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氢气浓度对掺氮超纳米金刚石薄膜的影响被引量：2: 2015年; 采用微波等离子体化学气相沉积法,以甲烷和氮气为气源,通过改变反应气体中氢气的浓度,在硅衬底上沉积出掺杂氮的超纳米金刚石膜。并利用扫描电子显微镜,拉曼光谱仪,X射线衍射仪,霍尔效应测试仪分别对掺杂氮的超纳米金刚石膜的表面形貌,组成结构及导电性能进行了进行表征,重点研究了氢气浓度对薄膜特性的影响。结果表明:随着氢气浓度的增加,薄膜的晶粒尺寸逐渐增大;薄膜的质量提高,且由G峰漂移引起的压应力逐渐减小;薄膜导电性变差。; 吕琳汪建华翁俊张莹崔晓慧; 关键词：微波等离子体化学气相沉积导电性

气体流动方式对MPCVD金刚石薄膜均匀性的影响被引量：3: 2020年; 在实验室自主研制的10 kW微波等离子体化学气相沉积装置上,通过改变气体的进出方式,探讨了气体流动方式对金刚石膜均匀性和质量的影响。结果表明:随着Si基片表面气体分子数增多,等离子体中的H原子和CH活性基团强度增强,扩散到基片表面中心的原子H和含碳活性基团增多,基片中心区域的金刚石膜生长速率略微有所提升,由原来的2.5μm/h提高到2.8μm/h,沉积得到的金刚石膜质量和均匀性均得到改善。; 王斌汪建华翁俊刘繁王振湉王蒙; 关键词：微波等离子体等离子体发射光谱金刚石薄膜

MPCVD快速制备(100)面金刚石薄膜被引量：13: 2013年; 利用实验室自主研发的10 kW微波等离子体装置,在直径为75 mm的(100)硅片上快速沉积高质量(100)面金刚石薄膜。实验中,甲烷浓度由1%提高至5%,金刚石薄膜的沉积速率由1μm/h增至8.2μm/h。随着金刚石薄膜生长速率的增加,薄膜质量下降,晶型杂乱,非金刚石相含量增加。在气源中加入氧气以提高高速生长下金刚石薄膜的质量。不同氧气浓度对金刚石薄膜的半高宽(Full Width at Half Maximum,FWHM)有较大影响:氧气浓度为0.1%～0.5%时,金刚石薄膜的FWHM随着氧气浓度的增加而减小;0.6%～1.2%时,薄膜FWHM值随着氧气浓度的增加而增大;浓度大于1.2%时,FWHM值保持不变。在H2流量为300 cm3/min,CH4浓度为5%,O2浓度为0.5%的条件下,制备出了(100)面完整,晶型完整,有台阶生长状的金刚石薄膜。; 孙祁汪建华翁俊罗曼; 关键词：微波等离子体金刚石薄膜甲烷氧气

常压微波等离子体炬的模拟及硫化氢处理被引量：2: 2015年; 对常压微波等离子体炬装置及H2S废气的处理进行了研究。介绍了一种具有特殊喷嘴结构的微波等离子体炬装置,模拟了不同喷嘴结构下谐振腔中微波电场的强度及分布,在此基础上,进行了H2S废气处理的实验研究。结果表明:采用新型喷嘴结构在喷嘴尖端产生的电场强度和分布更利于等离子体炬的激发,微波功率为500 W时,喷嘴尖端处的电场强度在1.5×106 V/m以上,远大于氩气的击穿电场强度,能有效地激发等离子体炬;当H2S气体与Ar气体流量比为10∶90,总流量为1000mL/min,微波功率为1000 W时,H2S的转化率最大达91.32%;大气微波等离子体炬能有效地处理H2S废气。实验结果证明了模拟结果的正确性和装置的有效性。; 刘繁翁俊汪建华孙祁; 关键词：微波等离子体炬喷嘴硫化氢

不同沉积气压对MPCVD法制备的类金刚石膜性能的影响: 2015年; 采用微波等离子体化学气相沉积法,以玻璃作为基底,通入CH4和H2,在改变沉积气压的条件下研究类金刚石(DLC)薄膜的生长情况。再利用紫外–可见–近红外分光光度计、激光Raman光谱仪和场发射扫描电子显微镜分别对制备出的DLC薄膜的光透过率、质量以及表面形貌进行表征与分析。结果表明:随着沉积气压的逐渐增大,可见光范围内的光透过率随之增大,类金刚石粒径逐渐减小,膜表面的团聚体尺寸逐渐减小、平整度提高。; 周璐汪建华翁俊孙祁; 关键词：微波等离子体化学气相沉积类金刚石表面形貌

新型MPCVD装置制备大面积CVD金刚石膜的研究: <正>金刚石膜高的硬度、热导率、载流子迁移率、化学稳定性等优异的物理化学性能使其成为极具发展前景的新型材料。由于各领域特别是军事领域对金刚石膜的沉积面积和质量不断提高,使得对制备大面积高质量CVD金刚石膜的装置和工艺参数...; 翁俊汪建华熊礼威满卫东; 文献传递

应用于场致发射的掺杂纳米金刚石膜的研究被引量：1: 2011年; 场致发射是一种新型显示技术,具有良好应用前景,场发射显示器的核心内容是场发射阴极材料,纳米金刚石由于低表面粗糙度、低场发射强度、高发射电流密度、大比表面积、网状结构以及高密度悬挂键等优秀电化学性能成为场发射的理想阴极材料。本文阐述了化学气相沉积法制备纳米金刚石薄膜的沉积装置、预处理和工艺参数,并介绍了金刚石掺杂机理和掺入元素的研究现状。; 陈冠虎汪建华熊礼威翁俊王文君; 关键词：场致发射纳米金刚石薄膜掺杂

高浓度氩气对金刚石膜的质量、晶粒尺寸和硬度的影响被引量：4: 2015年; 为研究Ar浓度对金刚石膜的质量的影响,采用微波等离子体化学气相沉积法,以Ar/H2/CH4为气源,通过改变反应气源中的Ar流量,在P型Si(100)基片上分别沉积了不同晶粒尺寸的金刚石膜(微米、纳米以及超纳米)。采用扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、X射线衍射仪、往复式摩擦磨损试验机等设备对金刚石薄膜的表面形貌、晶粒尺寸、薄膜质量、残余应力以及微观硬度等特性进行了分析。结果表明:随着Ar流量的增加,金刚石膜晶粒尺寸减小;由G峰漂移引起的拉应力先减小后增大;薄膜中非金刚石含量增加,硬度下降。; 王小安汪建华吕琳翁俊; 关键词：微波等离子体化学气相沉积氩气

基片台系统及利用该系统提高金刚石膜生长均匀性的方法: 本发明涉及一种基片台系统，包括基片台，基片台的下方在不同区域分布有尺寸不同的水冷管。一种提高金刚石膜生长均匀性的方法，具体包括如下步骤：构建基片台系统；金刚石膜的沉积：在利用微波放电产生等离子体球的腔体中，通过控制基片台...; 翁俊罗凯余军火汪建华; 文献传递

星形微波等离子体化学气相沉积装置上类金刚石薄膜的制备被引量：1: 2013年; 以甲烷、氢气和氧气为反应气体,分别在镜面抛光的单晶硅片和石英玻璃基片上制备了类金刚石薄膜,并用扫描电子显微镜、激光拉曼光谱和傅立叶红外透射光谱仪等测试方法对薄膜的表面形貌、质量和光学性能进行了表征;通过对类金刚石(DLC)薄膜制备过程中碳源浓度、基片温度等参数的研究,掌握了工艺参数对薄膜性能的影响规律,并在此基础上成功地对薄膜的沉积工艺进行了优化.结果表明,当反应气体中的流量配比为甲烷∶氢气∶氧气=10∶100∶1,腔体压力和基片温度分别为0.5kPa和400℃,制备出的DLC薄膜表面光滑平整,薄膜中的纳米金刚石特征峰明显,在石英玻璃上沉积的DLC薄膜在3 000～4 000cm-1波数区间透光率超过80%,达到了光学应用要求.; 熊礼威崔晓慧汪建华翁俊龚国华张林; 关键词：类金刚石薄膜石英玻璃

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翁俊