谢鹏
- 作品数：33 被引量：85H指数：6
- 供职机构：武汉工程大学更多>>
- 发文基金：湖北省高等学校优秀中青年科技创新团队计划项目国家自然科学基金教育部重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术化学工程理学更多>>
- 微波等离子体CVD法制备金刚石薄膜涂层钻头
- 在微波等离子体CVD中,在直径为0.8mm硬质合金钻头上进行沉积金刚石涂层的研究。在沉积前,用硝酸(HNO:HO=1:4)腐蚀60s,以去除表面的Co。在金刚石涂层沉积过程中,钻头尖端在微波电磁场中产生辉光放电现象,导致...
- 谢鹏汪建华满卫东王传新孙蕾
- 关键词：金刚石涂层钻头微波等离子体化学气相沉积硬质合金
- 文献传递
- 射频等离子体制备类金刚石薄膜及其表征被引量：5
- 2009年
- 采用射频等离子体技术,以CH4和H2为反应气体,在单晶硅片和载玻玻璃片上成功制备出了高质量的类金刚石薄膜.采用扫描电镜、原子力显微镜、Raman光谱、红外光谱、显微硬度计表征了类金刚石薄膜的表面形貌、微观结构、光学性能和复合硬度.结果表明,制备出的类金刚石薄膜表面十分平整光滑,表面粗糙度极低,平均粗糙度Ra为0.492 nm;薄膜中含有sp2,sp3杂化键,具有典型的类金刚石结构特征;光学透过率比较高,薄膜的复合硬度可以高达507.3 kgf/cm2.
- 谢鹏汪建华王传新王升高满卫东熊礼威
- 关键词：射频等离子体类金刚石薄膜粗糙度拉曼光谱显微硬度
- 铁刻蚀CVD金刚石膜辅助机械抛光
- 2007年
- 采用直流溅射方法在化学气相沉积(CVD)金刚石膜表面镀上一层铁薄膜,在氢等离子体条件下利用铁对金刚石膜的快速刻蚀实现初抛光,然后再进行机械抛光,提高抛光效率。
- 邢文娟汪建华满卫东严朝辉谢鹏
- 关键词：CVD金刚石膜微波等离子体刻蚀抛光
- 微波等离子体CVD法制备金刚石薄膜涂层钻头
- 在微波等离子体CVD中,在直径为0.8mm硬质合金钻头上进行沉积金刚石涂层的研究。在沉积前,用硝酸(HNO3:H2O=1:4)腐蚀60s,以去除表面的Co。在金刚石涂层沉积过程中,钻头尖端在微波电磁场中产生辉光放电现象,...
- 谢鹏汪建华满卫东王传新孙蕾
- 关键词：金刚石薄膜涂层刀具微波加热等离子体涂层CVD化学气相沉积
- 钴/铈纳米复合材料的合成及其对催化脱除氮氧化物作用的研究
- 随着大气污染引发的环境问题日益严重，对于废气处理与净化技术的开发受到人们越来越多的关注。其中，选择性催化还原技术是对于主要大气污染物之一的氮氧化物十分有效的控制技术。开发具有理想催化性能的催化剂，提高其催化活性和应用范围...
- 谢鹏
- 关键词：合成工艺氮氧化物
- 硬质合金刀具上的类金刚石薄膜硬度的研究被引量：2
- 2008年
- 采用射频辉光等离子体法制备了类金刚石薄膜,研究了影响类金刚石薄膜硬度的各种因素,包括:极板间距、甲烷浓度、射频功率和膜层厚度等,分析了各种生长参数对类金刚石薄膜硬度的影响机理,找出了最佳的生长参数。
- 谢鹏汪建华王传新满卫东王升高熊礼威
- 关键词：类金刚石薄膜硬质合金
- PCB钻头上金刚石涂层的制备被引量：7
- 2009年
- 本文在直径为0.8mm硬质合金钻头上进行沉积金刚石涂层的研究。在沉积之前,先用硝酸和铁氰化钾进行腐蚀处理,以去除表面的Co。用微波等离子体CVD设备进行金刚石的沉积。在金刚石涂层沉积过程中,钻头尖端在微波电磁场中产生辉光放电现象,导致钻头尖端刃部很难获得金刚石涂层。通过使用金属丝屏蔽的方法改变钻头周围的微波电磁场分布,成功的采用微波等离子体CVD法在钻头上沉积出了金刚石涂层。用扫描电子显微镜(SEM),能量色散谱仪(EDS)和激光拉曼光谱(Raman)对钻头的表面形貌和金刚石薄膜的质量进行了表征,同时在铝基复合材料上进行了钻孔测试。结果表明金刚石薄膜表面比较光滑,晶粒尺寸较小,涂层质量良好,薄膜的附着力也较高。
- 谢鹏汪建华满卫东王传新王升高李远
- 关键词：金刚石涂层微波等离子体化学气相沉积硬质合金
- 类金刚石涂层微型钻头的制备研究
- 通过在微型硬质合金钻头上分别施加W、WC、Ti和TiN等4种单层过渡层,在自制射频辉光等离子体装置上沉积了类金刚石(DLC)涂层。运用激光拉曼光谱仪和扫描电子显微镜对各道工序前后钻头的表面形貌和类金刚石涂层的质量进行了表...
- 李远汪建华谢鹏熊礼威刘长林
- 关键词：DLC膜附着力
- 文献传递
- 微波CVD金刚石薄膜用作LED散热片的制备被引量：4
- 2008年
- 由于金刚石具有室温下最高的热导率,因此用化学气相沉积(CVD)制备的金刚石膜是大功率发光二极管(LED)理想的散热材料。本文利用微波等离子体CVD研究了不同沉积工艺下金刚石薄膜的生长。用扫描电子显微镜(SEM)和拉曼光谱对得到的金刚石薄膜进行了表征,并将金刚石薄膜用作LED散热片的散热效果进行了检测。结果表明:在硅衬底上沉积20-30μm的CVD金刚石薄膜可以有效地降低LED的工作温度;在相同的制备成本下,提高薄膜的厚度(甲烷浓度4%)比提高薄膜的质量(甲烷浓度2%)更有利于提高LED的散热效果。本研究表明微波等离子体CVD制备的金刚石薄膜是大功率LED的理想散热衬底材料。
- 满卫东孙蕾吴宇琼谢鹏余学超汪建华
- 关键词：微波等离子体化学气相沉积金刚石膜散热片LED
- 热丝CVD法制备金刚石管被引量：1
- 2008年
- 以钨丝作为基体,用氢气和丙酮作为反应气体,在热丝化学气相沉积装置中制备出了金刚石管,其生长速度达到了4μm/h.扫描电镜和激光拉曼光谱的测试结果表明制备出的金刚石管质量较好.
- 谢鹏汪建华王传新熊军
- 关键词：金刚石薄膜
