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陈蔚忠

作品数:2 被引量:0H指数:0
供职机构:北京工业大学材料科学与工程学院新型功能材料教育部重点实验室更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇理学

主题

  • 2篇光谱
  • 2篇红外
  • 2篇红外光
  • 2篇红外光谱
  • 1篇气相沉积
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇光谱研究
  • 1篇红外光谱研究
  • 1篇A-SI:H
  • 1篇A-SI:H...
  • 1篇CVD法
  • 1篇ECR
  • 1篇MW

机构

  • 2篇北京工业大学

作者

  • 2篇陈光华
  • 2篇冯贞健
  • 2篇宋雪梅
  • 2篇陈蔚忠
  • 2篇鲍旭红
  • 2篇芦奇力
  • 2篇宋道颖
  • 1篇邓金祥

传媒

  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇中国太阳能学...

年份

  • 1篇2002
  • 1篇2001
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
a-Si:H薄膜的MW ECR CVD沉积与FTIR分析
采用Si和石英玻璃为衬底,微波功率为300W.气体采用SiH<,4>和H<,2>,沉积时间为60分,工作气压为0.5pa制备了a-Si:H薄膜,并用FTIR1020傅立叶转换红外光谱仪对其进行了测...
宋道颖宋雪梅陈蔚忠冯贞健芦奇力鲍旭红陈光华
关键词:化学气相沉积红外光谱
MWECRCVD法高速沉积α-Si:H薄膜的红外光谱研究
2002年
应用微波电子回旋共振化学气相沉积 (MWECRCVD)方法 ,在较高速度下沉积了α Si:H薄膜 ,用FTIR红外谱仪研究了α Si:H薄膜的结构特性随H2 /SiH4 、沉积温度和沉积速率变化关系 ,并对 2 0 0 0cm-1附近的特征吸收峰用高斯函数进行了拟合分析 ,获得了沉积高质量α Si:H薄膜的最佳工艺条件。
宋雪梅宋道颖陈蔚忠芦奇力冯贞健鲍旭红邓金祥陈光华
共1页<1>
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