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贾松

作品数：3 被引量：1H指数：1
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇衬底
  • 1篇电子工艺
  • 1篇氧化层
  • 1篇气体
  • 1篇气体流量
  • 1篇清洗技术
  • 1篇外延层
  • 1篇外延炉
  • 1篇外延片
  • 1篇微电子
  • 1篇微电子工艺
  • 1篇稳定性
  • 1篇氯化
  • 1篇氯化氢
  • 1篇氯化氢气体
  • 1篇硅衬底
  • 1篇本征
  • 1篇变流量
  • 1篇P

机构

  • 3篇河北普兴电子...

作者

  • 3篇贾松
  • 2篇陈秉克
  • 2篇赵丽霞
  • 2篇袁肇耿
  • 2篇薛宏伟
  • 2篇张志勤
  • 1篇吴会旺

传媒

  • 1篇科技风

年份

  • 2篇2017
  • 1篇2015
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
P+衬底上本征层的生长方法
本发明公开了一种P+衬底上本征层的生长方法，涉及本征层的生长方法技术领域。所述方法包括如下步骤：在P+衬底上生长10微米的第一本征硅层，在第一本征硅层的上表面外延生产第一外延层，外延后清洗表面消除第一外延层表面的氧化层；...
侯志义陈秉克赵丽霞袁肇耿薛宏伟张志勤贾松任丽翠
文献传递
提高外延片片内电阻率均匀性的方法
本发明公开了一种提高外延片片内电阻率均匀性的方法，涉及硅衬底外延层的制作方法技术领域。所述方法包括如下步骤：利用高纯度的氯化氢气体在高温下对外延炉基座进行腐蚀；向外延炉基座片坑内装入硅衬底片，外延炉升温过程中利用高纯度的...
贾松张绪刚陈秉克赵丽霞袁肇耿薛宏伟侯志义张志勤吴会旺周晓龙
文献传递
论微电子工艺中的清洗技术现状及展望被引量：1
2015年
在当前电子工艺的发展尤其是微电子方向的发展使得微电子工艺中的清洗技术也变得越来越受重视起来。微电子工艺受各方面条件影响因而会在其中产生比较多的污染物,并且这些污染物很可能会对电子产品的功能质量产生极大影响,所以有效的采用合理的清洗技术才能更好的保障相关元件质量,广阔的市场需求也说明了微电子工艺中的清洗技术在未来会有一个良好的发展。
贾松
关键词：电子工艺清洗技术
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