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吴永刚

作品数:154 被引量:385H指数:11
供职机构:中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:理学电子电信机械工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 85篇期刊文章
  • 35篇会议论文
  • 31篇专利
  • 2篇科技成果
  • 1篇学位论文

领域

  • 82篇理学
  • 26篇机械工程
  • 26篇电子电信
  • 14篇一般工业技术
  • 3篇电气工程
  • 3篇核科学技术
  • 2篇化学工程
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇生物学
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 24篇滤光片
  • 24篇光学
  • 21篇电致变色
  • 20篇光谱
  • 18篇激光
  • 15篇探测仪
  • 15篇探测仪器
  • 15篇光栅
  • 14篇窄带滤光片
  • 12篇带通滤光片
  • 11篇谱特性
  • 11篇晶体
  • 11篇光谱特性
  • 10篇多层膜
  • 10篇自支撑
  • 10篇标准具
  • 9篇导模
  • 9篇导模共振
  • 9篇X射线
  • 8篇X射线激光

机构

  • 152篇同济大学
  • 10篇中国科学院
  • 5篇中国工程物理...
  • 3篇浙江工业大学...
  • 2篇上海市纺织科...
  • 2篇中国科学技术...
  • 1篇华东师范大学
  • 1篇聊城大学
  • 1篇山东农业大学
  • 1篇四川大学
  • 1篇黔南民族师范...
  • 1篇南通大学
  • 1篇曲阜师范大学
  • 1篇黄山学院
  • 1篇合肥国家同步...

作者

  • 154篇吴永刚
  • 38篇王占山
  • 36篇陈玲燕
  • 33篇焦宏飞
  • 25篇夏子奂
  • 25篇王振华
  • 25篇吴广明
  • 24篇倪星元
  • 24篇田国勋
  • 22篇张莉
  • 22篇曹鸿
  • 21篇林小燕
  • 20篇付联效
  • 19篇吴翔
  • 18篇张慧琴
  • 18篇刘仁臣
  • 16篇彭东功
  • 15篇周箴
  • 13篇陈乃波
  • 11篇戚同非

传媒

  • 12篇光学学报
  • 12篇强激光与粒子...
  • 6篇光子学报
  • 6篇光学仪器
  • 5篇同济大学学报...
  • 5篇无机材料学报
  • 5篇上海市科协第...
  • 4篇物理学报
  • 4篇上海市激光学...
  • 3篇功能材料
  • 3篇原子能科学技...
  • 3篇真空科学与技...
  • 3篇材料科学与工...
  • 2篇光学精密工程
  • 2篇材料研究学报
  • 2篇真空
  • 2篇应用科学学报
  • 2篇第十一届全国...
  • 2篇中国光学学会...
  • 1篇红外与激光工...

年份

  • 1篇2017
  • 2篇2016
  • 2篇2015
  • 3篇2014
  • 6篇2013
  • 5篇2012
  • 7篇2011
  • 2篇2010
  • 13篇2009
  • 18篇2008
  • 14篇2007
  • 9篇2006
  • 13篇2005
  • 12篇2004
  • 6篇2003
  • 3篇2002
  • 7篇2001
  • 6篇2000
  • 8篇1999
  • 7篇1998
154 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
激光干涉和化学腐蚀制备氢化硅太阳能电池绒面结构
结合激光干涉法和化学腐蚀法制备绒面掺铝氧化锌薄膜,以及碱腐蚀制备金字塔单晶硅绒面结构。采用扫描电镜观察了绒面形貌,用紫外-可见分光光度计对反射率进行了测试。比较了几种典型绒面结构在降低反射率方面的效果。以n-100型单晶...
刘仁臣吴永刚夏子奂
带缓冲层的导模共振滤光片反射光谱特性被引量:15
2008年
将均质多层膜系设计中的缓冲层概念引入到反射导模共振滤光片的设计中,以研究缓冲层的增加对导模共振滤光片反射光谱特性的影响。设计并通过严格的耦合波理论计算了一、二、三、四通道导模共振反射滤光片光谱特性。在膜系设计中增加缓冲层后,随着其厚度的逐渐增加,反射光谱中依次出现二、三、四个窄带反射峰;缓冲层厚度为796.35nm时,当滤光片光栅层占空比在0.2~0.9范围内、光栅深度在100~200nm变化时,共振峰的位置、反射率峰值高度几乎不变,保持了很好的多通道滤光片特性。
王振华吴永刚桑田王占山彭东功焦宏飞陈乃波曹鸿
关键词:薄膜光学导模共振光栅缓冲层
聚苯乙烯薄膜对自支撑锆薄膜的性能改善被引量:3
2007年
利用直流磁控溅射方法和提拉法制备了自支撑Zr/C8H8复合滤光膜和C8H8滤光膜。用同步辐射光源测量了滤光膜对软X射线的透射率,用俄歇电子能谱分析了膜中的元素含量。结果表明,虽然C8H8薄膜的加入在一定程度上降低了Zr滤光膜在软X射线波段的透射率,但较好地阻止了存储和使用过程中氧、氮等杂质对Zr金属膜的入侵,有效地改善了滤光膜的环境稳定性;同时很好地改善了Zr滤光膜的力学性能和表面面形,使制备的成品率提高了20%。
曹鸿吴永刚郑秀萍张莉付联效焦宏飞彭东功王振华
关键词:聚苯乙烯X射线激光透射率
类Ni-NdX射线激光靶表面氧化研究
2000年
用磁控溅射镀膜法制备了Nd靶,研究了Nd靶在不同环境气氛下的氧化过程,并利用X射线光电子能谱、原子力显微镜对表面氧化物的化学态、表面形貌进行了分析和研究。
张哲陈玲燕吴永刚乔轶
关键词:X射线激光
相对位置可独立调整的通道通带滤光片
本发明提供了一种能够独立调整滤光片中通道位置与通带位置的设计方法,采用了基于Fabry-Perot标准具的对称结构。与传统的窄带滤光片和带通滤光片不同,它通过分别改变几个中间层的厚度来对通道的位置和通带的位置进行独立的调...
吴永刚田国勋王占山林小燕
文献传递
带有闪烁光慢成分抑制滤光片的氟化钡(BaF<Sub>2</Sub>)晶体
带有闪烁光慢成分抑制滤光片的氟化钡(BaF<Sub>2</Sub>)晶体,涉及氟化钡晶体的镀膜和改善晶体性能技术,适用于高能物理、核医学、γ射线天文学、物理勘探。通过在氟化钡(BaF<Sub>2</Sub>)晶体表面镀覆...
吴永刚顾牡陈玲燕曹二华
文献传递
软X射线激光用分束镜研究
2002年
软X射线干涉测量是通过软X射线激光经过马赫-詹德干涉仪完成的,是测量驱动激光临界面附近等离子体状态的重要方法。本文基于软X射线多层膜的性能特点,指出软X射线干涉测量的干涉仪各光学元件的入射角越接近正入射越好,分束镜的设计应以其反射率和透过率的乘积为衡量标准。用离子束溅射法制作了类镍银13.9nm软X射线激光干涉测量所需的分束镜,实测表明其面形精度达到纳米量级,反射率和透过率乘积大于1.6%。
王占山唐伟星吴永刚秦树基陈玲燕徐向东洪毅麟付绍军朱杰崔启明
关键词:激光多层膜等离子体入射角反射率透过率
浸渍法制备聚苯乙烯滤光膜均匀性的研究
2008年
利用浸渍法制备了聚苯乙烯(C8H8)滤光膜,通过改变薄膜在溶液气氛中的静置时间,制备了不同的样品.用-αstep100台阶仪测量样品厚度,并研究了薄膜均匀性与静置时间的关系.结果表明,静置时间对C8H8滤光膜的均匀性是有影响的.用插值方法进行拟合,修正了计算膜层厚度的Landau-Levich理论公式,修正后的公式可适用于固化的薄膜厚度计算.
曹鸿吴永刚宋连科
关键词:浸渍法聚苯乙烯均匀性
热氧化处理对铋薄膜光学性能的影响
1997年
对通过蒸发获得的金属铋薄膜经加热氧化处理并与直接蒸发氧化铋获得的薄膜比较和进行光学性能测量,发现都能获得β相氧化铋薄膜。但是由于热氧化与蒸发的过程或速率不同,出现化学计量偏离,薄膜结构和光学性能变化。热氧化不够或低速率蒸发形成薄膜富铋,出现无定型或其它相结构,光学吸收限变宽,移向低能处。过氧化则会使薄膜富氧,同样使结构变化,吸收限变宽而向高能方向移动。实验表明蒸发金属铋薄膜然后经350℃,3小时热氧化是比较合适的制备氧化铋薄膜的条件。
倪星元吴广明吴永刚张慧琴金哲民
关键词:蒸发真空镀膜
30.4nm Cr/Al/Cr自支撑滤光片的研制被引量:4
2009年
依据材料的质量吸收系数和波长的关系,选择Cr和Al设计和制备30.4nm自支撑滤光片。在制备时以NaCl为脱膜剂,以热蒸发方式蒸镀Al,以电子束蒸发方式蒸镀Cr,制备了30.4nm的Cr/Al/Cr自支撑滤光膜,并对滤光片的表面缺陷进行了分析。通过显微镜观察,滤光膜均匀纯净,无明显针孔。Cr/Al/Cr自支撑滤光片在合肥国家同步辐射实验室进行了测量,Cr/Al/Or厚度为5nm/500nm/5nm和12.5nm/500nm/12.5nm的滤光片在30.4nm波长处的透过率分别为7.6%和4.6%,透过率曲线和理论计算基本一致。用紫外分光光度计测量得滤光片在200-800nm波长范围的透过率小于0.02%,满足使用要求。
付联效吴永刚伍和云焦宏飞吕刚王振华
关键词:自支撑透过率
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