宁富平
- 作品数：2 被引量：1H指数：1
- 供职机构：西安理工大学材料科学与工程学院更多>>
- 相关领域：金属学及工艺更多>>
- 脉冲闭合场非平衡磁控溅射(P-CFUBMS)与直流闭合场非平衡磁控溅射(dc-CFUBMS)对CrNx镀层沉积效果差异比较
- 采用脉冲闭合场非平衡磁控溅射(P-CFUBMS)与直流闭合场非平衡磁控溅射(dc-CFUBMS)两种方法分别沉积CrNx镀层,研究了两种不同复合电磁场环境中制备的CrNx镀层厚度沿靶基距方向分布均匀性及微观结构的差异.结...
- 曹政蒋百灵宁富平张潜
- 关键词：微观结构
- 脉冲放电强度对磁控溅射Cr薄膜微观结构的影响被引量：1
- 2013年
- 在脉冲非平衡磁控溅射环境中,通过提高脉冲靶电压(分别为600、700及800 V)使工作气体Ar获得3种不同强度的异常辉光放电状态(单脉冲峰值靶功率密度分别为10、30及70 W/cm2),并分别制备Cr薄膜。利用SEM、AFM、XRD及TEM等方法研究、比较了非平衡磁控溅射Cr薄膜的微观结构在不同Ar气脉冲异常辉光放电强度条件下的差异。结果表明,随Ar气脉冲异常辉光放电强度的增强:Cr薄膜沉积速率显著提高,薄膜表面粗糙度略有增大,但表面颗粒未出现长大现象,且尺寸均匀、细小,择优生长的Cr(110)晶面的衍射峰强度明显降低,结晶效果逐渐降低。不同异常辉光放电强度条件下制备的Cr薄膜均以柱状方式生长,微观组织呈现出纳米级尺度的晶粒(直径5～10 nm)镶嵌式分布的形态。
- 曹政蒋百灵沈建东宁富平张潜
- 关键词：脉冲非平衡磁控溅射
