熊礼威
- 作品数：86 被引量：188H指数：8
- 供职机构：武汉工程大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金湖北省高等学校优秀中青年科技创新团队计划项目湖北省教育厅科学技术研究项目更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术化学工程金属学及工艺更多>>
- 高温退火对蓝宝石上生长MoS2薄膜的影响研究
- 2019年
- 以MoO3和S粉为源,采用化学气相沉积法在经过退火处理的蓝宝石基片和洁净的蓝宝石基片上沉积MoS2薄膜。利用光学显微镜、Raman和PL分别对使用不同钼源用量沉积的MoS2薄膜进行了表征。结果表明,高温退火处理会使蓝宝石基片上出现更多的活性位点,导致其形核点增加,更有利于MoS2薄膜的生长。但是所制得的薄膜结晶性能不好,可以通过探究实验工艺,提高蓝宝石基片上MoS2的结晶性。
- 夏述平陈婷熊礼威崔宇陶雪华
- 关键词：二硫化钼化学气相沉积退火处理
- 类金刚石涂层微型钻头的制备研究
- 通过在微型硬质合金钻头上分别施加W、WC、Ti和TiN等4种单层过渡层,在自制射频辉光等离子体装置上沉积了类金刚石(DLC)涂层。运用激光拉曼光谱仪和扫描电子显微镜对各道工序前后钻头的表面形貌和类金刚石涂层的质量进行了表...
- 李远汪建华谢鹏熊礼威刘长林
- 关键词：DLC膜附着力
- 文献传递
- 应用于场致发射的掺杂纳米金刚石膜的研究被引量：1
- 2011年
- 场致发射是一种新型显示技术,具有良好应用前景,场发射显示器的核心内容是场发射阴极材料,纳米金刚石由于低表面粗糙度、低场发射强度、高发射电流密度、大比表面积、网状结构以及高密度悬挂键等优秀电化学性能成为场发射的理想阴极材料。本文阐述了化学气相沉积法制备纳米金刚石薄膜的沉积装置、预处理和工艺参数,并介绍了金刚石掺杂机理和掺入元素的研究现状。
- 陈冠虎汪建华熊礼威翁俊王文君
- 关键词：场致发射纳米金刚石薄膜掺杂
- 大气微波等离子体射流装置研究及实验分析
- <正>大气压微波等离子体具有设备成本低、无电极污染和适合于工业化生产等优点,有着非常广阔的应用前景。目前大气压等离子体射流装置主要从放电方式、电极结构和功率源三个方面进行设计和优化。本研究在电磁场分布理论的指导下用Ans...
- 苏含刘长林熊礼威刘繁
- 文献传递
- 化学气相沉积光学级金刚石薄膜的研究进展被引量：7
- 2006年
- 化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜优异的光学性能在近几年得到了广泛的重视,关于它的研究也在近几年取得了较大的突破。综述了CVD金刚石薄膜的光学性能,着重从成核、生长和后期处理三个方面对光学级CVD金刚石薄膜的制备进行了讨论,并对今后的研究作了展望。
- 熊礼威汪建华满卫东曹菊琴
- 关键词：金刚石薄膜化学气相沉积光学性能成核薄膜生长
- 类金刚石薄膜的摩擦性能及其应用被引量：16
- 2016年
- 首先从成键结构的角度分析了DLC薄膜摩擦性能的由来,然后分别从DLC薄膜的沉积工艺(包括制备方法、气源种类和掺杂元素)、摩擦环境条件和基底材料选择等三方面入手,讨论了影响DLC薄膜摩擦性能的主要因素及其影响规律。经过总结发现,通过调节DLC薄膜的沉积工艺可以改变DLC薄膜中sp^2杂化碳的含量以及氢的含量,进而影响DLC薄膜的摩擦性能;真空、惰性气体和低湿环境有利于获得更好的摩擦效果;过渡层和偏压有利于提高DLC薄膜与基底之间的附着力,其摩擦性能也会得到提升。最后对DLC薄膜在机械加工及耐磨器件、光学和电子保护以及生物医学领域的应用进行了综述,并对应用过程中存在的两大问题——DLC薄膜的内应力和热稳定性进行了分析,归纳了一些具体的解决方案,并对DLC薄膜的发展趋势进行了展望。
- 熊礼威彭环洋张莹汪建华崔晓慧
- 关键词：类金刚石薄膜固体润滑薄膜附着力
- 常压微波等离子体射流的仿真与实验
- 介绍了一台低成本稳定的常压微波等离子体射流装置，给出了该设备组成以及谐振腔的构造，数值求解了设备中矩形TE103谐振腔中的电磁场分布，应用有限元模拟分析软件HFSS对谐振腔及喷嘴尖端的电场分布进行了仿真，在此基础上对装置...
- 刘繁汪建华熊礼威刘长林
- 关键词：结构特征电场分布
- 保温时间对二维二硫化钼生长的影响被引量：2
- 2020年
- 目的研究二维MoS2薄片的生长规律,为将来过渡金属硫族化合物薄膜的生长提供理论参考与技术经验。方法采用化学气相沉积法(CVD)制备MoS2薄片,且仅改变薄片生长的保温时间。通过光学显微镜、扫描电镜(SEM)和拉曼光谱分析探究MoS2薄片的生长规律。结果MoS2薄片由最初的形核点逐渐生长为中心有亮点的三角形(形核点MoS2拉曼光谱特征峰波数差为20.25 cm^−1)进一步生长为完整三角形的MoS2薄片(拉曼光谱特征峰波数差为18.32 cm^−1)。随着保温时间的延长,薄片之间开始“拼接”成膜,并最终在此膜层上再次形核生长出体相MoS2薄片。结论二维MoS2薄片的生长模式随着生长阶段而表现不同,最开始以非二维生长模式产生形核点,而非形核点区域以二维生长模式进行生长。在持续长大阶段,薄片以二维生长的模式为主导。在“拼接”阶段,出现多层MoS2区域。在第二层生长阶段,MoS2薄片以三维生长的模式生长。
- 熊礼威王凯李鑫陶雪华崔宇
- 关键词：CVD保温时间
- 硼源浓度对钛基掺硼金刚石薄膜生长的影响被引量：4
- 2011年
- 利用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)在钛基底上制备了掺硼金刚石(BDD)薄膜。研究了硼源浓度对BDD薄膜生长的影响。分别采用扫描电子显微镜,拉曼光谱,X射线衍射技术对薄膜的表面形貌、残余应力、择优取向及TiC含量进行了分析。结果表明,硼源浓度升高对金刚石薄膜(111)织构生长有促进作用;随着掺硼浓度的增加,TiC含量和晶粒尺寸皆减小,同时薄膜的张应力增大,缓解薄膜自身在制备过程中形成的压应力,从而更大程度上提高薄膜附着力。
- 王文君汪建华王均涛辛永磊熊礼威刘峰
- 关键词：钛微波等离子体化学气相沉积
- 基片温度对纳米金刚石薄膜制备的影响被引量：2
- 2012年
- 采用多模谐振腔微波等离子体CVD在不同基片温度下制备了纳米金刚石薄膜,通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和拉曼光谱测试,研究了基片温度对纳米金刚石薄膜性能的影响.结果表明:在其他工艺条件不变时,基片温度对薄膜性能具有较大的影响,较低的基片温度更有利于制备高质量的纳米金刚石薄膜,实验所获得的优化基片温度为720℃左右.
- 江川汪建华熊礼威翁俊苏含刘鹏飞
- 关键词：微波等离子体化学气相沉积纳米金刚石薄膜沉积温度
