王利
- 作品数：56 被引量：174H指数：9
- 供职机构：北京空间机电研究所更多>>
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- 相关领域：理学文化科学机械工程一般工业技术更多>>
- 具有更低折射率比的全向高反膜的设计被引量：1
- 2004年
- 对于λ/4膜系,如欲实现宽带全向反射,宜采用高折射率比的镀膜材料,讨论了在低折射率比条件下的全向高反膜。借助Filmstar膜系设计软件对所设计的几种初始膜系进行了优化,并分析了材料折射率和吸收以及膜厚误差对优化结果的影响。在此基础上,采用高斯分布的初始膜系,优化设计了高低折射率分别为2.16和1.44的全向高反膜。它在530nm处对任意入射角都具有98%以上的反射率,并在530nm～560nm波段内对从0°～60°入射的光具有99%以上的反射率。
- 林小燕吴永刚顾春时王利魏军明田国勋王勇陈玲燕
- 关键词：高斯分布折射率
- 具有共振腔模式的一维光子晶体结构被引量：1
- 2004年
- 介绍了具有共振腔模式的一维光子晶体光谱特性及电场特性计算的传输矩阵方法;基于该结构光学性质如:电场局域态、禁带,综述了其在光学器件中的应用;并提出了需要对该结构进行改进的几个方面。
- 王利王风丽吴文娟王洪昌林小燕王占山吴永刚陈玲燕
- 关键词：传输矩阵共振腔局域态多通道一维光子晶体光学器件
- 一种碳化硅表面改性方法
- 本发明一种碳化硅表面改性方法，采用PVD(物理气相沉积)改性，先将基片清洗干净，检测改性前粗糙度，后放入整洁的镀膜机内，同时，在镀膜机相应位置放入膜料镍(Ni)、硅(Si)；提高镀膜机真空室内的真空度，达到改性标准后，先...
- 白云立王利王刚张继友周于鸣王永刚孟晓辉郭文徐领娣于建海
- 文献传递
- 一种光学元件的镀膜装置及镀膜方法
- 本发明涉及一种光学元件的镀膜装置及镀膜方法，属于光学设备技术领域，可应用于薄膜光学制备技术领域。本发明利用金属材料设计一个膜层厚度均匀补偿装置，将其放置在两个蒸发源正中间一定高度位置上，在镀膜过程中，挡板状态不变，可同时...
- 王刚白云立周于鸣李昂王培培王利陈序张继友肖正航
- 文献传递
- 极紫外与X射线波段正入射两镜反射系统的研究(英文)
- 2009年
- 基于三级象差理论,分析了几何象差对正入射望远镜性能的影响,总结了弥散斑角宽度θ随着系统f数和半视场角uP的变化趋势.弥散斑的角宽度θ随着半视场角uP的增大而增大,随着系统f数的增大而减小.当f数小于10或者半视场角uP大于0.005弧度时,弥散斑角宽度θ变化比较剧烈.详细讨论了四种典型的反射系统,Dall-Kirkham系统和反Dall-Kirkham系统的弥散斑角宽尺寸在一个数量级上,大约为卡塞格林系统的十倍.R-C系统的弥散斑角宽最小,几乎是卡塞格林系统的十分之一.通过本文的结论公式可以估算一个光学系统的象差尺寸并避免进行光线追迹.
- 沈正祥穆宝忠王占山王利马彬季一勤刘华松
- 制备工艺条件对SiO_2薄膜非均质特性的影响被引量：5
- 2016年
- 薄膜材料的生长过程随镀膜机尺寸的增大而呈现新的规律,为制备膜层均匀性好、材料均质的大尺寸光学元件,分别在不同离子源能量、沉积压强、基板加热温度及基板转速条件下,采用离子辅助电子束蒸发方法制备了不同单层Si O2薄膜样品;利用分光光度计及椭偏仪分别对样品的透过率及椭偏参数进行测量,并对测量结果进行拟合得到不同样品的折射率及非均质特性。实验结果表明,工件架转速是使大尺寸Si O2薄膜材料产生非均质特性的主要影响因素,离子源能量、基板温度、沉积压强通过影响材料生长过程对材料的非均质特性产生调控;对于大尺寸薄膜光学元件,工件架转速存在限制的条件下,优化其他工艺参数可以获得均质Si O2薄膜材料,该结果对于制备具有优良性能的大尺寸薄膜光学元件具有借鉴意义。
- 王利王鹏王刚王培培白云立刘华松
- 关键词：电子束蒸发堆积密度非均质光学薄膜
- 后现代主义视角下网络学习共同体的建构
- 本文首先介绍了后现代主义理论，并分析了后现代主义对学习共同体的影响。在此基础上，分析了如何从后现代主义促进网络学习共同体的建设，并提出了其构建方式。
- 王利张景生徐恩芹许晓曼
- 关键词：后现代主义网络学习共同体自我实现
- 新课程观与网络课程设计被引量：4
- 2011年
- 随着基础教育课程改革的不断深入,新的课程观念获得广泛认同。新课程观对教育、学习的影响逐渐被人们认识并接受,网络课程的设计理念也应随着新课程观的提出而发生改变。本文探讨了新课程观的内容及特征,并分析了新课程观对网络课程设计的启示,提出了新课程观下网络课程设计的思路和方法。
- 王利张景生赵厚福高国元
- 关键词：网络课程课程设计
- 一种用于大口径光学元件的超快激光辅助研抛装置及方法
- 本发明提供了一种用于大口径光学元件的超快激光辅助研抛装置及方法，属于精密光学加工领域。将超快激光辅助研抛盘安装在数控机械臂末端，超快激光脉冲通过光纤传导至研抛盘中心开孔处，经过锥透镜整形为贝塞尔光束垂直入射工件表面；在研...
- 王国燕栗孟娟王利梁慧龙王经华于秋跃王兆明王聪杜妍李春林周于鸣郝言慧
- 文献传递
- Cr,Cu掺杂Ag电子结构和光学特性的第一性原理研究被引量：1
- 2016年
- 基于密度泛函理论的第一性原理平面波超软赝势方法,分别计算了Cr、Cu掺杂Ag晶胞的电子结构和光学特性,计算结果表明,掺杂后Cr、Cu外层电子分别与Ag外层电子发生作用,价带会出现一定展宽;掺杂体系的反射谱和吸收谱在不同波段范围内会发生不同变化,体系的光谱特性发生改变.研究结果对于光电子器件制备及薄膜界面特性研究具有指导意义.
- 王利王鹏白云立
- 关键词：电子结构态密度
