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郭猛

作品数:22 被引量:3H指数:1
供职机构:中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学机械工程化学工程更多>>

文献类型

  • 17篇专利
  • 5篇期刊文章

领域

  • 4篇电子电信
  • 2篇化学工程
  • 2篇机械工程
  • 2篇理学
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇轻工技术与工...

主题

  • 6篇镀膜
  • 5篇宽带
  • 5篇激光
  • 5篇光学
  • 5篇红外
  • 4篇中红外
  • 3篇元件
  • 3篇膜系
  • 3篇光刻
  • 3篇光学镀膜
  • 3篇红外窗口
  • 3篇波段
  • 2篇带通滤光片
  • 2篇单层膜
  • 2篇电子束
  • 2篇镀膜材料
  • 2篇镀膜技术
  • 2篇掩模
  • 2篇应力
  • 2篇应力时效

机构

  • 22篇中国科学院上...
  • 4篇中国科学院大...

作者

  • 22篇郭猛
  • 10篇易葵
  • 9篇邵建达
  • 8篇朱美萍
  • 6篇李大伟
  • 6篇王胭脂
  • 5篇邵淑英
  • 5篇赵元安
  • 5篇刘晓凤
  • 5篇李静平
  • 4篇柯立公
  • 4篇贺洪波
  • 4篇何骏
  • 4篇赵娇玲
  • 3篇刘世杰
  • 3篇胡国行
  • 3篇王斌
  • 3篇柴英杰
  • 2篇晋云霞
  • 2篇张雷

传媒

  • 2篇中国激光
  • 1篇红外
  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇凝聚态物理学...

年份

  • 2篇2021
  • 7篇2020
  • 1篇2017
  • 5篇2016
  • 6篇2015
  • 1篇2014
22 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种中红外宽带高反射超快激光薄膜
本发明提出一种中红外宽带高反射超快激光薄膜,其结构由下而上分别是基底材料G,过渡层M<Sub>1</Sub>,金属膜层M,过渡层M<Sub>2</Sub>,啁啾介质膜系C,空气层A。本发明的目的是为了扩宽中红外色散镜的反...
王胭脂张宇晖陈瑞溢郭可升王志皓朱美萍郭猛朱晔新晋云霞易葵贺洪波邵建达
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一种中波红外增透膜设计及制备方法
本发明公开了一种中波红外增透膜设计及制备方法,包括步骤:膜系设计,基片清洗,基片加热,膜系镀制。基片材料为折射率为1~5的红外窗口玻璃,高折射率镀膜材料的折射率为1.5~3,低折射率镀膜材料的折射率为1~1.5,使用离子...
郭猛贺洪波易葵邵淑英朱美萍
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插片式可调激光衰减装置
一种插片式可调激光衰减装置,包括固定在底座上的同光轴的依次的第一通光孔、第一微调衰减镜架对、第一固定衰减镜架、第二微调衰减镜架对、第二固定衰减镜架、第三微调衰减镜架对和第二通光孔;第一通光孔和第二通光孔分别位于底座的两端...
李大伟符燕燕赵元安柯立功郭猛张雷
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一种宽带深截止红光荧光滤光片
一种宽带深截止红光荧光滤光片,由下而上依次由600nm带通滤光片、350-410nm High reflectivity(HR)长波通滤光片、450-500nmHR长波通滤光片和短波通滤光片胶合而成。本发明通过一定的胶合...
王胭脂陈宇易葵郭猛齐红基邵建达
一种短波宽带截止中波透过膜设计及制备方法
本发明公开了一种短波宽带截止中波透过膜设计及制备方法,包括步骤:膜系设计,基片清洗,基片加热,膜系镀制。基片材料为折射率为1~5的红外窗口玻璃,高折射率镀膜材料的折射率为3~5,中等折射率镀膜材料的折射率为1.5~3,低...
郭猛贺洪波易葵邵淑英胡国行李静平朱美萍
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提升电子束蒸镀薄膜元件的光谱和应力时效稳定性的镀膜方法
采用常规电子束蒸镀和等离子体辅助沉积相结合的技术,提出一种提升电子束蒸镀薄膜元件光谱和应力时效稳定性的镀膜技术。利用常规电子束蒸镀技术制备功能性薄膜,以获得较高的抗激光损伤阈值;利用等离子体辅助沉积技术制备致密的外层包裹...
邵建达曾婷婷朱美萍李静平宋晨赵娇玲郭猛胡国行
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紫外光刻二维平台
一种紫外光刻二维平台,该平台包括底板、立板、L形托板、深沟轴承、锁母、轴承盖、第一旋转台、传动支座、传感器、限位板、限位杆、第二旋转台、气嘴连接杆、平板、基板和限位块,利用本发明紫外光刻二维平台,将气嘴连接杆连接真空泵将...
刘世杰何骏易葵柯立公杨留江王斌王岳亮郭猛
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紫外光刻二维平台
一种紫外光刻二维平台,该平台包括底板、立板、L形托板、深沟轴承、锁母、轴承盖、第一旋转台、传动支座、传感器、限位板、限位杆、第二旋转台、气嘴连接杆、平板、基板和限位块,利用本发明紫外光刻二维平台,将气嘴连接杆连接真空泵将...
刘世杰何骏易葵柯立公杨留江王斌王岳亮郭猛
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位置可调激光准直探测装置
一种位置可调激光探测装置,包括滑动部分、准直部分、二维移动部分和激光探测部分,滑动部分包括底座、导轨、滑块;准直部分包括底板、升降杆架、支撑杆、光阑座、可变光阑;二维移动部分包括底板、升降台、平移台;激光探测部分包括对准...
李大伟郭猛赵元安柯立公刘晓凤符燕燕王岳亮
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厚胶接近式光刻中掩模优化研究(英文)
2015年
随着光刻胶厚度的不断增大,制作的光刻图形畸变愈发严重,这极大的影响了微结构器件的性能与应用。针对高深宽比柱状微结构在光刻胶厚度方向上畸变的特点,提出了双面曝光和亮衬线、灰阶掩模相结合的办法,利用遗传算法对失真影响最大的区域进行搜索,光刻胶内部各层的衍射光场分布作为评价函数,对光刻过程引起的畸变进行优化。仿真结果显示,优化后光刻胶各层面型质量得到极大的改善,特征尺寸和边墙角等参数与理论值吻合得更好。优化算法具有很好的灵活性,因此在用于更厚光刻胶、更复杂掩模图形的优化上,具有重要的指导意义。
何骏刘世杰王斌郭猛王岳亮
关键词:光刻光学邻近效应遗传算法
共3页<123>
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