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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇多孔硅
  • 1篇性能研究
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇发光
  • 1篇

机构

  • 1篇四川大学

作者

  • 1篇刘俊刚
  • 1篇张云森
  • 1篇龚敏
  • 1篇孙小松
  • 1篇杨治美
  • 1篇袁超
  • 1篇刘东来
  • 1篇沈晓帆
  • 1篇聂二勇

传媒

  • 1篇半导体光电

年份

  • 1篇2011
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
电化学阳极氧化制备多孔硅及其发光性能研究被引量:3
2011年
利用电化学阳极氧化法,通过控制电流密度和电解液的成分,在p型(100)硅衬底上制备了大孔的多孔硅结构,利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和紫外荧光光度计研究了不同条件下制备的多孔硅样品的行貌特征、结构和发光性能。在此基础上进一步考察了对多孔硅样品进行氢氟酸浸泡刻蚀和阴极氢饱和处理对其发光性能的影响。讨论了后处理对多孔硅发光性能影响的机理。
刘东来聂二勇张云森袁超沈晓帆杨治美刘俊刚龚敏孙小松
关键词:多孔硅光致发光
共1页<1>
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