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魏景峰

作品数：10 被引量：0H指数：0
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司更多>>
相关领域：自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 10篇中文专利

领域

  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 5篇半导体
  • 4篇晶片
  • 3篇立式
  • 3篇进气
  • 3篇滑移
  • 3篇硅片
  • 2篇凸台
  • 2篇良品率
  • 1篇灯组
  • 1篇氧量
  • 1篇双晶
  • 1篇排气
  • 1篇排气法
  • 1篇排气装置
  • 1篇喷洒
  • 1篇气密
  • 1篇气体
  • 1篇轴承
  • 1篇外延层
  • 1篇斜坡

机构

  • 10篇北京七星华创...

作者

  • 10篇魏景峰
  • 4篇赵燕平
  • 4篇赵星梅
  • 3篇刘东
  • 3篇龙睿芬
  • 3篇董金卫
  • 3篇李一吾
  • 2篇兰云峰
  • 1篇潘龙
  • 1篇白鹏
  • 1篇王丽荣
  • 1篇刘俊豪

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2014
  • 4篇2013
  • 3篇2011
  • 1篇2010
共 10 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
用于半导体热处理设备的立式晶舟支撑件
本发明涉及半导体生产装置领域。本发明的一种用于半导体热处理设备的立式晶舟支撑件，其中，所述支撑件为薄型圆环形结构，所述圆环的上表面有环形凹槽，所述圆环的直径大于或等于晶片的直径。本发明提供了提供一种辅助晶舟支撑晶片的支撑...
董金卫魏景峰赵燕平赵星梅
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用于半导体热处理设备的立式晶舟
本发明涉及半导体生产装置领域。本发明的一种用于半导体热处理设备的立式晶舟，包括上下圆盘以及圆盘之间的连接立柱，其中，所述连接立柱为3根或3根以上，所述连接支柱之间固定有多层条状凸台，所述凸台相互平行，且上表面处于同一水平...
赵星梅董金卫魏景峰赵燕平
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一种可调节的红外线灯组及加热装置
本实用新型公开了一种可调节的红外线灯组，涉及半导体工艺技术领域。所述灯组包括：固定管、加热器、角度调节架、纵向调节架；固定管固定在外延腔室内；加热器设置在固定管的内部；角度调节架的中部连接加热器，下部滑动连接纵向调节架的...
魏景峰刘东龙睿芬李一吾
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原子层沉积设备
1.本外观设计产品的名称：原子层沉积设备。;2.本外观设计产品的用途：利用原子层沉积技术制备薄膜。;3.本外观设计的设计要点：在于产品的整体形状及用管道连接的两机箱分体结构。;4.本外观设计为大型设备,底面不常见，故省略...
刘东魏景峰李一吾龙睿芬
一种密封装置
本实用新型公开了一种密封装置，包括反应腔室、位于反应腔室两端的进气法兰组件、排气法兰组件以及关节轴承，所述进气法兰组件与反应腔室之间设有密封圈，所述排气法兰组件与反应腔室的接触面之间设有密封圈，所述排气法兰组件与所述关节...
魏景峰李一吾龙睿芬刘东
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用于半导体反应室的进气装置
本实用新型提供一种用于半导体反应室的进气装置，该进气装置包括进气法兰(1)、固定法兰(2)、MFC(3)、第一密封圈(4)、第二密封圈(5)和气流调节板(6)；固定法兰(2)通过第一密封圈(4)与进气法兰(1)气密连接，...
魏景峰兰云峰刘俊豪
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一种用于原子层薄膜沉积的反应源进气装置
本实用新型涉及原子层薄膜沉积技术领域，具体涉及了一种用于原子层薄膜沉积的反应源进气装置，包括第一反应源进气管、第二反应源进气管和反应源分散块，反应源分散块底部连通有多个竖直设置的第一反应源弥散管和第二反应源弥散管，第一反...
潘龙魏景峰
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一种用于制造半导体器件的氧化装置
本实用新型提供了一种用于制造半导体器件的氧化装置，包括：炉体；位于炉体内的工艺管；位于工艺管内的承载石英舟；控制承载石英舟升降的升降控制部；位于升降控制部下用于保持工艺管内部温度的保温桶；位于工艺管底部的炉门；通过炉门与...
魏景峰王丽荣兰云峰白鹏
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用于半导体热处理设备的立式晶舟
本发明涉及半导体生产装置领域。本发明的一种用于半导体热处理设备的立式晶舟，包括上下圆盘以及圆盘之间的连接立柱，其中，所述连接立柱为3根或3根以上，所述连接支柱之间固定有多层条状凸台，所述凸台相互平行，且上表面处于同一水平...
赵星梅董金卫魏景峰赵燕平
晶片承载移动装置
本实用新型涉及热处理装置领域。本实用新型的一种立式热处理装置，包括双晶舟，其中，还包括处理腔，所述处理腔内安装有舟移载机构，所述舟分别放置在所述舟移载机构的两端。本实用新型提高了硅片处理的工艺效率，减少了等待时间，提高了...
赵星梅魏景峰赵燕平
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