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董文甫
作品数:
5
被引量:1
H指数:1
供职机构:
中国科学院半导体研究所
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发文基金:
国家高技术研究发展计划
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相关领域:
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合作作者
杨沁清
中国科学院物理研究所
周钧铭
中国科学院物理研究所
王启明
中国科学院半导体研究所
崔堑
中国科学院物理研究所
黄绮
中国科学院物理研究所
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锗硅合金半导体中无声子参与光跃迁机制研究
1996年
研究了Si1-xGex合金半导体中无声子参与光跃迁的产生机制,对由杂质无规分布引起的无声子参与光跃迁给出了一个物理模型。用此模型计算了光跃迁偶极矩,给出了跃迁偶极矩的上限。提出了未掺杂Si1-xGex合金半导体中无声子参与光跃迁的一种跃迁机制。
董文甫
董文甫
杨沁清
关键词:
锗硅合金
半导体
光跃迁
应变(Ge)_5/(Si)_5超晶格的光学增益
1995年
本文采用具有驰豫展宽的半导体激光器密度矩阵理论计算了(Ge)5/(Si)5超晶格的线性光增益和异质结激光器的国值电流密度,从理论上定量地比较了(Ge)5/(Si)5超晶格和GaAs体材料的线性光增益和阈值电流密度.
董文甫
王启明
关键词:
超晶格
光增益
SiGe/Si量子阱的低温光荧光和电注入发光
1996年
使用Si-MBE生长了阶梯形折射率分布SiGe/Si量子阱材料,在低温下观测到无声子参与的光荧光和电注入发光.阶梯形折射率分布SiGe/Si电子阱结构有利于提高发光效率.讨论了这种结构的光学和电学特性.
董文甫
王启明
杨沁清
崔堑
周钧铭
黄绮
关键词:
光荧光
锗化硅
半导体
Si1-xGex/Si异质结光学性质研究
董文甫
关键词:
半导体材料
半导体量子阱
超晶格
Si非平面衬底上SiGe/Si量子阱的光致发光特性
被引量:1
1997年
采用一种晶向性腐蚀方法,在(100)Si平面衬底上腐蚀得到一种非平面结构,经SiGeMBE外延后,从SEM照片上可以看出,SiGe外延层是一种量子点、线和阱的混合结构.非平面结构上的SiGe层的发光强度为平面结构上的8~10倍.从SiGe层内发出的发光强度占样品总发光强度的96%,且m≈1.1的值表明外延层的质量及时载流子的收集效率是高的.随着激发功率的增加,可以看到PL谱的蓝移.
杨沁清
钱毅
董文甫
王启明
崔堑
黄绮
周钧铭
关键词:
硅
光致发光
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