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张洁

作品数:8 被引量:6H指数:1
供职机构:中国科学院物理研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 1篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 7篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 3篇导体
  • 3篇光学
  • 3篇半导体
  • 3篇半导体薄膜
  • 3篇MOCVD
  • 2篇电学
  • 2篇光学吸收
  • 2篇光学性
  • 2篇光学性质
  • 2篇ALN
  • 2篇INGAN
  • 1篇带隙
  • 1篇电池
  • 1篇多量子阱
  • 1篇多量子阱结构
  • 1篇形貌
  • 1篇应力
  • 1篇应力研究
  • 1篇射线衍射
  • 1篇深紫外

机构

  • 8篇中国科学院

作者

  • 8篇张洁
  • 7篇周均铭
  • 7篇陈弘
  • 7篇郭丽伟
  • 6篇彭铭曾
  • 6篇朱学亮
  • 6篇贾海强
  • 3篇颜建锋
  • 1篇何涛
  • 1篇丁国建

传媒

  • 2篇激光与红外
  • 1篇Journa...
  • 1篇第二届全国先...
  • 1篇第三届全国先...
  • 1篇第十届全国M...

年份

  • 1篇2009
  • 5篇2007
  • 2篇2006
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
MOCVD方法生长的InN及InGaN薄膜的特性研究
利用MOCVD方法在蓝宝石衬底上生长了InN和InGaN薄膜。室温InN样品的荧光峰在0.7eV左右,证实了InN具有小的带隙。通过插入GaN缓冲层,InN薄膜(0002)摇摆曲线半高宽从1.09°降到0.36°,载流子...
朱学亮郭丽伟彭铭曾张洁丁国建贾海强陈弘周均铭
关键词:半导体薄膜INGANMOCVD
文献传递
n型Al_xGa_(1-x)N材料的电学和光学性质
2006年
文章介绍了无裂纹高导电性n型A lxGa1-xN的MOCVD生长及其电学、光学和表面形貌性质。通过A lN两步生长法,有效地解决了A lxGa1-xN外延薄膜易裂的难题。并且对其生长进行优化,减少了A lxGa1-xN外延薄膜中的受主补偿缺陷,从而实现了高导电性的n型A lxGa1-xN薄膜,其载流子浓度为4.533×1018cm-3,并且电子迁移率高达77.5cm2/V.s,已经达到了目前国际上报道的先进水平。另外光学吸收谱说明A lxGa1-xN外延薄膜在302nm处具有陡峭的带边吸收,同时结合原子力显微镜分析材料的表面形貌,证实了材料表面光滑且平整。
彭铭曾张洁朱学亮郭丽伟贾海强陈弘周均铭
关键词:MOCVD光学吸收
r面蓝宝石衬底上采用两步AlN缓冲层法外延生长a面GaN薄膜及应力研究被引量:5
2007年
采用MOCVD技术在r面蓝宝石衬底上采用两步AlN缓冲层法外延制备了a面GaN薄膜.利用高分辨X射线衍射技术和Raman散射技术分析了样品的质量以及外延膜中的残余应力.实验结果表明:样品的(11■0)面的X射线双晶摇摆曲线的半峰宽仅为0.193°,Raman光谱中E2高频模的半峰宽仅为3.9cm-1,这些说明a面GaN薄膜具有较好的晶体质量;X射线研究结果表明样品与衬底的位相关系为:[11■0]GaN‖[1■02]sapphire,[0001]GaN‖[■101]sapphire和[■100]GaN‖[11■0]sapphire;高分辨X射线和Raman散射谱的残余应力研究表明,采用两步AlN缓冲层法制备的a面GaN薄膜在平面内的残余应力大小与用低温GaN缓冲层法制备的a面GaN薄膜不同,我们认为这是由引入AlN带来的晶格失配和热失配的变化引起的.
颜建锋张洁郭丽伟朱学亮彭铭曾贾海强陈弘周均铭
关键词:X射线衍射RAMAN谱
一种含有多量子阱结构的InGaN系宽谱太阳能电池
本发明涉及一种含有多量子阱结构的InGaN系宽谱太阳能电池,其包括一衬底,其上依次为过渡层,p型InGaN层,多量子阱结构层,n型InGaN层,所述的多量子阱结构层为两种不同组分的InGaN合金材料组成,其一为具有窄带隙...
郭丽伟陈弘周均铭张洁何涛
文献传递
n型AlxGa1-xN材料的电学和光学性质
本文介绍了无裂纹高导电性n型AlxGa1-xN的MOCVD生长及其电学、光学和表面形貌性质。通过AlN两步生长法,有效地解决了AlxGa1-xN外延薄膜易裂的难题,并且对其生长进行优化,减少了AlxGa1-xN外延薄膜中...
彭铭曾张洁朱学亮郭丽伟贾海强陈弘周均铭
关键词:半导体薄膜
文献传递
AlN外延薄膜的生长和特征
本文研究了AlN薄膜的晶体质量、表面形貌、应力等性质与AlN生长工艺的依赖关系。通过对低温成核厚度、成核温度和高温生长AlN所用Ⅴ/Ⅲ比的研究,制备出了具有较好晶体质量的AlN薄膜。高分辨三晶X射线衍射给出AlN薄膜的(...
张洁彭铭曾朱学亮颜建锋郭丽伟贾海强陈弘周均铭
关键词:半导体薄膜薄膜生长薄膜形貌
文献传递
AlN外延薄膜的生长和特征被引量:1
2007年
文章研究了A lN薄膜的晶体质量、表面形貌、应力等性质与A lN生长工艺的依赖关系。通过对低温成核厚度、成核温度和高温生长A lN所用Ⅴ/Ⅲ比的研究,制备出了具有较好晶体质量的A lN薄膜。高分辨三晶X射线衍射给出A lN薄膜的(002)和(105)的半高宽分别为16.9arcsec和615arcsec,接近国际上报道的较好结果。原子力显微镜对表面形貌的分析表明A lN薄膜的粗糙度为5.7nm。拉曼光谱表明E2(high)模向高能方向移动,说明蓝宝石上外延的A lN薄膜处于压应变状态。光学吸收谱在204nm处具有陡峭的带边吸收,也表明了A lN外延薄膜具有较好地晶体质量。
张洁彭铭曾朱学亮颜建锋郭丽伟贾海强陈弘周均铭
关键词:ALNMOCVD表面形貌光学吸收
深紫外AlGaN材料的生长与物性研究
宽禁带III-v族氮化物(InN、GaN、AIN以及由它们组成的合金固熔体)是直接带隙材料,其覆盖从红外到紫外间的光谱范围。其中,A1-xGa1-xN三元合金的禁带宽度从3.4eV(GaN)到6.2eV(AIN)可通过A...
张洁
关键词:铝镓氮金属有机物
共1页<1>
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