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曹永辉

作品数：10 被引量：0H指数：0
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司更多>>
相关领域：理学机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 9篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 4篇蒸发
  • 4篇蒸发系统
  • 4篇传动
  • 4篇传动装置
  • 3篇动力机构
  • 3篇真空蒸发器
  • 3篇基片
  • 2篇陶瓷
  • 2篇产能
  • 1篇支撑杆
  • 1篇视像
  • 1篇翘曲
  • 1篇翘曲变形
  • 1篇装载
  • 1篇芯片
  • 1篇刻蚀
  • 1篇刻蚀设备
  • 1篇机器视觉
  • 1篇溅射
  • 1篇光刻

机构

  • 10篇杭州士兰集成...
  • 1篇杭州电子科技...
  • 1篇杭州诺荣测控...

作者

  • 10篇曹永辉
  • 7篇孙福河
  • 1篇王勇

传媒

  • 1篇电子工业专用...

年份

  • 2篇2020
  • 1篇2019
  • 1篇2018
  • 6篇2015
共 10 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
沉积蒸发系统及沉积蒸发传动装置
本实用新型涉及一种沉积蒸发系统以及沉积蒸发系统的传动装置，沉积蒸发系统用于对基片进行倾斜蒸发沉积，包括动力机构、沉积蒸发传动装置和真空蒸发器，所述动力机构与所述沉积蒸发传动装置相连接，用于驱动所述沉积蒸发传动装置转动；所...
乐仲孙福河闻永祥曹永辉
文献传递
陶瓷环
1.本外观设计产品的名称：陶瓷环。;2.本外观设计产品的用途：用于半导体刻蚀设备的腔室中，起芯片周向固定作用。;3.本外观设计产品的设计要点：在于产品的整体形状。;4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图。;5.设...
曹永辉都二华
倾斜角沉积蒸发传动装置
1、本外观设计产品的名称：倾斜角沉积蒸发传动装置。;2、本外观设计产品用途：用于倾斜角沉积蒸发系统（一种蒸发制备薄膜的设备，又称蒸发台）中对基片的承载和传动。;3、本外观设计产品的设计要点在于外观设计产品的形状。;4、最...
乐仲孙福河闻永祥曹永辉
文献传递
一种陶瓷环和半导体刻蚀设备
本申请公开了一种陶瓷环和半导体刻蚀设备，包括陶瓷环本体以及设置于陶瓷环主体的内圈上的压片结构，压片结构包括与芯片的上表面接触的接触表面，以实现芯片的周向固定，可有效解决在反溅射时因芯片翘曲变形引起的反溅射均匀性较差以及芯...
曹永辉都二华
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沉积蒸发系统
本发明涉及一种沉积蒸发系统，用于对基片进行倾斜蒸发沉积，包括动力机构、沉积蒸发传动装置和真空蒸发器，所述动力机构与所述沉积蒸发传动装置相连接，用于驱动所述沉积蒸发传动装置转动；所述真空蒸发器位于所述沉积蒸发传动装置的下方...
乐仲孙福河闻永祥曹永辉
文献传递
基片载具
1、本外观设计产品的名称：基片载具。;2、本外观设计产品用途：用于在倾斜角蒸发沉积系统（一种蒸发制备薄膜的设备，又称蒸发台）中安装基片并驱动基片转动。;3、本外观设计产品的设计要点在于外观设计产品的形状。;4、最能表明设...
乐仲孙福河闻永祥曹永辉
一种基片载具
本实用新型涉及一种基片载具，用于蒸发沉积系统中，对基片进行装载，所述基片载具包括滚轮、支撑杆和支撑基座，所述滚轮和支撑基座分别连接在所述支撑杆的两端，所述支撑基座用于放置基片，所述滚轮用于在轨道上滚动。本实用新型提供的基...
乐仲孙福河闻永祥曹永辉
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光刻机视像自动对准系统的开发
2019年
设计视像自动对准系统采用工业相机从MICRALIGN M系列投影式光刻机的双目显微镜提取含有掩模对准标记和晶圆对准标记图像,经过图像处理后获取对准标记的位置坐标以及掩模标记与晶圆标记间坐标差,控制晶圆或者掩模调整平台位置,实现光刻机的视像自动对准功能。经过现场批量生产验证,视像自动对准系统的对准精度优于1μm。标记识别率与掩模和晶圆的图像有关,对于某类产品标记识别率达到99%以上,一般类别产品标记识别率可以达到97%以上,可以满足现场自动化生产要求。
王勇王勇陈旭东曹永辉
关键词：光刻机视像机器视觉
倾斜角沉积蒸发系统
1、本外观设计产品的名称：倾斜角沉积蒸发系统。;2、本外观设计产品用途：作为蒸发镀膜的设备，用于薄膜的生产，尤其适合在基片上制备具有倾斜角纳米结构的薄膜。;3、本外观设计产品的设计要点在于外观设计产品的形状。;4、最能表...
乐仲孙福河闻永祥曹永辉
沉积蒸发系统及沉积蒸发传动装置
本发明涉及一种沉积蒸发系统以及沉积蒸发系统的传动装置，沉积蒸发系统用于对基片进行倾斜蒸发沉积，包括动力机构、沉积蒸发传动装置和真空蒸发器，所述动力机构与所述沉积蒸发传动装置相连接，用于驱动所述沉积蒸发传动装置转动；所述真...
乐仲孙福河闻永祥曹永辉
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