您的位置: 专家智库 > >

郭延岭

作品数:5 被引量:3H指数:1
供职机构:河北大学电子信息工程学院更多>>
发文基金:河北省自然科学基金教育部科学技术研究重点项目国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学电气工程电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇理学
  • 2篇电气工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇纳米
  • 1篇导电
  • 1篇导电机制
  • 1篇电池
  • 1篇电容
  • 1篇电容器
  • 1篇电学
  • 1篇电学特性
  • 1篇太阳电池
  • 1篇铁电
  • 1篇铁电电容器
  • 1篇退火
  • 1篇退火温度
  • 1篇热扩散
  • 1篇纳米结构材料
  • 1篇纳米晶
  • 1篇纳米晶粒
  • 1篇纳米线
  • 1篇结构特性
  • 1篇晶粒

机构

  • 5篇河北大学

作者

  • 5篇郭延岭
  • 4篇娄建忠
  • 4篇马蕾
  • 4篇彭英才
  • 2篇张志刚
  • 1篇孙杰
  • 1篇刘保亭
  • 1篇江子荣
  • 1篇陈江恩

传媒

  • 3篇人工晶体学报
  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 1篇2012
  • 2篇2011
  • 2篇2010
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
纳米结构材料在太阳电池中的应用
2010年
各种纳米结构材料具有许多优异的光伏性质。例如量子阱具有良好的带隙可调谐能力,纳米薄膜具有较好的光吸收特性,量子点具有多激子产生能力,纳米线具有低反射特性等。重点评述了采用量子阱、纳米薄膜、各种一维纳米结构、纳米晶粒或量子点等不同纳米结构材料,制作的太阳电池的光伏性能及其近年研究进展。指出了各自的潜在优势与存在问题,并提出了设计与制作新型纳米结构太阳电池的若干技术对策,如选择合适的纳米结构材料、制备有序的量子点结构、设计叠层结构等一系列技术手段,借以提高太阳电池的光电转换效率。可以预期,高效率、低成本和长寿命的纳米结构太阳电池将会对未来光伏产业的发展产生重要影响。
郭延岭马蕾张志刚娄建忠彭英才
关键词:纳米结构材料纳米晶粒太阳电池
石英衬底上多晶Si薄膜的制备与电学特性
多晶硅/(pc-Si/)薄膜作为一种光电信息材料,有着不同于体材料的许多物理特性,这使其在光伏器件中有着潜在的应用价值。本工作以石英玻璃为衬底,利用高频化学气相淀积/(HFCVD/)和低压化学汽相淀积/(LPCVD/)两...
郭延岭
关键词:电学特性表面形貌热扩散
文献传递
多晶Si薄膜表面金催化Si纳米线生长被引量:1
2012年
以Au膜作为催化剂和大晶粒多晶Si薄膜为衬底,利用固-液-固生长机制,制备出直径在30~100 nm和长度为几百微米的高密度Si纳米线。实验研究了退火温度、生长时间和N2流量对Si纳米线生长的影响。结果表明,随着退火温度的升高,生长时间的延长和N2流量的增加,Si纳米线的长度和密度都显著增加。对不同生长时间下获得的Si纳米线样品进行了X射线衍射测量,结果显示随着生长时间的延长,多晶Si薄膜和表面的Au膜成分都在减少。光致发光谱则显示出弱的蓝光发射和强的红光发射特性,前者应是由非晶SiOx壳层中的氧空位发光中心引起,后者则应归因于Si纳米线芯部与非晶SiOx壳层之间界面区域附近中的Si=O双键态或非桥键氧缺陷中心。
马蕾郭延岭娄建忠彭英才
关键词:SI纳米线退火温度光致发光
La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3/Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6))O_3/La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3铁电电容器的结构和性能研究
2010年
采用磁控溅射法和脉冲激光沉积法,在SrTiO3(001)衬底上制备了La0.5Sr0.5CoO3(70 nm)/Pb(Zr0.4Ti0.6)O3(70 nm)/La0.5Sr0.5CoO3(70 nm)(LSCO/PZT/LSCO)铁电电容器异质结。X射线衍射结果表明:LSCO和PZT薄膜均为外延结构。在5 V的外加电压下,LSCO/PZT/LSCO电容器具有较低的矫顽电压(0.49 V),较高的剩余极化强度(41.7μC/cm2)和较低的漏电流密度(1.97×10-5A/cm2),LSCO/PZT/LSCO电容器的最大介电常数为1073。漏电流的分析表明:当外加电压小于0.6 V时,电容器满足欧姆导电机制;当外加电压大于0.6 V时,符合空间电荷限制电流(SCLC)导电机制。
陈江恩刘保亭孙杰郭延岭马蕾娄建忠彭英才
关键词:铁电电容器PZT导电机制
石英衬底上大晶粒多晶Si薄膜的制备与结构表征被引量:2
2011年
利用高频感应加热化学气相沉积工艺,以H2稀释的SiH4作为反应气体源,在未抛光的粗糙石英衬底上直接沉积制备了具有均匀分布的大晶粒多晶Si膜。采用扫描电子显微镜、X射线衍射和可见-紫外分光光度计等检测手段,测量和分析了沉积膜层的表面形貌、晶粒尺寸、择优取向与光反射等特性。结果表明,多晶Si膜中Si晶粒的尺寸大小和密度分布不仅与工艺参数有关,而且强烈依赖于衬底的表面状况。1000℃下沉积薄膜的平均晶粒尺寸为~3μm,择优取向为<111>晶向。反射谱测量表明,920℃下制备薄膜的反射率比1000℃下制备的更低,最低值达18.4%,这应归功于前者具有更大的表面粗糙度。
马蕾郭延岭张志刚江子荣娄建忠彭英才
关键词:结构特性
共1页<1>
聚类工具0