田杨超
- 作品数：10 被引量：34H指数：4
- 供职机构：中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划安徽省自然科学基金更多>>
- 相关领域：核科学技术医药卫生电子电信理学更多>>
- 离子束刻蚀工艺误差对DOE器件的影响被引量：5
- 2007年
- 针对衍射光学元件(DOE)的离子束刻蚀工艺,结合掩模套刻过程实例,本文提出了刻蚀误差面形分布的概念。在标量衍射的夫琅和费原理上,进行了误差数值模拟分析及讨论。模拟分析和实验数据结果表明,误差的面形分布在DOE器件的衍射焦斑中心会产生一个明显的光强畸变毛刺亮点,严重破坏了靶场照明的均匀性。
- 刘强张晓波邬融田杨超李永平
- 关键词：衍射光学元件离子束刻蚀
- 重金属铬、铜、汞经不同途径神经毒性的对比研究被引量：8
- 2009年
- [目的]探讨几种重金属通过不同的通路对小鼠行为学的影响。[方法]昆明鼠经LashleyⅢH-W水迷宫筛选后,剔除学习记忆差的小鼠,通过慢性滴鼻给药和灌胃的途径,用水迷宫、洞板、自主活动箱测定小鼠给药前后行为学的改变,并利用同步辐射技术,观察小鼠脑部的形态学改变。对通过2种给药途径所造成的神经毒性进行对比研究,探讨重金属通过不同通路对机体所造成的毒性差异及其相关机制。[结果]重铬酸钾滴鼻组用药前后洞板探索行为有明显变化(P<0.05),灌胃组给药前后无明显变化;几组重金属滴鼻给药组前后比较,神经系统的兴奋性有所增加,其中重铬酸钾滴鼻组和硫酸铜滴鼻组较为明显,灌胃组给药前后无明显变化;重铬酸钾滴鼻组小鼠和硫酸铜滴鼻组小鼠上台潜伏期有所增长,靶象限活动时间百分比、穿台次数减少,游泳速度有所减慢,灌胃组给药后潜伏期反有所缩短;HE染色和同步辐射观察显示,重铬酸钾滴鼻组小鼠海马部位神经元肿胀明显,空泡变性,可见胶质水肿,部分细胞坏死,并可见呈筛状的坏死灶,胞质中一些区域透光增加,灌胃组无明显改变。[结论]这几种重金属离子在较低浓度时即可通过嗅觉通路沉积于脑,并能通过嗅觉途径改变小鼠的行为学,灌胃组在此浓度时对小鼠的行为学没有较大的改变,有些金属离子可以作为微量元素参与新陈代谢,对神经系统不造成损害。
- 牛利华胡庆东李光武吴问全田杨超
- 关键词：重金属嗅觉通路灌胃神经毒性
- SU-8紫外深度光刻的误差及修正(英文)被引量：4
- 2007年
- 在深紫外LIGA加工中,制作高精度大高宽比的微器件是很困难的。难点在于SU-8光刻胶对紫外光的吸收系数随着波长变短而很快变大,而且其穿透深度也相应迅速变小;同时由于紫外光的衍射效应,获得高精度的大高宽比结构并不容易。本文深入研究了影响紫外深度光刻图形转移精度的如下因素:衍射效应、曝光剂量、紫外光波长和蝇眼透镜的分布等等。建立了基于模型区域的校正系统,该校正系统采用了分类分区域的思想将掩模图形按其畸变的特点进行了分类,在校正过程中对不同的类别分别建立校正区域,在每一校正区域内进行校正优化处理和校正评价,这种基于模型的分类分区域评价思想,使得校正过程有效且实时,该校正方法不仅降低了校正的复杂性,同时提高了校正的效率。
- 郑津津陈有梅周洪军田杨超刘刚李晓光沈连婠
- 关键词：SU-8光刻胶掩模
- 一种用于制作量子线超微细图形的光刻掩模
- 本实用新型涉及制作量子线超微细图形过程中所用的掩模。本掩模包括有透明衬底和量子金属线图形，其特征在于所述量子金属线图形依附在透明衬底垂直凸起的光栅的两个侧壁上，本掩模不仅具有稳定性好，使用寿命长的优点，而且由于透明光栅的...
- 付绍军夏安东田杨超洪义麟阚娅陶晓明胡一贯张新夷
- 文献传递
- 多台阶衍射光学元件的工艺优化被引量：13
- 2008年
- 通过对多台阶衍射光学元件(MDOE)刻蚀工艺中的误差分析,提出了一个反映整体刻蚀误差的参数———误差偏度.重点研究了误差偏度的变化对多台阶衍射光学元件光束整形效果的影响,发现在误差偏度曲线中存在一个能使刻蚀误差影响减弱的平坦区间.提出了在刻蚀工艺上以控制刻蚀深度来改善多台阶衍射光学元件器件实际照明效果的一种方法.实验结果表明,经过工艺优化后的MDOE的光场参数峰值(PV)下降了近30%.
- 刘强邬融张晓波李永平田杨超
- 关键词：衍射离子束刻蚀光束整形
- 一种量子线超微细图形的制作方法
- 本发明涉及量子线超微细图线的制作方法，包括利用陡侧壁x光栅制造初始光栅光刻掩模图形，将其转换为刻蚀掩模图形后再转换到所需基片上，其特征在于将初始光栅图形转换到为刻蚀掩模的过程中，先将图形转移到支撑材料薄层上，形成支撑光栅...
- 付绍军夏安东洪义麟田杨超胡一贯陶晓明阚娅张新夷
- 文献传递
- 同步辐射超微细加工技术研究
- 胡一贯田杨超
- 关键词：超微结构X辐射加速器光束束线超精加工
- 一种量子线超微细图形的制作方法
- 本发明涉及量子线超微细图线的制作方法，包括利用陡侧壁x光栅制造初始光栅光刻掩模图形，将其转换为刻蚀掩模图形后再转换到所需基片上，其特征在于将初始光栅图形转换到为刻蚀掩模的过程中，先将图形转换到支撑材料薄层上，形成支撑光栅...
- 付绍军夏安东洪义麟田杨超胡一贯陶晓明阚娅张新夷
- 文献传递
- 色分离光栅对光束近场调制影响实验研究被引量：2
- 2005年
- 介绍了一种用于惯性约束聚变研究的CSG衍射光栅研制情况,衍射光栅的制作采用离子束刻蚀的方法,光栅刻蚀面积为80mm×80mm。利用星光Ⅱ高功率固体激光装置实验平台对光路中插入衍射光栅后的光束近场调制变化进行了实验测试。实验结果表明,在低功率密度条件下(0.005GW/cm2)光路中插入CSG衍射光栅后,光束近场调制度没有明显的增加,相对于光束本身的调制来说,由光栅带来的调制为细微的小量调制。
- 王成程郑万国马驰高福华田杨超贾怀庭袁静魏晓峰
- 关键词：衍射光栅高功率固体激光驱动器功率密度
