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陈昌龙

作品数：9 被引量：3H指数：1
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术机械工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 7篇中文专利

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 7篇光刻
  • 4篇光刻机
  • 2篇掩模
  • 2篇掩模板
  • 2篇数值孔径
  • 2篇投影光刻
  • 2篇投影光刻机
  • 2篇透镜
  • 2篇透镜系统
  • 2篇图像
  • 2篇物镜
  • 2篇莫尔条纹
  • 2篇纳米光刻
  • 2篇光学
  • 2篇光学加工
  • 2篇硅片
  • 1篇低阶
  • 1篇调焦
  • 1篇动态网
  • 1篇动态网页

机构

  • 7篇中国科学院

作者

  • 7篇胡松
  • 7篇陈昌龙
  • 6篇刘俊伯
  • 4篇何渝
  • 3篇陈铭勇
  • 3篇邸成良
  • 2篇唐小萍
  • 2篇唐燕
  • 2篇赵立新
  • 2篇马平
  • 2篇邓钦元
  • 2篇周毅
  • 2篇王楠
  • 2篇朱咸昌
  • 1篇周绍林
  • 1篇高洪涛
  • 1篇严伟

年份

  • 1篇2017
  • 2篇2016
  • 1篇2015
  • 3篇2014
共 9 条 记 录，以下是 1-7
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排序方式：
一种适用于投影光刻机的实时检焦调焦方法
本发明提供一种适用于投影光刻机的实时检焦调焦方法，由光源(1)经准直透镜成为平行光束，通过投影光阑(3)成为一道狭缝。狭缝经成像镜组(4)成像于硅片(6)表面。从硅片表面反射的光束经成像镜组(10、11)成像在线阵CCD...
陈昌龙邸成良唐小萍胡松马平刘俊伯马驰飞何渝
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一种用于i线大面积平板投影光刻机的物镜
本发明公开了一种用于i线大面积平板投影光刻机的物镜，其采用了双远心、28片4组对称结构，其中使用了2个低阶非球面。本设计的像方有效视场可以达到132×132mm，像方数值孔径能提高至0.17以弥补国内光学加工所造成的分辨...
刘俊伯赵立新陈铭勇朱咸昌胡松何渝陈昌龙
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一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统
本发明公开了一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统，包括光路部分、图像处理部分和电路控制部分；光路部分包括激光光源、照明系统、掩模板、硅片、掩模二维光栅、硅片二维光栅、分光镜、透镜和CCD图像探测器；激光通过准直成像...
司新春唐燕胡松刘俊伯周毅邓钦元陈昌龙邸成良程依光
一种用于光刻机的嵌入式远程通信及控制方法
本发明提供一种用于光刻机的嵌入式远程通信及控制方法，其基本过程如下：首先，在本地搭建一台Tomcat服务器，制作动态网页，存放光刻机的数据资源，客户端通过HTTP协议进行访问；在服务器上通过第二远程控制模块，与客户端通过...
陈昌龙唐小萍胡松马平王楠刘俊伯马驰飞何渝
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一种光刻式的3D打印机
本发明公开了一种光刻式的3D打印机，属于光刻技术领域，包括：光源系统、图像系统、投影系统、机械系统、电控系统五个子系统。系统获取打印物体的三维模型数据，并按高度方向分解成厚度统一的薄层后，用图像系统生成每一薄层的曝光图形...
马驰飞周绍林王楠陈昌龙高洪涛陈铭勇严伟胡松
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一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统
本发明公开了一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统，包括光路部分、图像处理部分和电路控制部分；光路部分包括激光光源、照明系统、掩模板、硅片、掩模二维光栅、硅片二维光栅、分光镜、透镜和CCD图像探测器；激光通过准直成像...
司新春唐燕胡松刘俊伯周毅邓钦元陈昌龙邸成良程依光
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一种用于i线大面积平板投影光刻机的物镜
本发明公开了一种用于i线大面积平板投影光刻机的物镜，其采用了双远心、28片4组对称结构，其中使用了2个低阶非球面。本设计的像方有效视场可以达到132×132mm，像方数值孔径能提高至0.17以弥补国内光学加工所造成的分辨...
刘俊伯赵立新陈铭勇朱咸昌胡松何渝陈昌龙
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