谢东珠
- 作品数：13 被引量：9H指数：2
- 供职机构：上海师范大学数理学院更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金上海市教委科研基金更多>>
- 相关领域：理学核科学技术化学工程电子电信更多>>
- 斜辐照激光等离子体辐射X光子特性被引量：5
- 2008年
- 在神光Ⅱ高功率激光装置上,实验研究了激光斜辐照形成的激光等离子体辐射X射线光子的特性及真空喷射热等离子体流的方向。采用针孔X射线相机测量了钕玻璃激光(基频1.053μm)辐照铝靶形成的激光铝等离子体辐射的X射线光子的空间分布,并针对正入射和入射激光斜辐照情况下测得的X射线光子量及特性进行了分析和比较。结果发现:入射激光斜辐照固体平面靶产生的向真空喷射热等离子体流的方向是垂直靶面(即法线方向);正入射和斜入射激光叠加驱动靶时,一定程度上能改善激光辐照的均匀性,但等离子体源辐射的X射线光子数并未发现显著地增加;当激光斜辐照与靶相互作用时,激光能量被等离子体吸收下降。
- 王瑞荣陈伟民谢东珠
- 关键词：均匀性
- 高剂量铂和钇离子注入Al_2O_3单晶的表面改性
- 1999年
- 研究了＜0001＞和＜1210＞晶向α－Al2O3单晶在高剂量的Y、Pt离子注入后产生的损伤，注入层的性能变化和退火行为。实验结果表明，在室温，171keV、1×1017／cm2Y离子注入的＜1210＞α－Al2O3单晶的表面层约有139nm厚被无定形化。而158keV、9×1017／cm2Pt离子注入的＜0001＞α-Al2O3单晶的表面层不产生无定形，且实际离子注入进衬底的剂量只有2．65×1016／cm2，绝大部分在注入过程中被溅射掉。注入后其表面层的硬度提高了大约50％。表面层的电阻率降低了12个数量级。在空气中退火后形成了随机取向的纳米量级大小的Pt微晶，表面层的硬度也有所降低，但仍稍高于未注入的单晶硬度。
- 谢东珠朱德彰潘浩昌曹德新徐洪杰
- 关键词：离子注入表面改性铂钇
- 铂和硫双离子注入YSZ单晶的损伤及其热退火行为
- 1997年
- 谢东珠朱德彰
- 关键词：离子注入铂离子硫离子热退火
- 扫描电子显微镜的扫描电路研制
- 2012年
- 报导了采用高速、高精度、低噪声的数模转换器设计扫描电子显微镜的扫描电路,其扫描速率可达到每秒106像素,讨论了电路中的噪声对图像分辨率的影响,提出了一种矫正扫描线圈电感所引起的电流非线性的方法,应用到扫描电子显微镜DXP-10中,得到了较好的扫描图像.
- 涂晶晶忻云龙谢东珠
- 关键词：电子显微镜模拟电路噪声抑制
- 聚焦离子束刻蚀多晶TiNi薄膜的表面形貌
- 2005年
- 报道了TiNi薄膜的聚焦离子束刻蚀特征及刻蚀后的表面形貌.测量结果表明薄膜的表面粗糙度随刻蚀深度呈非线性变化,当刻蚀深度等于0.1μm时,表面粗糙度为最小(5.26nm,刻蚀前为14.88nm);刻蚀深度小于0.1μm时,表面粗糙度随刻蚀深度的增大而减小;当刻蚀深度大于0.1μm时表面粗糙度随刻蚀深度增大而增大,其原因是刻蚀深度大于0.1μm后表面出现了清晰的周期性条纹结构.此外,表面粗糙度随聚焦离子束流的增大而减小,当离子束流为2.5nA时,表面粗糙度从刻蚀前的14.88nm减小到4.67nm.
- 谢东珠
- 关键词：形状记忆合金离子束刻蚀表面形貌
- Si纳米结构的制备及其热稳定性
- 2005年
- 研究了纳米尺寸Si结构的热稳定性。采用Ga聚焦离子束技术在单晶硅表面刻蚀出纳米尺寸的条形光栅结构,在流动的Ar气氛保护下进行恒温热退火,用扫描电子显微镜和原子力显微镜分析了热退火后的结构变化。实验结果表明在较高的退火温度下纳米尺寸的硅结构是不稳定的,其尺寸由于热扩散而变小,同时在Si表面有镓析出并形成纳米颗粒。
- 谢东珠B.K.A.Ngoi
- 关键词：聚焦离子束热稳定性
- 硫对注入YSZ单晶的金属铂在退火过程中结晶的影响
- 1998年
- 用卢瑟福背散射－沟道技术（ＲＢＳ－Ｃ）和Ｘ射线衍射技术（ＸＲＤ）研究了Ｐｔ和Ｓ注入ＹＳＺ（Ｙ２Ｏ３稳定的ＺｒＯ２）后产生的损伤和退火过程中损伤的恢复及注入Ｐｔ的晶化。ＲＢＳ－Ｃ分析表明ＹＳＺ在室温下注入存在较强自退火效应；ＸＲＤ分析结果示出硫对铂的晶化产生很大影响。
- 谢东珠朱德彰曹德新潘浩昌徐洪杰
- 关键词：离子注入氧化钇YSZ铂氧化锆
- 弛豫铁电0.74Pb(Mg_(1/3)Nb_(2/3))O_3-0.26PbTiO_3薄膜的微结构和光学性能(英文)被引量：1
- 2012年
- 采用磁控溅射法,选用LaNi O3作为缓冲层,在硅基片上制备出了0.74Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-0.26PbTiO3弛豫铁电薄膜.研究了沉积温度对薄膜的微结构和光学性能的影响.其中,沉积温度为500oC时制备的薄膜,不仅具有纯的钙钛矿结构,高度(110)择优取向、致密、无裂纹的形貌、而且具有最大的剩余极化,大小为17.2μC/cm2.使用柯西模型进行拟合反射谱,分析得到薄膜的折射率和消光系数.在波长为633 nm时,500oC沉积的薄膜的折射率大小为2.41.另外,薄膜的光学带隙在2.97～3.22 eV范围内.并初步讨论了这些薄膜的光学性能的差异.
- 田玥唐艳学周丹胡志娟王飞飞陈心满刘锋王涛谢东珠孙大志石旺舟胡古今孔伟金
- 关键词：消光系数
- PZT薄膜的制备及特性被引量：1
- 2007年
- 用电子束蒸发法在n-Si(100)衬底上制备了Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3(PZT)多晶薄膜,研究了薄膜的表面形貌、结晶特性、红外吸收特性随生长温度和退火温度的变化关系,发现较高的生长温度有利于(101)方向晶粒的择优生长,较高的退火温度能促进(101)方向的晶粒向(110)方向的晶粒转变,(110)择优方向的薄膜对长红外波段的吸收比(101)择优方向的薄膜明显增强。
- 任玉磊谢东珠忻云龙
- 关键词：表面形貌SEMX射线衍射
- 蓝宝石的离子注入研究
- 离子注入技术不仅在半导体、金属材料上得到了成功的应用,近年来,在绝缘材料方面也有广泛的应用。例如在陶瓷材料改性上的应用也十分引人注目。在 Al
- 谢东珠曹德新朱德彰
- 文献传递
