廖红伟
- 作品数：10 被引量：47H指数：4
- 供职机构：华中科技大学光学与电子信息学院电子科学与技术系更多>>
- 发文基金：国家重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：电子电信化学工程自动化与计算机技术金属学及工艺更多>>
- 磁旋转编码器结构分析及其外围电路研究
- 该文围绕提高磁编码器的性能从理论和实践两个方面进行研究.理论上,结合磁场基本理论,计算得出了单磁极各表面的面磁荷密度和多磁极表露场的分布公式;运用MATLAB语言计算得出磁编码器空间磁场的三维分布曲线,同时分析了空间距离...
- 廖红伟
- 关键词：磁旋转编码器磁电阻效应电路设计
- 文献传递
- 基于磁旋转编码器定位控制系统的研究被引量：1
- 2003年
- 文章提出一种磁旋转编码器方法用于热连铸轧钢生产线从卷取机上卸载并输送带钢的小车测控。介绍磁旋转编码器测控系统的原理,包括:磁旋转编码器的工作原理、放大整形电路的设计、倍频电路的设计、单片机接口和测控软件的设计。该系统的特点是能抗恶劣环境、可靠性高、精确度高、结构简单、使用寿命长。
- 李震廖红伟杨晓非王浩敏王鲜然李佐宜
- 关键词：磁旋转编码器位置控制单片机
- 具有非磁性中间层的RE-TM双层垂直磁化膜耦合研究
- 2002年
- 研究了光调制直接重写磁光记录介质中存储层（TbFeCo）和写入层（DyFeCo）中加入TiN非磁性层后的耦合性能。当 TiN层为 3～21A,存储层和写入层层间交换耦合能密度为 0.2～0.3 erg/cm2,如果能精确控制 TiN的厚度,就可以控制层间耦合能,从而改善MO薄膜的读写特性。
- 王浩敏林更琪廖红伟彭烈涛李震王可
- 关键词：交换耦合磁光薄膜
- SmCo(Al,Si)/Cr薄膜磁性能的温度稳定性被引量：2
- 2001年
- 用磁控溅射方法结合高温退火的方法在玻璃基片上制备了一种高矫顽力 SmCo(Al,Si)/Cr结构的磁性薄膜，其矫顽力达到 385.48 kA/m(4844 Oe)。研究其在 15℃到 350℃的范围内的磁性能与温度的关系。发现矫顽力随温度单调减小，而剩磁随温度的增加开始是减少的，在 90℃左右达到极小值。然后随温度的增加，在 190℃附近达到极大值。随后温度继续增加，剩磁逐渐减小。
- 蔡长波王翔廖红伟王浩敏李震林更琪
- 关键词：矫顽力磁控溅射温度稳定性磁性薄膜
- 光波导用玻璃薄膜的制备及其性能研究被引量：11
- 2002年
- 采用磁控射频溅射法制备光波导用玻璃薄膜。本文重点分析了不同溅射条件如氧分压、基片种类、基片温度下制备的薄膜光学性能，通过比较，得到制备０．６３２８μｍ和１．５５μｍ窗口下光波导器件用玻璃薄膜所需溅射条件。
- 王浩敏李佐宜林更琪胡雪涛廖红伟
- 关键词：玻璃薄膜
- 磁编码器多极磁鼓空间磁场分布研究被引量：6
- 2001年
- 本文通过对磁编码器磁鼓空间磁场分布的理论计算和定性分析,找出场点位置、磁极数、磁层厚度和磁鼓形状等因素对磁场空间分布的影响,阐明在一定条件下,磁阻探头存在一最佳空间放置点。
- 廖红伟杨晓非蔡长波王浩敏胡雪涛
- 关键词：磁编码器
- 磁旋转编码器的发展及其应用被引量：18
- 2003年
- 论述了磁旋转编码器的结构、工作原理、磁鼓记录媒体和磁阻传感器的特性 ,介绍了磁旋转编码器的应用领域和使用功能 ,并对其发展前景进行了展望。指出随着磁旋转编码器的小型化、集成化发展和可靠性的提高 。
- 廖红伟杨晓非
- 关键词：磁旋转编码器磁鼓磁阻传感器
- 磁旋转编码器在测速系统中的应用被引量：3
- 2002年
- 给出一种以8051微型单片计算机为总体控制的磁旋转编码器测速系统,详细介绍了测速系统的磁头设计、放大整形电路设计、倍频电路设计、单片机控制及电显电路的设计和软件设计流程。
- 廖红伟杨晓菲李震王浩敏李佐宜
- 关键词：测速系统磁旋转编码器放大整形电路倍频电路单片机软件设计
- 磁控射频溅射法制备光波导薄膜研究被引量：2
- 2001年
- 采用磁控射频溅射法制备了用作光波导器件的玻璃薄膜。通过选取不同的溅射材料，在不同溅射条件下制备的玻璃薄膜的光学参数进行的测量、比较，并对其作为光波导的性能进行研究，通过理论上推导与计算，得出了在１，５５ｕｍ窗口下制备光波导器件的玻璃薄膜所应具备的溅射条件。
- 胡雪涛李佐宜林更琪王浩敏廖红伟
- 关键词：玻璃薄膜磁控溅射
- 铁电薄膜存储器底电极Pt/Ti的制备及性能研究被引量：6
- 2002年
- 应用射频磁控溅射方法 ,在Si基片上采用不同的溅射工艺制备了铁电薄膜底电极Pt/Ti,并分析了在不同温度下退火后材料的电导率性能和粘结力性能 ,从理论和实验上分析了不同的溅射工艺和退火处理对底电极性能的影响。
- 彭烈涛林更琪廖红伟李震李佐宜
- 关键词：铁电薄膜底电极电导率粘结力退火
