您的位置: 专家智库 > >

文献类型

  • 2篇学位论文
  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文
  • 1篇专利

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 2篇探测器
  • 2篇光电
  • 2篇光电探测
  • 2篇半导体
  • 2篇PBSE
  • 1篇导体
  • 1篇低维
  • 1篇性能研究
  • 1篇氧化镓
  • 1篇栅压
  • 1篇日盲
  • 1篇紫外探测
  • 1篇紫外探测器
  • 1篇响应度
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米材料
  • 1篇纳米材料制备
  • 1篇接触特性
  • 1篇金属
  • 1篇金属元素

机构

  • 5篇电子科技大学

作者

  • 5篇岳超
  • 2篇刘兴钊
  • 2篇王伟
  • 1篇褚夫同
  • 1篇陈进
  • 1篇周泓希
  • 1篇王军

传媒

  • 1篇电子元件与材...
  • 1篇第十届全国分...

年份

  • 2篇2023
  • 1篇2014
  • 2篇2013
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
半导体氧化镓与金属的接触特性研究
单斜结构的氧化镓是一种直接带隙的宽禁带氧化物半导体材料,其禁带宽度约为4.8 eV~4.9 eV,其吸收带边对应深紫外光波段,非常适合制作深紫外光学器件,同时,理论上其巴利加优值因子(εμEb3)仅次于金刚石,将成为功率...
岳超
关键词:半导体材料氧化镓金属元素接触特性
文献传递
β-Ga_2O_3薄膜的分子束外延生长及其紫外光敏特性研究被引量:5
2013年
采用分子束外延(MBE)方法在Al2O3(0001)基片上生长了β-Ga2O3薄膜,利用XRD、SEM和AFM对薄膜的结构和形貌特性进行了表征。制作了基于β-Ga2O3薄膜的金属-半导体-金属(MSM)结构紫外探测器并对其进行了电学特性测试,结果表明:在20 V偏压下,器件的暗电流为8 nA;在波长为254 nm、光照强度为13×10–6W/cm2的紫外光照射下,器件的光电流为624 nA;器件的光电流与暗电流比值为78,光响应度达360 A/W,表现出明显的日盲紫外光响应特性。
王伟褚夫同岳超刘兴钊
关键词:分子束外延日盲MSM紫外探测器光响应度
氧化镓薄膜的紫外光敏特性
本文采用分子束外延在(0001)取向的蓝宝石基片上生长p-GazOs薄膜,并初步研究了其光响应特性。Ga分子束流采用K-Cell提供,氧分子束流采用RF氧等离子体源产生。氧气流量为1sccm,射频源功率为300W,氧分压...
刘兴钊岳超王伟
关键词:宽禁带半导体
文献传递
一种低维PbSe-MoSe<Sub>2</Sub>光电探测器及其制备方法
本发明公开了一种低维PbSe‑MoSe<Sub>2</Sub>光电探测器及其制备方法,属于光电探测领域,包括衬底,衬底上制备有PbSe层,PbSe层上堆积有MoSe<Sub>2</Sub>层,进而形成PbSe‑MoSe<...
岳超王军周泓希吕部京都魏于超刘贤超陈进
PbSe纳米材料制备与光电探测性能研究
岳超
共1页<1>
聚类工具0