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文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 2篇专利

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 5篇声表面波
  • 3篇声表面波器件
  • 2篇导电
  • 2篇烧伤
  • 2篇声表面波滤波...
  • 2篇温度
  • 2篇温度试验
  • 2篇滤波器
  • 2篇静电
  • 1篇低损耗
  • 1篇压电
  • 1篇压电陶瓷
  • 1篇有效接地
  • 1篇圆片
  • 1篇粘片
  • 1篇双面研磨
  • 1篇水溶
  • 1篇抛光
  • 1篇抛光工艺
  • 1篇频散

机构

  • 7篇中国电子科技...
  • 1篇电子科技大学

作者

  • 7篇鄢秋娟
  • 4篇张静雯
  • 3篇董加和
  • 3篇赵雪梅
  • 3篇蒋欣
  • 2篇刘光聪
  • 2篇冷俊林
  • 2篇米佳
  • 2篇伍平
  • 2篇夏艳
  • 2篇周毅
  • 1篇蒋国宇
  • 1篇王露
  • 1篇陈台琼
  • 1篇朱勇
  • 1篇陈运祥
  • 1篇杨靖
  • 1篇张永川
  • 1篇李洪平
  • 1篇冉川云

传媒

  • 4篇压电与声光
  • 1篇半导体光电

年份

  • 1篇2018
  • 1篇2016
  • 3篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2013
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
一种防止声表面波器件在温度试验中静电烧伤的方法
本发明公开了一种防止声表面波器件在温度试验中静电烧伤的方法,先将声表面波器件放入导电容器中,然后加入导电介质以将声表面波器件完全填埋,再盖上导电容器盖,最后将导电容器放入温度试验装置,使声表面波器件在整个温度试验过程中有...
赵雪梅刘光聪董加和周毅夏艳鄢秋娟张静雯蒋欣冷俊林伍平
文献传递
一种新型SAW气体传感器的设计被引量:3
2015年
提出了将纳米线技术与声表面波(SAW)技术相结合,分别利用纳米线气体敏感材料比表面积高,声表面波传感器质量敏感性高的优点,探索研制新一代声表面波气体传感器。该传感器具有响应速度快,灵敏度高,体积小,质量注和易集成等优点。该文主要从SAW专用芯片的研制、专用纳米线研制、专用纳米线的表面修饰与改性研究、检测电路设计等4方面进行了阐述。理论计算表明,相比传统二维结构的SAW气体传感器,三维纳米线结构的SAW气体传感器的在灵敏度和响应速度上都得到提高。
王露王登攀杜波鄢秋娟张静雯唐永亮杨靖江洪敏
关键词:声表面波纳米线气体传感器比表面积灵敏度
一种防止声表面波器件在温度试验中静电烧伤的方法
本发明公开了一种防止声表面波器件在温度试验中静电烧伤的方法,先将声表面波器件放入导电容器中,然后加入导电介质以将声表面波器件完全填埋,再盖上导电容器盖,最后将导电容器放入温度试验装置,使声表面波器件在整个温度试验过程中有...
赵雪梅刘光聪董加和周毅夏艳鄢秋娟张静雯蒋欣冷俊林伍平
文献传递
ZnO/蓝宝石结构声表面波频散特性数值计算
2015年
从理论上计算出ZnO/蓝宝石结构声表面波相速度和机电耦合系数k2色散曲线。计算显示,在ZnO膜厚和声表面波器件波长之比h/λ=0.48时,IDT/ZnO(c面)/蓝宝石(c面)结构西沙瓦波1次模式的k2最大值为2.705%,理论声速为4 982m/s;在h/λ=0.3时,IDT/ZnO(a面)/蓝宝石(r面)结构西沙瓦波1次模式的k2最大值为4.34%,理论声速为5 509m/s。结果表明,IDT/ZnO(a面)/蓝宝石(r面)结构西沙瓦波1次模式的k2和声速较大,适于研制高频低损耗声表面波滤波器。
董加和陈运祥赵雪梅吕翼朱勇张显洪张永川李浩鄢秋娟
关键词:频散特性机电耦合系数ZNO薄膜蓝宝石相速度
声表面波器件用粘片胶的试验研究
2013年
针对目前声表面波器件用粘接剂固化时间长、小尺寸(面积小于10mm2),芯片剪切强度低的问题,测试分析了988粘片胶热稳定性、材料放气和胶成分;研究了在不同的固化工艺条件下,988胶粘片胶对声表面波器件的小尺寸芯片剪切强度和声表面波滤波器带外抑制的影响。测试和研究结果表明,采用988粘片胶能够缩短固化周期,满足国军标规定的芯片剪切强度的要求,同时能使滤波器性能得到提升。
米佳蒋国宇陈台琼冉川云叶建萍鄢秋娟
关键词:声表面波滤波器热稳定性
低损耗、髙矩形度声表滤波器设计研究被引量:4
2015年
针对高矩形度低损耗声表面波(SAW)滤波器的需求背景,对混合结构低损耗SAW滤波器的设计技术展开研究,通过建立混合结构滤波器模型,分析优化滤波器性能,成功研制出中心频率260 MHz,插入损耗为2dB,矩形系数优化1.6的声表滤波器,测试与仿真结果基本一致。
金剑蒋欣鄢秋娟王岚蒋世义陈彦光杨贤春
关键词:声表面波滤波器混合结构低损耗
压电陶瓷圆片单面研磨抛光工艺被引量:1
2018年
介绍了一种在行星式双面磨抛设备上对压电陶瓷圆片进行单面研磨和抛光的工艺。在加工过程中,使用了自制的全水溶性粘接剂来粘接晶片,实现了圆片单面所有磨抛加工流程都在双面磨抛设备上进行。采用自制化学腐蚀液分段腐蚀控制圆片形貌(翘曲度)的变化,中间研磨工序优化介质控制表面粗糙度和划道、SiO2胶体化学机械抛光去除亚损伤层,获得了高品质的铝钛酸铝压电陶瓷(PZT)单面抛光圆片。
鄢秋娟罗夏林米佳李洪平谭桂娟刘善群唐运红于新晓张静雯
关键词:双面研磨化学腐蚀
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