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陈庆广

作品数：1 被引量：2H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十八研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇镀膜
  • 1篇镀膜设备
  • 1篇离子
  • 1篇离子源
  • 1篇溅射
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 1篇张赛
  • 1篇毛朝斌
  • 1篇陈特超
  • 1篇胡凡
  • 1篇佘鹏程
  • 1篇彭立波
  • 1篇陈庆广

传媒

  • 1篇电子工业专用...

年份

  • 1篇2016
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
多靶磁控溅射镀膜设备及其特性被引量：2
2016年
介绍了一种多靶磁控溅射镀膜设备,阐述了镀膜室、工件台、阴极溅射靶、辅助离子源、真空系统等关键部件的设计思想。镀膜工艺结果显示,设备满足工艺要求,膜层均匀性优于±3%。
佘鹏程陈庆广胡凡陈特超彭立波张赛毛朝斌
关键词：磁控溅射离子源
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