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周智慧

作品数：2 被引量：1H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇专利

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇单晶
  • 1篇扫描电子显微...
  • 1篇砷化镓
  • 1篇砷化镓单晶
  • 1篇抛光
  • 1篇抛光液
  • 1篇密度检测
  • 1篇化学抛光
  • 1篇化学抛光液
  • 1篇缓冲层
  • 1篇发光
  • 1篇发光特性
  • 1篇GAN薄膜
  • 1篇掺杂
  • 1篇大尺寸

机构

  • 2篇中国电子科技...
  • 1篇西安电子科技...

作者

  • 2篇周智慧
  • 1篇章安辉
  • 1篇汝琼娜
  • 1篇王香泉
  • 1篇冯倩
  • 1篇李静
  • 1篇何秀坤

传媒

  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 1篇2006
  • 1篇2005
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
GaN薄膜发光特性的研究被引量：1
2005年
通过扫描电子显微镜和室温光荧光谱仪研究了生长气氛、缓冲层厚度、掺杂浓度不同对GaN薄膜发光特性的影响。实验证明,缓冲层可以较好地改善外延膜的结构和表面形貌。n型GaN薄膜的光荧光谱图显示,主峰的积分强度随着掺硅浓度的增高而增高,黄带峰的发光强度反而下降。
李静冯倩何秀坤汝琼娜周智慧
关键词：扫描电子显微镜缓冲层掺杂
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周智慧章安辉王香泉
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