栅截止频率
共1页<1>
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