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鲍旭
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8
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供职机构:
电子科技大学
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相关领域:
电子电信
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合作作者
施媛媛
电子科技大学光电信息学院电子薄...
张波
电子科技大学光电信息学院电子薄...
周琦
电子科技大学
汪玲
电子科技大学
陈万军
电子科技大学
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作者
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鲍旭
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施媛媛
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汪玲
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周琦
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2014`全...
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2015
5篇
2014
共
8
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一种III-V族化合物半导体材料的刻蚀方法
一种III-V族化合物半导体材料的刻蚀方法,属于半导体工艺技术领域。本发明采用低温氧气等离子体氧化的干法氧化工艺结合湿法腐蚀氧化层的工艺对III-V族化合物半导体材料进行刻蚀,可以精确控制刻蚀深度(刻蚀精度可达<Imag...
周琦
牟靖宇
鲍旭
汪玲
施媛媛
靳旸
陈博文
陈万军
张波
文献传递
具有结终端混合阳极的高性能AlGaN/GaN功率二极管
本文提出一种具有结终端混合阳极结构(Edge-terminated hybrid anode-ETH)的高性能AlGaN/GaN功率二极管(ETH-Diode).通过优化混合阳极肖特基接触下方势垒层厚度以调制沟道中二维电...
汪玲
周琦
鲍旭
牟靖宇
施媛媛
刘朝阳
陈万军
张波
关键词:
功率二极管
氮化镓
结终端
文献传递
一种Ⅲ族氮化物半导体材料干法刻蚀后的表面处理方法
一种Ⅲ族氮化物半导体材料干法刻蚀后的表面处理方法,属于材料技术领域,涉及材料表面处理工艺和半导体器件制备工艺。本发明提出一种Ⅲ族氮化物半导体材料干法刻蚀后的表面处理方法,将干法刻蚀后的Ⅲ族氮化物半导体材料浸没在浓度为1%...
周琦
鲍旭
汪玲
牟靖宇
施媛媛
章晋汉
靳旸
陈万军
张波
文献传递
两步刻蚀法制备高性能增强型硅基Al2O3/AlGaN/GaN MISHEMT器件
本文提出一种适用于Ⅲ-Nitride半导体材料的等离子体干法刻蚀结合氧化/湿法腐蚀的两步刻蚀方法,利用该方法成功制备了一种高性能增强型Al2O3/AlGaN/GaN MISHEMT器件.该两步刻蚀方法首先使用等离子干法刻...
鲍旭
张波
周琦
汪玲
牟靖宇
施媛媛
章晋汉
靳旸
黄伟
陈万军
关键词:
高电子迁移率晶体管
氮化镓
文献传递
一种GaN异质结功率二极管
本发明涉及半导体器件技术领域,涉及GaN异质结功率二极管。本发明中阳极的肖特基金属淀积在凹槽中而不是直接淀积在异质结表面,并且在凹槽的右下方靠近阴极一侧淀积电介质在阳极形成结终端结构,并通过刻蚀势垒层降低肖特基金属下方沟...
周琦
汪玲
鲍旭
牟靖宇
施媛媛
尉中杰
张波
文献传递
AlGaN/GaNHFET功率开关器件新结构研究
功率器件在电源管理、电力传输、工业控制等方面影响着人们的生活。硅基功率器件经过半个多世纪发展,性能已经趋近于理论极限,而现代电力电子系统对功率器件的性能要求越来越高。采用新型半导体材料来提升功率器件性能已经刻不容缓。氮化...
鲍旭
关键词:
功率开关
文献传递
一种氮化镓基增强型器件的制造方法
本发明属于半导体技术领域,具体涉及到一种氮化镓基增强型器件的制造方法。本发明主要采用两步刻蚀法,第一步为快速刻蚀,使用氯气或氯化硼刻蚀异质结势垒层总厚度的三分之一至三分之二;第二步为慢速刻蚀,采用氧气等离子体反应技术,使...
周琦
鲍旭
牟靖宇
汪玲
施媛媛
章晋汉
靳旸
陈万军
张波
文献传递
一种氮化镓异质结MIS栅控功率二极管及其制造方法
本发明涉及半导体器件技术领域,具体为一种氮化镓异质MIS栅控结功率二极管及其制造方法。本发明采用刻蚀阳极肖特基金属下方的势垒层来耗尽肖特基金属下方中的二维电子气,通过在刻蚀出的凹槽中淀积绝缘介质和肖特基金属形成肖特基金属...
周琦
陈博文
靳旸
李健
鲍旭
施媛媛
汪玲
陈万军
张波
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