胡一贯
- 作品数：23 被引量：63H指数：6
- 供职机构：中国科学技术大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学农业科学自动化与计算机技术更多>>
- 电镀法制作活动微结构的牺牲层工艺被引量：6
- 2000年
- 报道了一种采用电镀方法制作活动微结构的牺牲层工艺 ,该牺牲层技术可用于微电子机械装置中活动部件的制作。利用电镀形成Zn牺牲层 ,结合微细加工技术中的LIGA工艺对该工艺进行了验证 ,制作出可活动的微齿轮结构 ,齿轮直径为2 5 0 μm。
- 陈大鹏刘刚田扬超胡一贯阚娅张新夷
- 关键词：牺牲层电镀微细加工LIGA技术
- CVD金刚石薄膜的抗腐蚀性研究被引量：2
- 2001年
- 用微波等离子体化学气相沉积法在硅衬底上生长了金刚石薄膜 ;通过扫描电子显微镜和喇曼散射光谱对其性质进行了表征。将生成的样品分别放在氢氧化钾 ,四乙基氢氧化铵以及氢氟酸、硝酸和冰醋酸混合液中进行腐蚀研究 ,结果发现在氢氧化钾腐蚀液中 ,金刚石薄膜出现片状脱落现象 ,而在后两种腐蚀液中却表现出良好的抗腐蚀性。
- 张东平乐德芬胡一贯
- 关键词：化学气相沉积金刚石薄膜
- 电子回旋共振等离子技术被引量：2
- 1991年
- 本文介绍了电子回旋共振等离子技术的原理、特征及在半导体工艺方面的应用。
- 胡一贯
- 关键词：ECR离子源等离子技术
- 一种量子线超微细图形的制作方法
- 本发明涉及量子线超微细图线的制作方法，包括利用陡侧壁x光栅制造初始光栅光刻掩模图形，将其转换为刻蚀掩模图形后再转换到所需基片上，其特征在于将初始光栅图形转换到为刻蚀掩模的过程中，先将图形转移到支撑材料薄层上，形成支撑光栅...
- 付绍军夏安东洪义麟田杨超胡一贯陶晓明阚娅张新夷
- 文献传递
- 同步辐射辐照下Mo/Si,Pd/Si多层膜的稳定性被引量：1
- 1995年
- 随着众多同步辐射装置的建成和完善,软X射线光学得到迅速发展.由于同步辐射能量密度较高,可能使光束线上的插入元件温升很高.因为辐照对化学反应有促进作用,故此在同步辐射辐照下,作为反射。
- 伍历文王兵刘文汉周凌云殷士龙田扬超胡一贯
- 关键词：多层膜辐照稳定性钼
- 木材断裂过程的研究被引量：21
- 2000年
- 运用同步辐射光源，对杉木和马尾松径、弦向切片在拉应力作用下的破坏过程进行了观察．结果显示：木材在径向拉伸荷载的作用下，易在早、晚材分界处出现裂纹，并向早材部分扩展，裂纹扩展路径不规则，在细胞壁处被终止；木材在弦向拉伸荷载的作用下，易在木射线处出现裂纹，并很快在其附近产生更多的裂纹，直至破坏。木材预制裂纹与木材纹理垂直，受顺纹拉伸荷载的作用时，裂纹尖端不沿预制方向扩展，而是顺纹扩展。木射线和纹孔对裂纹扩展起阻碍和终止作用。
- 江泽慧任海青胡一贯刘刚阚娅
- 关键词：杉木马尾松木材力学性质
- 一种用于制作量子线超微细图形的光刻掩模
- 本实用新型涉及制作量子线超微细图形过程中所用的掩模。本掩模包括有透明衬底和量子金属线图形，其特征在于所述量子金属线图形依附在透明衬底垂直凸起的光栅的两个侧壁上，本掩模不仅具有稳定性好，使用寿命长的优点，而且由于透明光栅的...
- 付绍军夏安东田杨超洪义麟阚娅陶晓明胡一贯张新夷
- 文献传递
- 同步辐射X射线光刻应用新领域──LIGA技术被引量：8
- 1994年
- 介绍了一种超微细加工新方法－ＬＩＧＡ技术，并就ＬＩＧＡ技术对掩模材料、光刻胶和光源的要求予以讨论，同时还介绍了国外在这方面的最新研究成果。ＬＩＧＡ技术是深度Ｘ射线刻蚀、电铸成型和塑料铸模等技术相结合的综合技术，是制造微型机械最有前途的方法。与传统半导体超微细加工方法相比，ＬＩＧＡ技术有以下优点：（１）用材广泛，可以是金属、陶瓷、聚合物及玻璃；（２）可加工任意复杂的图形结构；（３）可制造有较大高宽比的超微细元件；（４）加工精度高，可达亚微米；（５）可重复复制，工业上能批量生产，成本低。
- 田扬超胡一贯刘泽文阚娅
- 关键词：LIGA技术X射线光刻光刻
- 一种制作活动微结构的方法
- 本发明制作活动微结构的方法，特征是先在导电的衬底上涂覆光刻胶，根据活动微结构形状制作光刻掩模，光刻、显影，得到和掩模上图形相反的光刻胶图形；采用电镀法直接制作牺牲层；将残留的光刻胶去除干净，再涂覆一层光刻胶，采用光刻和微...
- 陈大鹏张新夷田扬超刘刚胡一贯阚娅洪义麟陶晓明霍同林付绍军
- 文献传递
- 同步辐射X射线光刻初步实验结果
- 1994年
- 光束线由前端、Be窗、激光对准、曝光快门、镜箱、3个VAT气动阀、差分系统、单次曝光机及微机测量控制系统等组成.
- 刘泽文田扬超胡一贯阚娅
- 关键词：X射线光刻光刻PMMA
