2024年7月9日
星期二
|
欢迎来到维普•公共文化服务平台
登录
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
胡利民
作品数:
1
被引量:4
H指数:1
供职机构:
四川大学建筑与环境学院
更多>>
发文基金:
国家自然科学基金
更多>>
相关领域:
金属学及工艺
更多>>
合作作者
李明军
湘潭大学数学与计算科学学院
高太元
湘潭大学数学与计算科学学院
高智
中国科学院力学研究所
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
1篇
中文期刊文章
领域
1篇
金属学及工艺
主题
1篇
数值模拟
1篇
离心力
1篇
流场
1篇
化学机械抛光
1篇
机械抛光
1篇
CMP
1篇
值模拟
机构
1篇
四川大学
1篇
湘潭大学
1篇
中国科学院力...
作者
1篇
高智
1篇
高太元
1篇
胡利民
1篇
李明军
传媒
1篇
力学学报
年份
1篇
2008
共
1
条 记 录,以下是 1-1
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
CMP流场的数值模拟及离心力影响分析
被引量:4
2008年
化学机械抛光(chemical mechanical polishing,CMP)是一项融合化学分解和机械力学的工艺,其中包含了流体动力润滑的作用.在已有润滑方程的基础上,提出并分析了带有离心力项的润滑方程.利用Chebyshev加速超松弛技术对有离心力项的润滑方程进行求解,得到离心力对抛光液压力分布的影响.数值模拟结果表明,压力分布与不带离心力项的润滑方程得出的明显不同;无量纲载荷和转矩随中心膜厚、转角、倾角、抛光垫旋转角速度等参数的变化趋势相同,但数值相差较大,抛光垫旋转角速度越大差别越大.
高太元
李明军
胡利民
高智
关键词:
化学机械抛光
离心力
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张