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姚刚

作品数：5 被引量：17H指数：2
供职机构：中国电子科技集团第十三研究所更多>>
相关领域：电子电信文化科学更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇专利
  • 2篇期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇文化科学

主题

  • 2篇终端
  • 2篇刻蚀
  • 2篇故障点
  • 2篇半导体
  • 2篇存储介质
  • 1篇等离子体
  • 1篇石英谐振器
  • 1篇全人工
  • 1篇校准
  • 1篇校准装置
  • 1篇谐振器
  • 1篇离子刻蚀
  • 1篇化合物半导体
  • 1篇割集
  • 1篇工装
  • 1篇故障树
  • 1篇故障树分析
  • 1篇故障树分析法
  • 1篇故障诊断
  • 1篇管脚

机构

  • 5篇中国电子科技...
  • 1篇河北工业职业...

作者

  • 5篇姚刚
  • 3篇张文朋
  • 3篇吴海
  • 2篇吴爱华
  • 2篇翟玉卫
  • 2篇赵英伟
  • 1篇石文兰

传媒

  • 2篇半导体技术

年份

  • 1篇2023
  • 1篇2022
  • 1篇2021
  • 2篇2007
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
石英谐振器管脚校准装置、校准工装的确定方法及校准方法
本发明提供了一种石英谐振器管脚校准装置、校准工装的确定方法及石英谐振器管脚的校准方法，属于管脚校准技术领域，包括具有吸附孔的持件台、可吸附于持件台上的校准工装、夹持矫直机构以及定位凸轮；夹持矫直机构设置于持件台上且对称于...
张文朋吴海王露寒姚刚刘成群任泽生韩建侯立永
ICP技术在化合物半导体器件制备中的应用被引量：11
2007年
介绍了ICP刻蚀工艺技术原理和在化合物半导体器件制备中的应用,包括ICP刻蚀技术中的低温等离子体的形成机理、等离子体与固体表面的相互作用等,并对影响ICP刻蚀结果的因素进行了分析。研究了不同的工艺气体配比、腔体工作压力、ICP源功率和射频源功率对刻蚀的影响,并初步得到了一种稳定、刻蚀表面清洁光滑、图形轮廓良好、均匀性较好和刻蚀速率较高的干法刻蚀工艺。
姚刚石文兰
关键词：等离子体刻蚀
故障点确定方法、装置、终端及存储介质
本发明提供一种故障点确定方法、装置、终端及存储介质。该方法包括：获取目标物体上第一实际图形与对应的理想图形在第一方向的第一偏移量和在与第一方向垂直的第二方向的第二偏移量；第一实际图形为目标物体上关于目标物体的中心对称的至...
张文朋赵英伟吴爱华翟玉卫吴海姚刚
故障树分析法在半导体设备故障诊断中的应用被引量：6
2007年
介绍了故障树分析法的原理。以反应离子刻蚀(RIE)设备的典型故障为例,建立故障树,通过求解最小实际故障来进行定性分析。尝试扩展故障树在故障判断和改进真空系统可靠性方面的应用,得出几个有针对性的结论。该方法能提高故障诊断的效率和准确性。
姚刚
关键词：反应离子刻蚀故障树割集
故障点确定方法、装置、终端及存储介质
本发明提供一种故障点确定方法、装置、终端及存储介质。该方法包括：获取目标物体上第一实际图形与对应的理想图形在第一方向的第一偏移量和在与第一方向垂直的第二方向的第二偏移量；第一实际图形为目标物体上关于目标物体的中心对称的至...
张文朋赵英伟吴爱华翟玉卫吴海姚刚
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