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张志龙

作品数：1 被引量：6H指数：1
供职机构：中国地质大学(武汉)材料与化学学院更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇氮化
  • 1篇氮化钛
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇微观结构
  • 1篇溅射
  • 1篇表面形貌
  • 1篇沉积温度
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇TIN

机构

  • 1篇中国地质大学...

作者

  • 1篇公衍生
  • 1篇李兆营
  • 1篇江峰
  • 1篇张志龙

传媒

  • 1篇电镀与涂饰

年份

  • 1篇2013
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
沉积温度对射频磁控溅射TiN薄膜结构和表面形貌的影响被引量：6
2013年
在不同沉积温度（25～400℃）下，利用射频磁控溅射技术在Si（100）基底上制备了TiN薄膜。采用x射线衍射仪和原子力显微镜研究了沉积温度对膜结构和表面形貌的影响，计算了晶面间距和晶格常数，分析了薄膜的应力性质。实验结果表明，不同沉积温度下制备的TiN薄膜主要含有（111）和（220）两种取向，以（220）为择优取向；随着温度的升高，薄膜晶化质量先提高然后趋于稳定。薄膜内应力为压应力，且随温度的升高而有所增大。随沉积温度升高，薄膜晶粒尺寸变小，表面结构更加均匀致密。
李兆营公衍生田永尚江峰张志龙
关键词：氮化钛射频磁控溅射沉积温度微观结构表面形貌
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