您的位置： 专家智库 > >

谢立恒

作品数：6 被引量：1H指数：1
供职机构：复旦大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇电气工程

主题

  • 4篇电镀
  • 4篇电镀铜
  • 4篇镀铜
  • 3篇淀积
  • 3篇原子层淀积
  • 3篇酸铜
  • 3篇铜互连
  • 3篇互连
  • 2篇电路
  • 2篇丁二酸
  • 2篇镀液
  • 2篇阻挡层
  • 2篇扩散阻挡层
  • 2篇磺酸
  • 2篇磺酸钠
  • 2篇集成电路
  • 2篇半导体
  • 2篇半导体集成
  • 2篇半导体集成电...
  • 1篇电池

机构

  • 6篇复旦大学

作者

  • 6篇卢红亮
  • 6篇张卫
  • 6篇谢立恒
  • 4篇丁士进
  • 3篇孙清清
  • 2篇王鹏飞
  • 1篇周鹏
  • 1篇耿阳
  • 1篇谢章熠

传媒

  • 1篇半导体光电

年份

  • 1篇2016
  • 2篇2014
  • 1篇2013
  • 2篇2012
共 6 条 记 录，以下是 1-6
全选 清除 导出
排序方式：
一种电镀铜溶液
本发明属于半导体集成电路制造技术领域，具体为一种电镀铜溶液。该电镀铜溶液包括：硫酸铜、硫酸、氯离子、烷基丁二酸酯磺酸钠和磺酸盐类。其优点在于调高了电镀液的酸铜比，可以保证在纳米级的深孔中铜层应有的厚度；流动性更好，电镀铜...
卢红亮谢立恒丁士进张卫
文献传递
一种铜互连结构及其制备方法
本发明属于微电子工艺技术领域，具体是一种以Ru-Al-O作为扩散、粘附阻挡层的铜互连结构以及制备方法。本发明以现有铜互连结构为基础，采用Ru-Al-O代替传统的TaN/Ta双层结构，作为铜互连结构的新的铜扩散阻挡层。利用...
卢红亮张卫谢立恒丁士进王鹏飞
文献传递
原子层淀积技术应用于太阳电池的研究进展被引量：1
2012年
原子层淀积(ALD)是一种先进的纳米级薄膜生长技术,在微电子和光电子领域有着广泛的应用前景,尤其在提高太阳电池的光电转换效率方面正发挥越来越大的作用,很可能成为下一代太阳电池工艺中的重要方法。文章综述了近年来ALD技术在太阳电池领域的应用研究进展,详细介绍了ALD技术应用在不同类型太阳电池的最新研究成果和存在的问题,并对其发展趋势进行了展望。
谢章熠谢立恒耿阳孙清清周鹏卢红亮张卫
关键词：太阳电池原子层淀积薄膜生长
一种电镀铜溶液
本发明属于金属电镀技术领域，具体为一种电镀铜溶液。该电镀铜溶液包括：硫酸铜、硫酸、氯离子、烷基丁二酸酯磺酸钠和磺酸盐类。其优点在于调高了电镀液的酸铜比，可以保证在纳米级的深孔中铜层应有的厚度；流动性更好，电镀铜的台阶覆盖...
卢红亮谢立恒丁士进张卫
文献传递
一种电镀铜的镀液及其制备方法
本发明属于铜互连结构技术领域，具体涉及一种电镀铜的镀液及其制备方法。本发明提供电镀铜的镀液，其组成成分：0.84-0.92摩尔/升的硫酸铜，2.95-3.05毫克/升的加速剂，195-205毫克/升的聚醚，19.5-20...
卢红亮谢立恒孙清清张卫
文献传递
一种采用新型扩散阻挡层的铜互连结构及其制备方法
本发明属于半导体集成电路制造技术领域，具体为一种铜互连结构及其制备方法。本发明以现有铜互连结构为基础，采用硅酸锰薄膜作为铜互连结构的铜扩散阻挡层。本发明用原子层淀积方法在铜互连的沟槽和通孔结构中来生长5~20nm的硅酸锰...
卢红亮谢立恒孙清清王鹏飞丁士进张卫
文献传递
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0