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李芬

作品数:3 被引量:58H指数:1
供职机构:北京航空航天大学机械工程及自动化学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金教育部“新世纪优秀人才支持计划”更多>>
相关领域:一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇等离子
  • 1篇等离子体
  • 1篇等离子体浸没...
  • 1篇优化设计
  • 1篇有限元
  • 1篇有限元模拟
  • 1篇数值模拟
  • 1篇离子注入
  • 1篇辉光
  • 1篇辉光放电
  • 1篇溅射
  • 1篇非平衡磁控溅...
  • 1篇磁场
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射技术
  • 1篇值模拟

机构

  • 3篇北京航空航天...
  • 2篇香港城市大学

作者

  • 3篇李刘合
  • 3篇李芬
  • 2篇朱颖
  • 2篇朱剑豪
  • 2篇卢求元
  • 1篇庞恩敬
  • 1篇顿丹丹
  • 1篇陶婵偲
  • 1篇何福顺

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇核技术
  • 1篇真空电子技术

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2010
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
增强辉光放电等离子体离子注入的三维PIC/MC模拟
2012年
采用三维粒子模拟/蒙特卡洛模型自洽地模拟了增强辉光放电等离子体离子注入过程中离子产生和注入,获得了放电空间的离子总数、电势分布、等离子体密度分布和离子入射剂量等信息.模拟结果表明,5μs时鞘层达到稳定扩展,15μs时离子的产生与注入达到平衡,证实了增强辉光放电等离子体离子注入能在一定条件下实现自持的辉光放电.注入过程中,在点状阳极正下方存在一个高密度的等离子体区域,证实了电子聚焦效应.除靶台边缘外,离子的注入速率稳定且入射剂量均匀.脉冲负偏压提高时注入速率增加但入射剂量的均匀性变差.
何福顺李刘合李芬顿丹丹陶婵偲
关键词:等离子体浸没离子注入数值模拟
多靶磁控溅射系统磁场优化设计被引量:1
2010年
磁场分布对磁控溅射稳定性、离化率、靶材利用率及成膜质量都有重要影响,合理分布可使靶材附近等离子体分布均匀,不同位置溅射速率差减小,靶材刻蚀范围增大,靶材寿命延长,溅射过程稳定性提高。本文针对六靶复合表面改性设备,用有限元法对磁场进行模拟,得到较理想的磁场分布,为优化设计提供理论依据。
庞恩敬朱颖李芬李刘合卢求元朱剑豪
关键词:磁场有限元模拟
磁控溅射技术及其发展被引量:57
2011年
磁控溅射技术可制备超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜,以及各种具有特殊功能的薄膜,在工业薄膜制备领域的应用非常广泛。本文着重介绍了磁控溅射技术原理、特点、磁控溅射技术的发展史及其发展趋势。
李芬朱颖李刘合卢求元朱剑豪
关键词:磁控溅射非平衡磁控溅射
共1页<1>
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