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卢求元

作品数:6 被引量:58H指数:1
供职机构:香港城市大学更多>>
发文基金:中央高校基本科研业务费专项资金教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术金属学及工艺理学自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 3篇会议论文
  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇电气工程
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇理学

主题

  • 3篇有限元
  • 3篇磁场
  • 2篇优化设计
  • 2篇有限元模拟
  • 1篇等离子
  • 1篇等离子体
  • 1篇等离子体浸没...
  • 1篇等离子体诊断
  • 1篇电弧
  • 1篇电子聚焦
  • 1篇镀膜
  • 1篇镀膜工艺
  • 1篇离子注入
  • 1篇控制系统
  • 1篇辉光
  • 1篇辉光放电
  • 1篇溅射
  • 1篇非平衡磁控溅...
  • 1篇PC-PLC
  • 1篇PLASMA

机构

  • 6篇北京航空航天...
  • 3篇香港城市大学

作者

  • 6篇卢求元
  • 5篇李刘合
  • 4篇朱颖
  • 4篇朱剑豪
  • 3篇庞恩敬
  • 2篇李芬
  • 1篇梁波

传媒

  • 1篇核技术
  • 1篇真空电子技术
  • 1篇2010全国...

年份

  • 1篇2011
  • 3篇2010
  • 2篇2008
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
基于PC-PLC的复合表面改性设备控制系统的研究
随着信息技术和材料科学突飞猛进的发展,真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜、离子注入和化学气相沉积等技术手段的应用范围越来越广泛。然而,各种技术单独使用时却存在各种各样的缺陷,例如:磁控溅射离化率低,造成沉积速率低,成膜质量...
梁波朱颖庞恩敬李刘合卢求元朱剑豪
关键词:控制系统镀膜工艺
文献传递
多靶磁控溅射系统磁场优化设计被引量:1
2010年
磁场分布对磁控溅射稳定性、离化率、靶材利用率及成膜质量都有重要影响,合理分布可使靶材附近等离子体分布均匀,不同位置溅射速率差减小,靶材刻蚀范围增大,靶材寿命延长,溅射过程稳定性提高。本文针对六靶复合表面改性设备,用有限元法对磁场进行模拟,得到较理想的磁场分布,为优化设计提供理论依据。
庞恩敬朱颖李芬李刘合卢求元朱剑豪
关键词:磁场有限元模拟
多靶磁控溅射系统磁场优化设计
磁控溅射系统中的磁场分布对溅射过程的稳定性、离化率、靶材利用率及成膜质量都有着重要影响,合理的磁场分布可以使靶材附近的等离子体分布更加均匀,进而减小靶材上不同位置溅射速率的差异,使刻蚀速度差别进一步减小,增加靶材的刻蚀范...
庞恩敬朱颖李芬李刘合卢求元朱剑豪
关键词:有限元模拟
磁场在弯曲电弧磁过滤装置中的作用研究
1/4弯管型弯曲电弧磁过滤装置是去除真空阴极电弧沉积中宏观颗粒,获得高质量真空电弧沉积薄膜的最常用的手段。本文用有限元分析的方法,模拟了磁场在该类装置中的磁场,给出了1/4弯管常用磁场的分布规律,讨论了磁场在1/4弯管型...
李刘合卢求元朱剑豪
关键词:磁场有限元
文献传递
电子聚焦电场增强等离子体浸没离子注入方法研究
卢求元
关键词:PLASMA
磁控溅射技术及其发展被引量:57
2011年
磁控溅射技术可制备超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜,以及各种具有特殊功能的薄膜,在工业薄膜制备领域的应用非常广泛。本文着重介绍了磁控溅射技术原理、特点、磁控溅射技术的发展史及其发展趋势。
李芬朱颖李刘合卢求元朱剑豪
关键词:磁控溅射非平衡磁控溅射
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