陶亚明
- 作品数：6 被引量：15H指数：2
- 供职机构：西北师范大学物理与电子工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金甘肃省自然科学基金甘肃省高分子材料重点实验室基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程一般工业技术更多>>
- 不同缓冲层对ZnO薄膜的性能影响被引量：7
- 2010年
- 用射频反应磁控溅射法在玻璃基底上分别以SnO2、SiO2和Al2O3为缓冲层制备ZnO薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、紫外-可见分光光度计和荧光分光光度计对薄膜的结构和光学性能进行了表征。XRD和SEM的分析结果表明,在SiO2和Al2O3缓冲层上生长的ZnO薄膜具有较好的c轴择优取向,薄膜表面光滑平整,薄膜的结晶质量得到改善;透射光谱表明所有样品在可见光范围内的平均透过率超过70%;通过对薄膜光致发光谱的分析,认为422nm左右的紫峰来自于电子从晶粒边界的界面缺陷能级到价带的辐射跃迁;PL谱中蓝光和绿光的发光机制与薄膜中的本征缺陷有关。
- 侯丽莉马书懿陈海霞孟军霞贾迎飞陶亚明尚小荣
- 关键词：ZNO薄膜缓冲层晶体结构光致发光
- 衬底和氧分压对Cu掺杂ZnO薄膜的结构及光学特性的影响被引量：1
- 2010年
- 采用射频磁控溅射方法在玻璃和硅(100)衬底上制备了不同氧分压的Cu掺杂ZnO(ZnO∶Cu)薄膜。利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和光致荧光发光(PL)等表征技术,研究了衬底和氧分压对ZnO∶Cu薄膜的结晶性能和光学特性的影响。结果显示薄膜沉积在Si衬底上比玻璃衬底上有更好c轴择优取向,两种衬底上沉积的薄膜有相同的氧分压结晶规律,且在氧氩比为10∶10时,薄膜c轴取向同时达到最好。通过对光致发光的研究表明,在低氧环境时玻璃衬底较容易制得好的发光薄膜,可在富氧环境时Si衬底上制得的薄膜发光性能较好。
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- 关键词：磁控溅射衬底氧分压光学特性
- Zn缓冲层对氧化锌薄膜的结构和光学特性的影响被引量：1
- 2010年
- 采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了具有高c轴择优取向的不同Zn缓冲层厚度的ZnO(ZnO/Zn)薄膜。利用X射线衍射(XRD)法、扫描电子显微镜(SEM)技术和光致荧光(PL)发光谱(PL)等表征了ZnO/Zn薄膜的微观结构和发光特性。XRD的分析结果显示,随着缓冲层厚度的增加,(002)衍射峰的半高宽(FWHM)逐渐变小,表明薄膜的结晶质量得到改善。通过对样品PL谱的研究,发现分别位于435(2.85eV)和480nm(2.55eV)的蓝光双峰以及530nm(2.34eV)的绿光峰,且缓冲层沉积时间为10min时,样品的单色性最好。推测位于435nm的蓝光发射主要来源于电子从锌填隙缺陷能级到价带顶的跃迁所致,而绿光峰的发光机制与氧空位有关。
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- 关键词：ZNO薄膜缓冲层光致发光
- 利用压电光声光谱测量镁掺杂氧化锌薄膜的光吸收特性被引量：2
- 2011年
- 采用由射频磁控溅射方法在玻璃衬底制备的镁掺杂氧化锌(ZnO:Mg)薄膜材料,通过压电光声光谱法测量其在可见光波段的光吸收特性,并与透射光谱法测得的吸收率数据进行了比较,得到了一致性较好的结果。同时,从理论上推导分析了玻璃衬底上ZnO:Mg压电光声信号与光吸收率的关系及变化规律,并由实验证实:光声信号为玻璃基底与ZnO:Mg薄膜的共同贡献,光声信号的幅值与吸收率呈反相关,这一结论与理论分析得到的结果一致。
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- 关键词：光声效应压电效应氧化锌薄膜
- Al掺杂ZnO薄膜的微结构及光学特性研究被引量：4
- 2010年
- 采用射频磁控溅射方法在玻璃衬底上制备出不同Al掺杂量的ZnO(AZO)薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和光致荧光发光(PL)等系统研究了不同Al掺杂量对ZnO薄膜的结晶性能、表面形貌和光学特性等的影响。结果显示,随着Al掺杂量的增加,薄膜的(002)衍射峰先增强后减弱,同时出现了(100)、(101)和(110)衍射峰,表明我们制备的AZO薄膜为多晶纤锌矿结构,适量的Al掺杂可提高ZnO薄膜的结晶质量,然而AZO薄膜的表面平整、晶粒致密均匀。薄膜在紫外-可见光范围的透过率超过90%,同时随着Al掺杂量的增加,薄膜的光学带隙值先增大,后减小。这与采用量子限域模型对薄膜的光学带隙作出相应的理论计算所得结果的变化趋势完全一致。
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- 关键词：磁控溅射法AZO薄膜结构特性光学特性
- Cu掺杂ZnO薄膜的制备及光学性能研究
- ZnO是一种Ⅱ-Ⅵ族直接带隙宽带半导体,室温禁带宽度约为3.37eV,激子束缚能高达60meV。在大气条件下,ZnO具有六方纤锌矿结构。作为新一代的宽带半导体材料,ZnO具有优异的光学、电学及压电特性,在发光二极管、光探...
- 陶亚明
- 关键词：磁控溅射光学特性氧分压
- 文献传递
