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文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇机械工程
  • 2篇理学
  • 1篇电子电信
  • 1篇核科学技术

主题

  • 1篇电子束光刻
  • 1篇光刻
  • 1篇光学
  • 1篇光学元件
  • 1篇高宽比
  • 1篇X射线光刻
  • 1篇大高宽比

机构

  • 3篇中国科学技术...

作者

  • 3篇田金萍
  • 2篇陈洁
  • 2篇柳龙华
  • 2篇田扬超
  • 2篇熊瑛
  • 2篇李文杰
  • 2篇黄新龙
  • 2篇刘刚

传媒

  • 1篇光学精密工程
  • 1篇核技术

年份

  • 2篇2009
  • 1篇2008
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
X射线成像旋转椭球聚焦镜的设计与检测
X射线三维相位成像因其可实现厚物质的内部三维结构的观察,在生物医学和纳米材料领域有着广泛的应用。国家同步辐射实验室(NSRL)利用全场透射显微技术(TXM)建设了高空间分辨X射线成像光束线和实验站。通过分析X射线成像系统...
田金萍
关键词:光学元件
文献传递
X射线成像椭球聚焦镜的设计与检测被引量:5
2008年
国家同步辐射实验室(NSRL)以Wiggler为入射光源,建设了高空间分辨X射线成像光束线和实验站。根据成像系统对照明光的要求,使用旋转椭球聚焦镜聚焦入射光,结合小孔和中心阻挡器,形成锥形空心光斑照射到样品上。本文对成像系统所需的旋转椭球聚焦镜的长轴和短轴等进行了计算,并对美国Xraida公司制作的旋转椭球聚焦镜进行了检测。实验结果表明旋转椭球聚焦镜满足X射线成像的设计要求,其衍射效率大于85%。
田金萍李文杰陈洁刘刚熊瑛柳龙华黄新龙田扬超
大高宽比、高线密度X射线透射光栅的制作被引量:8
2009年
利用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为1 mm×1 mm,周期为300 nm,金吸收体厚度为1μm的用于X射线显微成像的透射光栅。首先,利用电子束光刻和微电镀技术在Si3N4薄膜上制作周期为300 nm,厚度为250 nm的高线密度光栅掩模;然后,利用X射线光刻和微电镀技术复制厚度为1μm,占空比接近1∶1,高宽比为7的X射线透射光栅。整个工艺流程充分利用了电子束光刻技术制作高分辨率图形和X射线光刻技术制作大高宽比结构的优点,实现了大高宽比、纳米尺度、侧壁陡直的X射线透射光栅的制作。
柳龙华刘刚熊瑛黄新龙陈洁李文杰田金萍田扬超
关键词:电子束光刻X射线光刻
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