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文献类型

  • 9篇中文专利

主题

  • 4篇溅射
  • 4篇靶材
  • 2篇电极
  • 2篇阳极
  • 2篇阴极
  • 2篇显示装置
  • 2篇绝缘
  • 2篇绝缘层
  • 2篇刻蚀
  • 2篇基板
  • 2篇溅射设备
  • 2篇构图
  • 2篇光刻
  • 2篇光刻胶
  • 2篇背板
  • 2篇衬底
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇电连接
  • 1篇电源

机构

  • 9篇北京京东方光...
  • 6篇京东方科技集...

作者

  • 9篇杜晓健
  • 4篇张鹏举
  • 2篇张峰
  • 2篇陈岩
  • 1篇李晓飞
  • 1篇高博
  • 1篇陈晓斌
  • 1篇王浩

年份

  • 2篇2018
  • 1篇2016
  • 2篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 2篇2012
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
一种阵列基板及其制作方法、显示装置
本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,能够减少阵列基板的制备过程中所采用的构图工艺的次数。其中,所述阵列基板包括衬底基板以及层叠设置于衬底基板上的栅极、栅极绝缘层和有源层,还包括设置于有源层上...
张鹏举杜晓健徐斌
文献传递
一种溅射设备
本实用新型公开了一种溅射设备,包括真空腔体,所述真空腔体内有清洁装置,所述清洁装置包括:空间移动导轨、滑轮组、滑轮驱动马达、静电发生器、静电吸尘器、打磨装置、打磨装置驱动马达;其中,空间移动导轨设置在溅射设备真空腔体内;...
陈岩杜晓健陈晓斌
文献传递
阵列基板的制备方法
本发明公开了一种阵列基板的制备方法,包括:在衬底基板的上方形成栅极和栅线;在栅极和栅线上方形成栅绝缘层;在栅绝缘层上形成像素电极;在栅绝缘层上位于非显示区域内且对应栅线的位置形成第一连接孔,第一连接孔以供扫描信号走线与栅...
张鹏举杜晓健高博叶晗
文献传递
磁控溅射设备及磁控溅射方法
本发明公开一种磁控溅射设备及磁控溅射方法,涉及磁控溅射技术领域,可检测到部分靶材是否被耗尽,从而能够根据实际情况对靶材进行更换,提高了靶材的实际利用率。该磁控溅射设备包括:一密封腔室以及设置于所述密封腔室中且相对设置的阳...
张峰杜晓健辛旭李岩
文献传递
一种阵列基板及其制作方法、显示装置
本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,能够减少阵列基板的制备过程中所采用的构图工艺的次数。其中,所述阵列基板包括衬底基板以及层叠设置于衬底基板上的栅极、栅极绝缘层和有源层,还包括设置于有源层上...
张鹏举杜晓健徐斌
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一种真空溅射设备
本实用新型涉及真空镀膜领域,尤其是一种真空溅射设备,包括:真空腔体;基板和靶材,和位移测量装置。靶材在对基板进行镀膜的工作过程中会逐渐消耗,靶材板的厚度会逐渐变薄,通过在真空溅射设备内部设置位移测量装置,在真空溅射设备停...
王浩杜晓健李晓飞
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一种磁控溅射靶与磁控溅射设备
本实用新型公开了一种磁控溅射靶,包括背板及设置在背板的靶材,所述靶材下方设有突起部,用以防止突起部对应的靶材部分被击穿,在所述背板的朝向所述靶材的表面上设有凹槽,所述凹槽与所述靶材上设置的突起部相匹配。本实用新型通过改变...
陈岩杜晓健高博
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阵列基板的制备方法
本发明公开了一种阵列基板的制备方法,包括:在衬底基板的上方形成栅极和栅线;在栅极和栅线上方形成栅绝缘层;在栅绝缘层上形成像素电极;在栅绝缘层上位于非显示区域内且对应栅线的位置形成第一连接孔,第一连接孔以供扫描信号走线与栅...
张鹏举杜晓健高博叶晗
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磁控溅射设备及磁控溅射方法
本发明公开一种磁控溅射设备及磁控溅射方法,涉及磁控溅射技术领域,可检测到部分靶材是否被耗尽,从而能够根据实际情况对靶材进行更换,提高了靶材的实际利用率。该磁控溅射设备包括:一密封腔室以及设置于所述密封腔室中且相对设置的阳...
张峰杜晓健辛旭李岩
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共1页<1>
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