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文献类型

  • 4篇专利
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  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇理学

主题

  • 3篇单晶
  • 3篇晶体
  • 2篇氮化
  • 2篇氮化钛
  • 2篇氮化镓
  • 2篇氮化镓材料
  • 2篇点缺陷
  • 2篇异质结
  • 2篇异质结构材料
  • 2篇施主
  • 2篇受主
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  • 2篇碳化硅单晶
  • 2篇晶体质量
  • 2篇光催化
  • 2篇光催化分解
  • 2篇光催化分解水
  • 2篇光催化还原
  • 2篇硅单晶
  • 2篇分解水

机构

  • 6篇中国科学院

作者

  • 6篇刘宇
  • 4篇陈小龙
  • 4篇王刚
  • 3篇彭同华
  • 3篇刘春俊
  • 2篇李龙远
  • 2篇白雪冬
  • 2篇王文龙
  • 1篇宋波
  • 1篇郭钰
  • 1篇贾玉萍
  • 1篇黄青松
  • 1篇王波
  • 1篇郭丽伟

传媒

  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇第15届全国...

年份

  • 1篇2022
  • 1篇2021
  • 1篇2015
  • 2篇2012
  • 1篇2009
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
氮化钛/氮化镓异质结构材料及其制备方法和应用
本发明提供一种制备氮化钛/氮化镓异质结构材料的方法。本发明还提供一种本发明的方法制备的氮化钛/氮化镓异质结构材料,其中,所述氮化钛/氮化镓异质结构材料的形状为一维多孔纳米棒状,并且所述一维多孔纳米棒的长径比为1.5:1‑...
刘宇王文龙张晓伟逯丽莎赵昱白雪冬
文献传递
宽禁带半导体碳化硅单晶生长和物性研究进展被引量:14
2012年
本文介绍了最近几年在SiC单晶生长和晶片加工技术产业化进程中的系列进展。研究出SiC单晶生长的扩径技术,4英寸SiC晶体单晶直径达105 mm。晶体质量逐步提高,至2011年,大部分晶片微管密度小于1个/cm2,反映晶体结晶质量的X射线摇摆曲线半高宽小于20″;生长的导电型SiC晶体电阻率小于0.02Ω.cm,半绝缘型SiC晶体电阻率大于108Ω.cm,电阻率分布均匀性良好。研究出即开即用SiC晶片批量加工技术,晶片表面粗糙度低于0.2 nm,翘曲度和总厚度变化满足工业化批量生产要求。与此同时,在基础物性研究方面也取得了系列研究成果。首次在实验上给出了直接证据证明SiC晶体中的双空位能够诱导出磁性,并从理论上予以证明。利用多种方法在SiC衬底上成功制备出大面积、高质量、性能优异的石墨烯。
彭同华刘春俊王波王锡铭郭钰赵宁李龙远刘宇黄青松贾玉萍王刚郭丽伟陈小龙
关键词:SIC晶体单晶生长晶片加工磁性
Al掺杂SiC的磁性研究
稀磁半导体(Diluted Magnetic Semiconductors,DMSs)同时利用电子的电荷属性和自旋属性,具有新颖而独特的性质,是自旋电子学的材料基础,已成为当前国际材料研究领域中的热点。2000年,Die...
王刚宋波刘宇彭同华陈小龙
文献传递
氮化钛/氮化镓异质结构材料及其制备方法和应用
本发明提供一种制备氮化钛/氮化镓异质结构材料的方法。本发明还提供一种本发明的方法制备的氮化钛/氮化镓异质结构材料,其中,所述氮化钛/氮化镓异质结构材料的形状为一维多孔纳米棒状,并且所述一维多孔纳米棒的长径比为1.5:1‑...
刘宇王文龙张晓伟逯丽莎赵昱白雪冬
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半绝缘碳化硅单晶
公开了一种半绝缘碳化硅单晶,包括本征点缺陷、深能级掺杂剂、本底浅施主和受主杂质;其中所述深能级掺杂剂和本征点缺陷的浓度之和大于浅施主和浅受主杂质浓度之间差值,且所述本征点缺陷的浓度小于深能级掺杂剂的浓度。该半绝缘碳化硅单...
陈小龙刘春俊彭同华李龙远王刚刘宇
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半绝缘碳化硅单晶
公开了一种半绝缘碳化硅单晶,包括本征点缺陷、深能级掺杂剂、本底浅施主和受主杂质;其中所述深能级掺杂剂和本征点缺陷的浓度之和大于浅施主和浅受主杂质浓度之间差值,且所述本征点缺陷的浓度小于深能级掺杂剂的浓度。该半绝缘碳化硅单...
陈小龙刘春俊彭同华李龙远王刚刘宇
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共1页<1>
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