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王华

作品数:9 被引量:0H指数:0
供职机构:中国原子能科学研究院核物理研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学核科学技术自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 4篇会议论文

领域

  • 5篇理学
  • 3篇核科学技术
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 4篇同位素
  • 2篇加速器
  • 2篇AMS
  • 1篇电导
  • 1篇电导率
  • 1篇电子轰击
  • 1篇永久磁铁
  • 1篇真空系统
  • 1篇蒸发制备
  • 1篇质谱
  • 1篇质谱仪
  • 1篇寿命研究
  • 1篇输电梯
  • 1篇束流
  • 1篇束流测量
  • 1篇重离子
  • 1篇重离子束
  • 1篇自支撑
  • 1篇钛合金
  • 1篇温度分布

机构

  • 9篇中国原子能科...

作者

  • 9篇王华
  • 5篇樊启文
  • 4篇杨保君
  • 4篇苏胜勇
  • 4篇孟波
  • 4篇张榕
  • 3篇杨涛
  • 2篇刘德忠
  • 2篇游曲波
  • 2篇董克君
  • 2篇赵茁
  • 2篇杜英辉
  • 2篇何明
  • 2篇姜山
  • 2篇包轶文
  • 2篇李康宁
  • 2篇王晓飞
  • 2篇胡跃明
  • 1篇胡任威
  • 1篇杨丙凡

传媒

  • 4篇原子能科学技...
  • 2篇第九届全国高...
  • 1篇原子核物理评...
  • 1篇第十三届高功...

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2021
  • 1篇2018
  • 2篇2017
  • 2篇2014
  • 1篇2012
  • 1篇2010
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
聚焦重离子束溅射制备同位素靶的材料利用率及均匀性研究
2017年
研究了聚焦重离子束溅射制备同位素靶的材料利用率和均匀性。通过实验确定了两种溅射距离(7 mm和14 mm)下沉积靶的纵向和横向厚度分布,确定了提高靶均匀性的有效方法——基衬公转和沉积1/2厚度后基衬调头,确定了匹配材料利用率和均匀性的最佳几何参数。制备了5种同位素氧化物靶和9种高熔点金属同位素靶,应用于核物理测量实验。实验表明,源-衬距离为7 mm和14 mm时,在9 mm×10 mm成膜区域内,基衬中心距靶(源)材料水平界面垂直距离为9 mm和11 mm时可获得均匀的靶膜和最高的材料利用率。
樊启文杜英辉张榕王华
关键词:均匀性
类金刚石碳剥离膜的制备及其寿命研究
2024年
采用磁过滤阴极真空弧(FCVA)技术,结合交流碳弧(ACCA)技术和松弛技术,制备了~5μg/cm^(2)的自支撑类金刚石碳(DLC)剥离膜。采用XP2U电子天平测试DLC膜的均匀性。结果显示,在Φ100 mm范围内,DLC膜最大不均匀性为8.82%。采用扫描电子显微镜(SEM)、拉曼(Raman)谱仪和X光电子谱(XPS)仪测试分析DLC膜的微观结构。SEM图像显示,通过双90°过滤后的DLC膜表面光滑,基本不含液滴。Raman光谱显示,DLC膜为典型的非晶DLC膜。XPS能谱显示,DLC膜中的sp^(3)杂化键超过70%。通过北京HI-13串列加速器提供的系列重离子束测试研究DLC剥离膜的寿命。结果显示,松弛后的DLC剥离膜寿命约为松驰前的3倍;对于^(63)Cu^(-)和^(197)Au^(-)离子束(加速电压9 MV、低能端流强1μA),DLC剥离膜寿命分别为碳弧碳剥离膜寿命的4倍和13倍;对于^(107)Ag^(-)、^(70)Ge^(-)、^(48)Ti^(-)、^(28)Si^(-)和^(127)I^(-)离子束,DLC剥离膜寿命为碳弧碳剥离膜寿命的2.6~10.0倍,并且离子越重、束流越强,DLC剥离膜的寿命对比碳弧碳剥离膜寿命的优势就越大;DLC剥离膜寿命与基衬偏压有一定关系,目前的测试结果显示,随基衬偏压的加大,剥离膜寿命呈现先升高后降低的大概趋势,-400 V左右的基衬偏压下DLC剥离膜寿命最长。
樊启文孟波王华张榕
真空中运动部件非接触驱动装置
永久磁铁耦合力驱动在真空中的部件,起到与波纹管相同的作用。在各类加速器真空系统中有很多需要运动的部件或装置,如束流测量用的法拉第筒,限束用的光栏,用于观察束斑的石英靶或荧光靶,物理实验的材料靶等等,驱动装置通常都放置在真...
苏胜勇杨丙凡王华杨保君杨涛
关键词:法拉第筒加速器真空系统束流测量
钛合金输电梯的研制
本文对我们在研制钛合金输电梯过程中,在铸造和机加工中遇到的一些问题和解决方法,以及后来在加速器上试验过程中出现的状况进行了阐述。输电梯是HI-13 串列加速器充电系统的关键设备,它的作用是将电荷由地电位源源不断的带到头部...
苏胜勇王华杨保君
关键词:输电梯钛合金电导率
文献传递
小型AMS质谱仪研制
加速器质谱(accelerator mass spectrometry,简称AMS)诞生于上世纪70年代末,其是基于加速器和离子探测器的一种高能质谱,它克服了传统质谱存在的分子本底和同量异位素本底干扰的限制,对同位素丰度...
包轶文杨保君刘德忠王晓飞杨涛赵茁苏胜勇姜山游曲波李康宁王华胡跃明董克君何明
关键词:加速器质谱系统设计同位素精度控制
基于高压型加速器的小型AMS控制系统的设计
本文论述了一种专门用于质谱分析的小型高压型加速器控制系统的设计.论文首先介绍了本控制系统的整体概况和其中的难点,接着从网络架构、控制系统软硬件设计以及可靠性以等方面进行了重点阐述.该控制系统下位机采用西门子S7-300P...
李康宁杨涛王晓飞马征宇胡任威何明董克君赵茁游曲波包轶文苏胜勇胡跃明姜山杨保君刘德忠王华
关键词:控制系统稳定性
文献传递
同位素^(10)B靶的制备
2021年
为准确测量^(10)B(n,α)7Li和^(10)B(n,t2α)的反应截面,需制备质量厚度为50~350μg/cm^(2)的^(10)B靶。本文系统研究了同位素^(10)B靶的制备工艺,确定了“压片-烧结-蒸发”三步法制备^(10)B靶。研究了基片温度对^(10)B膜生长过程、结构和膜基结合力的影响,测试和分析了^(10)B靶的不均匀性。结果表明,利用间歇式静电聚焦微调电子轰击法制备同位素^(10)B靶,蒸发速率应低于0.02μg/(cm^(2)·s);灯丝平面与^(10)B柱的最佳距离为10.5~11 mm;生长的^(10)B膜随基片温度的升高而致密并逐步结晶,膜基结合力也更好,最佳基片温度约为300℃。对于尺寸为∅80 mm同位素^(10)B靶的制备,不均匀性可控制在10%以内。已经成功在Ta和Al基片上制备了厚度<350μg/cm^(2)的^(10)B靶用于核物理实验测量。
樊启文王华孟波
关键词:电子轰击基片温度
超短源-衬距离衬底转动蒸发制备自支撑同位素靶的技术研究
2017年
研究了超短源-衬距离衬底转动蒸发制备自支撑同位素靶的技术。通过计算不同条件下衬底转动蒸发沉积的靶膜厚度分布、材料利用率及不均匀性,确定了最佳的源-衬距离和源-轴距离的匹配值。研究了蒸发舟材料、蒸发时间和蒸发距离对沉积靶膜的影响。实验表明,制备10mm的靶时,对于熔点分别为100~600、700~1 200、1 300~1 600和1 600~1 900℃的材料,合适的源-衬距离分别为13、15、20和25mm,对应的源-轴距离分别为12.5、13.0、14.5和16.0mm。
孟波樊启文杜英辉张榕王华
关键词:不均匀性
高功率CaO/W/RVCF复合靶的设计与制备
2018年
为利用质子轰击40 Ca靶产生放射性核束37 K,本文系统研究了40 Ca靶的设计、制备和模拟的全过程。综合考虑反应截面、靶材料的丰度、熔点、蒸汽压和短扩散路径等,确定选择CaO作为靶材料,高孔隙率的网状玻璃碳纤维(RVCF,reticulated vitreous carbon fiber)作为基衬材料。采用PC(paint coating)法将CaO材料沉积在RVCF基衬上,为防止高温下CaO与RVCF发生化学反应并降低靶材料的抗高温性能,在沉积CaO靶材料前采用CVD(chemical vapour deposition)法对RVCF基材沉积1层1~2μm厚的W保护层。根据质子束轰击复合靶的能损计算与分析结果,设计了靶室筒内装入厚靶的结构和靶室筒的散热结构。最后采用Comsol计算程序模拟分析了靶及靶室的温度分布,得出了此厚靶在75 MeV质子束入射时能承受的最大束流功率为7.5kW。
樊启文王华张榕孟波
关键词:放射性核束温度分布
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