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苑静

作品数:6 被引量:21H指数:3
供职机构:河北大学物理科学与技术学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金河北省自然科学基金河北省重点基础研究项目更多>>
相关领域:理学电气工程机械工程更多>>

文献类型

  • 6篇中文期刊文章

领域

  • 5篇理学
  • 1篇机械工程
  • 1篇电气工程

主题

  • 2篇透射
  • 2篇氢化非晶硅
  • 2篇光谱
  • 2篇光吸收
  • 2篇非晶
  • 2篇非晶硅
  • 1篇压电
  • 1篇压电效应
  • 1篇氧化锌薄膜
  • 1篇异质结
  • 1篇双异质结
  • 1篇双异质结构
  • 1篇透射光
  • 1篇透射光谱
  • 1篇透射谱
  • 1篇氢化非晶硅薄...
  • 1篇温度依赖
  • 1篇膜厚
  • 1篇纳米硅
  • 1篇溅射

机构

  • 6篇河北大学
  • 1篇西北师范大学

作者

  • 6篇苑静
  • 5篇丁文革
  • 5篇于威
  • 4篇傅广生
  • 3篇李文博
  • 1篇孟令海
  • 1篇杨彦斌
  • 1篇马登浩
  • 1篇袁萍
  • 1篇张硕
  • 1篇杨景发
  • 1篇李彬
  • 1篇陶亚明
  • 1篇卢云霞
  • 1篇侯玉斌

传媒

  • 2篇光学学报
  • 1篇光谱实验室
  • 1篇河北大学学报...
  • 1篇光子学报
  • 1篇信息记录材料

年份

  • 1篇2013
  • 4篇2011
  • 1篇2010
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
表面粗糙氢化非晶硅薄膜光学常量的确定
2013年
由于光学薄膜的透射光谱和反射光谱受表面粗糙程度的影响很大,因此在确定表面粗糙薄膜的厚度及光学常量时,如果不考虑这种影响必然会引起较大的误差。利用标量波散射理论,引入表面均方根粗糙系数,对粗糙薄膜表面的光散射进行了细致分析,得出了光散射影响下薄膜系统透射系数的表达式。在此基础上计算的薄膜厚度以及透射光谱与制备的氢化非晶硅薄膜的相应测量结果基本一致,由此确定的光学常量也更接近实际量值。该方法的运算过程不基于最小值优化算法,无需复杂软件辅助,是准确确定表面粗糙薄膜的厚度以及光学常量的一种有效方法。
丁文革卢云霞马登浩苑静侯玉斌于威傅广生
关键词:氢化非晶硅薄膜透射光谱
氢对非晶氮化硅薄膜键合结构和光学吸收特性的影响被引量:4
2010年
采用对靶磁控反应溅射技术以H2和N2为反应气体在不同氢气流量(15-25Sccm)条件下制备了氢化非晶氮化硅(a-SiN:H)薄膜,并利用傅立叶红外透射光谱(FTIR)和紫外一可见透射光谱(UV-VIS)对薄膜的键合结构和光学吸收特性进行了分析。结果表明,氢气流量20Sccm时薄膜中氢的键密度最大,薄膜无序度最减小;薄膜的光学带隙Eg和E04逐渐增大。薄膜原子间键合结构和薄膜有序性的变化可归因于反应溅射过程中氢气的钝化和刻蚀作用。
于威孟令海丁文革苑静
利用压电光声光谱测量镁掺杂氧化锌薄膜的光吸收特性被引量:2
2011年
采用由射频磁控溅射方法在玻璃衬底制备的镁掺杂氧化锌(ZnO:Mg)薄膜材料,通过压电光声光谱法测量其在可见光波段的光吸收特性,并与透射光谱法测得的吸收率数据进行了比较,得到了一致性较好的结果。同时,从理论上推导分析了玻璃衬底上ZnO:Mg压电光声信号与光吸收率的关系及变化规律,并由实验证实:光声信号为玻璃基底与ZnO:Mg薄膜的共同贡献,光声信号的幅值与吸收率呈反相关,这一结论与理论分析得到的结果一致。
张硕袁萍杨景发陶亚明苑静
关键词:光声效应压电效应氧化锌薄膜
纳米硅结构薄膜光吸收的温度依赖特性被引量:4
2011年
综合考虑纳米硅结构薄膜的特殊性质,如量子限制效应、光学带隙和光跃迁振子强度对纳米硅粒径尺寸的依赖特性以及光吸收的温度依赖特性等,引入了一个解析表达式来分析具有一定粒径尺寸分布的纳米硅结构薄膜光吸收。结果表明,随着温度的增加,纳米硅结构的带隙减小,吸收光谱曲线整体向上平移,这种温度依赖关系与体硅基本相同。纳米硅结构薄膜光吸收拟合结果与实验数据的比较分析表明,该光吸收模型能够很好地解释纳米硅薄膜在吸收边范围内的光吸收。
丁文革苑静李文博杨彦斌于威傅广生
关键词:光吸收温度依赖纳米硅
多结叠层太阳电池中隧穿结的性能优化被引量:2
2011年
提高太阳电池的转换效率是人类利用和发展太阳能技术的主要追求目标,目前有望大幅度提高转换效率的一个最直接手段就是采用多结叠层太阳电池.开发研制电学和光学损耗极小的隧穿结,是提高多结叠层太阳电池性能的有效途径.从材料、掺杂剂和掺杂浓度的选择以及结构的优化等诸多方面,阐述了改善隧穿结性能的理论方法和技术措施.对优化隧穿结的沉积参数和结构设计、制备高效叠层太阳电池具有重要的参考价值.
丁文革李文博苑静于威傅广生
关键词:掺杂双异质结构
基于反射和透射光谱的氢化非晶硅薄膜厚度及光学常量计算被引量:9
2011年
采用紫外-可见透射光谱仪测量了对靶磁控溅射沉积法制备的氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜的透射光谱和反射光谱.利用T/(1-R)方法来确定薄膜的吸收系数,进而得到薄膜的消光系数;通过拟合薄膜透射光谱干涉极大值和极小值的包络线来确定薄膜折射率和厚度的初始值,并利用干涉极值公式进一步优化薄膜的厚度值和折射率;利用柯西公式对得到的薄膜折射率进行拟合,给出了a-Si:H薄膜的色散关系曲线.为了验证该方法确定的薄膜厚度和光学常量的可靠性,将理论计算得到的透射光谱与实验数据进行了比较,结果显示两条曲线基本重合,可见这是确定a-Si:H薄膜厚度及光学常量的一种有效方法.
丁文革苑静李文博李彬于威傅广生
关键词:氢化非晶硅透射谱薄膜厚度
共1页<1>
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