芦奇力
- 作品数：3 被引量：0H指数：0
- 供职机构：北京工业大学更多>>
- 发文基金：国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学电子电信更多>>
- a-Si:H薄膜的MW ECR CVD沉积与FTIR分析
- 采用Si和石英玻璃为衬底,微波功率为300W.气体采用SiH<,4>和H<,2>,沉积时间为60分,工作气压为0.5pa制备了a-Si:H薄膜,并用FTIR1020傅立叶转换红外光谱仪对其进行了测...
- 宋道颖宋雪梅陈蔚忠冯贞健芦奇力鲍旭红陈光华
- 关键词：化学气相沉积红外光谱
- MWECR CVD制备a-Si:H薄膜的沉积速率研究和红外分析
- 为了获得高速沉积下的高品质a-Si∶H薄膜,使其能够产业化,微波电子回旋共振化学气相沉积(MWECR CVD)方法在国际上受到了人们广泛的重视.MWECRCVD方法具有电子和离子产生率高等优点,人们期望它能在较高的沉积速...
- 芦奇力
- 关键词：红外透射谱沉积速率氢含量非晶硅
- 文献传递
- MWECRCVD法高速沉积α-Si:H薄膜的红外光谱研究
- 2002年
- 应用微波电子回旋共振化学气相沉积 (MWECRCVD)方法 ,在较高速度下沉积了α Si:H薄膜 ,用FTIR红外谱仪研究了α Si:H薄膜的结构特性随H2 /SiH4 、沉积温度和沉积速率变化关系 ,并对 2 0 0 0cm-1附近的特征吸收峰用高斯函数进行了拟合分析 ,获得了沉积高质量α Si:H薄膜的最佳工艺条件。
- 宋雪梅宋道颖陈蔚忠芦奇力冯贞健鲍旭红邓金祥陈光华
