胡雪涛
- 作品数：4 被引量：22H指数：3
- 供职机构：华中科技大学光学与电子信息学院电子科学与技术系更多>>
- 发文基金：国家重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学一般工业技术更多>>
- 光波导用玻璃薄膜的制备及其性能研究被引量：11
- 2002年
- 采用磁控射频溅射法制备光波导用玻璃薄膜。本文重点分析了不同溅射条件如氧分压、基片种类、基片温度下制备的薄膜光学性能，通过比较，得到制备０．６３２８μｍ和１．５５μｍ窗口下光波导器件用玻璃薄膜所需溅射条件。
- 王浩敏李佐宜林更琪胡雪涛廖红伟
- 关键词：玻璃薄膜
- 磁编码器多极磁鼓空间磁场分布研究被引量：6
- 2001年
- 本文通过对磁编码器磁鼓空间磁场分布的理论计算和定性分析,找出场点位置、磁极数、磁层厚度和磁鼓形状等因素对磁场空间分布的影响,阐明在一定条件下,磁阻探头存在一最佳空间放置点。
- 廖红伟杨晓非蔡长波王浩敏胡雪涛
- 关键词：磁编码器
- 高矫顽力SmCo(Al,Si)/Cr薄膜的研究被引量：3
- 2001年
- 通过对磁控溅射条件的优化 ,制备出了较理想的 Sm Co(Al,Si) /Cr硬盘磁记录介质。退火处理后又得到较好的硬磁薄膜。结果指出 ,在 Sm含量 (摩尔分数 )为 31 .6% ,Cr缓冲层为 66nm,Sm(Co,Al,Si) 5磁性层为 30 nm的条件下 ,制得的 Sm(Co,Al,Si) 5/Cr薄膜的矫顽力 Hc 为 1 87.8k A/m,剩磁比 S =Mr/Ms≈ 0 .94。在 50 0℃退火 2 5min后 ,矫顽力 Hc 达到1 0 4 2 .5k A/m,剩磁比 S≈ 0 .92。
- 王翔李佐宜林更琪蔡长波胡雪涛李震LI Zhen
- 关键词：矫顽力磁性能磁控溅射
- 磁控射频溅射法制备光波导薄膜研究被引量：2
- 2001年
- 采用磁控射频溅射法制备了用作光波导器件的玻璃薄膜。通过选取不同的溅射材料，在不同溅射条件下制备的玻璃薄膜的光学参数进行的测量、比较，并对其作为光波导的性能进行研究，通过理论上推导与计算，得出了在１，５５ｕｍ窗口下制备光波导器件的玻璃薄膜所应具备的溅射条件。
- 胡雪涛李佐宜林更琪王浩敏廖红伟
- 关键词：玻璃薄膜磁控溅射
