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何爱文

作品数：5 被引量：0H指数：0
供职机构：中国电子科技集团公司第五十五研究所更多>>
相关领域：自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇中文专利

领域

  • 3篇自动化与计算...

主题

  • 3篇涂胶
  • 3篇晶圆
  • 2篇圆片
  • 2篇真空
  • 2篇真空工艺
  • 2篇涂胶装置
  • 2篇平坦化
  • 2篇腔设计
  • 2篇金属
  • 2篇金属化合物
  • 2篇静电
  • 2篇静电力
  • 2篇化合物
  • 2篇碱金属
  • 2篇碱金属化合物
  • 2篇硅圆片
  • 2篇纯度
  • 1篇填孔
  • 1篇批量化
  • 1篇批量化生产

机构

  • 5篇中国电子科技...

作者

  • 5篇朱健
  • 5篇何爱文
  • 1篇黄旼
  • 1篇吴杰

年份

  • 2篇2023
  • 1篇2022
  • 1篇2016
  • 1篇2014
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
一种整晶圆真空涂胶工艺
本发明公开了一种整晶圆真空涂胶工艺，包括由涂胶腔组件、供胶组件、驱动涂胶组件以及真空VAC组件所构成的真空涂胶设备，涂胶工艺包括：放片、抽真空、滴胶、匀胶、充气、旋转、泄压。本发明的有益效果是：满足在具有槽、沟、深孔、腔...
吴杰朱健黄旼何爱文
一种带真空工艺腔的整晶圆真空涂胶装置
本发明公开了一种带真空工艺腔的整晶圆真空涂胶装置，包括进胶控制系统、真空工艺系统和外部控制系统；进胶控制系统设于真空工艺系统外部，通过进胶管路上的滴胶头伸入真空工艺系统内，且滴胶头处于真空旋转涂胶系统正上方；真空旋转涂胶...
朱健何爱文
一种带真空工艺腔的整晶圆真空涂胶装置
本发明公开了一种带真空工艺腔的整晶圆真空涂胶装置，包括进胶控制系统、真空工艺系统和外部控制系统；进胶控制系统设于真空工艺系统外部，通过进胶管路上的滴胶头伸入真空工艺系统内，且滴胶头处于真空旋转涂胶系统正上方；真空旋转涂胶...
朱健何爱文
在片实现芯片级原子钟吸收泡的高纯度碱金属填充方法
本发明是一种在片实现芯片级原子钟吸收泡的高纯度碱金属填充方法，包括：1）在硅圆片上形成微凹槽、吸收泡腔槽和放置腔槽；2）将碱金属化合物密封入圆片中央的放置腔内，并形成包含流动临时微通道、吸收泡腔和碱金属放置腔的圆片内真空...
朱健何爱文
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在片实现芯片级原子钟吸收泡的高纯度碱金属填充方法
本发明是一种在片实现芯片级原子钟吸收泡的高纯度碱金属填充方法，包括1）在硅圆片上形成微凹槽、吸收泡腔槽和放置腔槽；2）将碱金属化合物密封入圆片中央的放置腔内，并形成包含流动临时微通道、吸收泡腔和碱金属放置腔的圆片内真空环...
朱健何爱文
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