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文献类型

  • 8篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 2篇学位论文

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇医药卫生
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 8篇TIN薄膜
  • 6篇气相沉积
  • 5篇反应气体
  • 4篇氮化
  • 4篇氮化钛
  • 4篇化学气相
  • 4篇化学气相沉积
  • 3篇低辐射
  • 3篇度条件
  • 3篇气相
  • 3篇气相沉积法
  • 3篇氢氟酸
  • 3篇温度
  • 3篇温度条件
  • 3篇化学气相沉积...
  • 3篇光学
  • 3篇光学性
  • 3篇光学性能
  • 3篇玻璃基
  • 3篇玻璃基板

机构

  • 12篇浙江大学

作者

  • 12篇郑鹏飞
  • 10篇韩高荣
  • 10篇赵高凌
  • 8篇张天播
  • 3篇翁文剑
  • 2篇汪建勋
  • 2篇沈鸽
  • 2篇杜丕一
  • 1篇吴历清
  • 1篇徐刚

传媒

  • 1篇科学通报
  • 1篇硅酸盐学报

年份

  • 1篇2021
  • 2篇2009
  • 5篇2007
  • 3篇2006
  • 1篇2005
12 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
喷涂距离对APCVD制备的TiN薄膜性能的影响(英文)被引量:2
2007年
以TiCl4和NH3为原料,用常压化学气相沉积法在玻璃基板表面沉积得到了TiN薄膜。采用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、电阻仪、紫外-可见光谱仪等研究了喷涂距离(输入TiCl4管道末端到基板之间的距离)对沉积的TiN薄膜的结晶性能和表面形貌,以及薄膜的电学性能和光学性能的影响。结果表明:当喷涂距离为5cm和10cm时,玻璃基板表面形成电阻较高、反射率较低的较疏松薄膜。当喷涂距离增加到13cm和15cm时,可以得到结晶良好、低电阻、高反射、致密的TiN薄膜。当喷涂距离进一步增加到20cm以上,得到的薄膜的电阻率随之升高而反射率下降。对喷涂距离对薄膜性能的影响机理进行了分析,认为喷涂距离的变化会影响扩散到达并吸附在基板表面的反应物分子数量比例,进而影响沉积薄膜的性能。
张天播赵高凌郑鹏飞徐刚汪建勋翁文剑韩高荣
关键词:氮化钛常压化学气相沉积
一种涂覆氮化钛的玻璃及其制备方法
本发明涉及涂覆氮化钛的玻璃及其制备方法,它由玻璃和涂在玻璃上的氮化钛薄膜组成。制备步骤如下:将经过清洗的玻璃基片放入气相沉积反应室,反应室抽真空,通入N<Sub>2</Sub>;在保持抽真空的状态下,将反应室加热至500...
赵高凌郑鹏飞韩高荣翁文剑杜丕一沈鸽
文献传递
在玻璃基板上沉积TiN薄膜的方法
本发明公开了在玻璃基板上沉积TiN薄膜的方法,采用的是化学气相沉积法,通过调节反应气体进气管道的喷头和玻璃基板间的距离,实现控制沉积在玻璃基板上TiN薄膜的电阻率及表面形貌、光学性能等。本发明方法比传统的通过调节反应温度...
赵高凌张天播郑鹏飞韩高荣
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在玻璃基板上沉积TiN薄膜的方法
本发明公开了在玻璃基板上沉积TiN薄膜的方法,采用的是化学气相沉积法,通过调节反应气体进气管道的喷头和玻璃基板间的距离,实现控制沉积在玻璃基板上TiN薄膜的电阻率及表面形貌、光学性能等。本发明方法比传统的通过调节反应温度...
赵高凌张天播郑鹏飞韩高荣
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通过掺杂V改善TiN薄膜导电性能的方法
本发明公开一种通过掺杂V改善TiN薄膜导电性能的方法。方法步骤如下:1)用10%的氢氟酸清洗玻璃基板;2)将玻璃基板放入反应室中,反应室抽真空,并通入N<Sub>2</Sub>对反应室进行清洗;3)将反应室加热至450-...
赵高凌张天播郑鹏飞韩高荣
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通过掺杂V改善TiN薄膜导电性能的方法
本发明公开一种通过掺杂V改善TiN薄膜导电性能的方法。方法步骤如下:1)用10%的氢氟酸清洗玻璃基板;2)将玻璃基板放入反应室中,反应室抽真空,并通入N<Sub>2</Sub>对反应室进行清洗;3)将反应室加热至450-...
赵高凌张天播郑鹏飞韩高荣
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在玻璃基板上沉积TiN薄膜的方法
本发明公开的在玻璃基板上沉积TiN薄膜的方法,其步骤如下:将经清洗的玻璃基板放入化学气相沉积装置反应室的石墨支架上,反应室抽真空至-0.02Mpa,并通入N<Sub>2</Sub>对反应室进行清洗;调节进气管道喷头和玻璃...
赵高凌张天播郑鹏飞韩高荣
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通过热处理使TiN薄膜具有自清洁性能的方法
本发明公开了一种通过热处理使TiN薄膜表面具有自清洁性能的方法。方法步骤如下:1)用10%的氢氟酸清洗玻璃基板;2)将玻璃基板放入气相沉积反应室,通入TiCl<Sub>4</Sub>、NH<Sub>3</Sub>和N<S...
赵高凌张天播郑鹏飞韩高荣
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一种涂覆氮化钛的玻璃及其制备方法
本发明涉及涂覆氮化钛的玻璃及其制备方法,它由玻璃和涂在玻璃上的氮化钛薄膜组成。制备步骤如下:将经过清洗的玻璃基片放入气相沉积反应室,反应室抽真空,通入N<Sub>2</Sub>;在保持抽真空的状态下,将反应室加热至500...
赵高凌郑鹏飞韩高荣翁文剑杜丕一沈鸽
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TiN镀膜玻璃的制备机理及其光学电学性能研究
全球能源日益枯竭的问题越来越受到各个国家的重视,甚至已经上升到了国家战略的高度。节省现有的有限资源也成为各国竞相采用的有效措施。目前广泛应用在建筑上的节能型镀膜玻璃主要有低辐射镀膜玻璃和阳光控制功能镀膜玻璃。低辐射镀膜玻...
郑鹏飞
关键词:TIN薄膜节能光电性能
文献传递
共2页<12>
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