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李兆营

作品数:3 被引量:6H指数:1
供职机构:中国地质大学地球科学学院地质过程与矿产资源国家重点实验室更多>>
发文基金:湖北省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学化学工程更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇氮化
  • 1篇氮化钛
  • 1篇等离子
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇石英
  • 1篇石英管
  • 1篇微观结构
  • 1篇炉膛
  • 1篇溅射
  • 1篇放电等离子
  • 1篇放电等离子烧...
  • 1篇粉体
  • 1篇SR
  • 1篇表面形貌
  • 1篇沉积温度
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇BA
  • 1篇TIN

机构

  • 1篇中国地质大学
  • 1篇中国地质大学...
  • 1篇中国地质大学...

作者

  • 3篇李兆营
  • 2篇公衍生
  • 2篇江峰
  • 1篇靳化才
  • 1篇张志龙

传媒

  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇电镀与涂饰
  • 1篇实验室科学

年份

  • 2篇2014
  • 1篇2013
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
新型高效双管式石英炉膛的设计
2014年
设计了一种新型双管式石英炉膛,它由石英管与玻璃磨口阀、三通三支真空活塞及石英过滤片连接组成,且连接处用耐高温真空脂密封缝隙。这种新型石英双管炉膛管结构简单,体积精巧,拆洗方便;不仅减少了不锈钢材的用量,而且降低了制作成本;同时控温系统采用现代化多段智能程序温度控制仪,稳定性好,可快速升降温度;又因与外壁炉膛双层保温,使散热损失缩小;在烧结使用中,更换样品时既方便又快捷,效率高而且更实用,运行安全性能更好。
靳化才李兆营
关键词:石英管
沉积温度对射频磁控溅射TiN薄膜结构和表面形貌的影响被引量:6
2013年
在不同沉积温度(25~400℃)下,利用射频磁控溅射技术在Si(100)基底上制备了TiN薄膜。采用x射线衍射仪和原子力显微镜研究了沉积温度对膜结构和表面形貌的影响,计算了晶面间距和晶格常数,分析了薄膜的应力性质。实验结果表明,不同沉积温度下制备的TiN薄膜主要含有(111)和(220)两种取向,以(220)为择优取向;随着温度的升高,薄膜晶化质量先提高然后趋于稳定。薄膜内应力为压应力,且随温度的升高而有所增大。随沉积温度升高,薄膜晶粒尺寸变小,表面结构更加均匀致密。
李兆营公衍生田永尚江峰张志龙
关键词:氮化钛射频磁控溅射沉积温度微观结构表面形貌
AIrO_3(A=Sr,Ba)复合氧化物粉体的可控合成与烧结
2014年
采用TG-DSC分析了IrO2与SrCO3、BaCO3的固相反应过程,探讨了不同温度、不同比例和二次煅烧等合成工艺参数对SrIrO3、BaIrO3物相的影响,得到了纯的SrIrO3、BaIrO3复合氧化物粉体的最佳合成条件。在此基础上,采用放电等离子烧结(SPS)技术制备了结晶度良好、高致密度的SrIrO3、BaIrO3复合氧化物陶瓷。
田永尚公衍生李兆营江峰
关键词:粉体放电等离子烧结
共1页<1>
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