徐建伟
- 作品数：10 被引量：99H指数：5
- 供职机构：兰州大学物理科学与技术学院等离子体与金属材料研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金甘肃省科技攻关计划教育部“优秀青年教师资助计划”更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学冶金工程更多>>
- 工艺参数对阳极弧放电等离子体制备镍纳米粉的影响被引量：15
- 2004年
- 在Ar惰性保护气氛中,采用阳极弧放电等离子方法用自行研制的装置制备出了高纯Ni纳米粉末。研究了在制备过程中电弧电流、气体压力等工艺参数对纳米粉产率及粒度的影响。利用XRD、TEM对制得的样品的形貌、晶体结构、粒度及其分布进行测定。结果表明,适当控制某些工艺参数就能制取粒径范围在20 nm^100 nm的纳米粉,在其它工艺参数不变条件下,气压升高或电弧电流增大,都会使粒度增大,产率提高。
- 魏智强温贤伦王君吴志国徐建伟吴现成闫鹏勋
- 关键词：镍纳米粉粒度气体压力
- 高质量非晶金刚石薄膜的制备研究被引量：1
- 2006年
- 利用自行研制的磁过滤等离子体技术（FCAP），并创造性地对衬底施加低频率周期性负偏压，在室温下的单晶硅表面上制备了高质量的非晶金刚石薄膜。用扫描电子显微镜（SEM），原子力显微镜（AFM），红外吸收光谱（IR），纳米硬度计和摩擦试验仪对制备的非晶金刚石薄膜进行了结构和性能表征。实验结果表明：制备的非晶金刚石薄膜表面十分光滑，表面粗糙度仅为0．1nm；薄膜中sp^3键成份高达70．7％，对应薄膜硬度达到74．8GPa，接近金刚石的硬度；薄膜摩擦系数在0．12-0．16之间。文中也讨论了偏压类型对沉积薄膜结构的影响。
- 闫鹏勋李晓春李春崇二敏刘洋李鑫徐建伟
- 阳极弧等离子体制备镍纳米粉被引量：29
- 2003年
- 采用自行研制的实验装置 ,用阳极弧放电等离子体方法制备了高纯镍纳米粉末。利用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜 (TEM)和相应选区电子衍射 (ED)、BET吸附等对样品的成分、形貌、晶体结构、晶格常数、粒度及其分布、比表面积进行了分析。建立了关于金属超微粒产生过程的近似模型 ,分析了纳米粉的形成和生长机制 ,并对整个工艺过程影响纳米粉性能的各种工艺参数进行了理论探讨。结果表明 :所制得的镍纳米粉纯度高 ,晶格结构与相应的致密体相同 ,为fcc相结构 ,平均粒径为 4 7nm ,粒径范围在 2 0～ 70nm ,比表面积为14 .2 3m2 / g ,呈规则的球形链状分布 ,并发现纳米晶体的晶格常数发生膨胀。
- 魏智强温贤伦王君吴志国徐建伟吴现成闫鹏勋
- 关键词：纳米粉镍粉纳米材料
- 纳米结构TiN薄膜的制备与性能研究被引量：6
- 2004年
- 利用自行研制的磁过滤等离子体设备 ,在室温条件下的不锈钢基底上成功地制备了性能良好的纳米结构TiN薄膜。运用原子力显微镜和X射线衍射仪对其结构和形貌进行了表征。利用纳米硬度仪测量了TiN薄膜的硬度和弹性模量。结果显示 :沉积的TiN薄膜表面非常平整光滑 ,致密而无缺陷 ;硬度远高于粗晶TiN的硬度 ;TiN晶粒尺寸在 3 0～ 5 0nm ;
- 闫鹏勋吴志国徐建伟张玉娟李鑫张伟伟
- 关键词：TIN薄膜室温条件等离子体性能研究
- 磁过滤阴极弧等离子体镀膜设备的研发及DLC纳米尖点阵列膜的制备与FEE性能的研究
- 徐建伟
- 在室温条件下制备高质量纳米结构TiN薄膜研究被引量：8
- 2004年
- 在室温条件下,利用磁过滤等离子体在单晶硅和不锈钢表面上制备了性能优异的纳米结构TiN薄膜.运用原子力显微镜和掠角入射X射线衍射仪对其结构与形貌进行了表征,利用纳米压痕仪测量了TiN薄膜的硬度和弹性模量.结果表明:TiN薄膜表面光滑,致密,无柱状晶;TiN晶粒的平均尺寸为50nm,薄膜硬度达50 GPa,是传统CVD和PVD技术沉积氮化钛的两倍多;XRD衍射试验表明,纳米TiN的衍射角都普遍向小角度移动,TiN晶粒沿(111)择优生长.
- 闫鹏勋吴志国徐建伟张玉娟张伟伟刘伟民
- 关键词：TIN
- 非晶金刚石纳米棒阵列制备及其场发射性能被引量：1
- 2005年
- 采用磁过滤等离子体结合氧化铝模板技术制备了具有优异场发射性能的非晶金刚石纳米棒阵列膜.显微分析表明,阵列棒分布均匀,棒密度达109cm?2.场发射性能测试表明,其最低阈值电场为0.16V/μm,在2V/μm较低电场值下可获得最大电流密度180mA/cm2,并且发射电流在长时间内非常稳定.利用扫描电子显微镜(SEM)、红外光谱(IR)和场发射测试装置等手段对样品的形貌、内部结构以及场发射性能进行表征.初步探讨了非晶金刚石纳米棒阵列场发射机理.
- 闫鹏勋李晓春徐建伟李鑫李春刘洋
- 关键词：氧化铝模板场电子发射
- 磁过滤阴极弧等离子体镀膜设备的研发及DLC纳米尖点阵列膜的制备与性能研究
- 该论文主要分两部分,第一部分首先介绍了磁过滤阴极弧等离子体技术的原理,特点及目前国际上研究进展情况,主要介绍我们自主研制的两台磁过滤阴极弧等离子体镀膜设备的有关技术问题.第二部分是研究用磁过滤等离子体技术制备类金刚石(D...
- 徐建伟
- 关键词：类金刚石膜
- 文献传递
- 偏压类型对磁过滤等离子体制备优质类金刚石膜的影响被引量：3
- 2005年
- 采用自行研制的磁过滤等离子体装置在单晶Si基底上制备了优质类金刚石(DLC)薄膜。运用红外光谱(IR)、扫描电镜(SEM),原子力显微镜(AFM)和纳米压痕仪对样品进行了表征和分析,着重研究了衬底偏压类型对制备薄膜的影响。结果表明:在无偏压或周期性负偏压下制备的DLC薄膜的sp3含量比连续负偏压下制备的薄膜的sp3含量要高;同时在周期性偏压下制备的薄膜表面较光滑,其表面粗糙度仅为0.1nm,sp3含量达到66.8%,相应的纳米硬度也较高(达到80GPa)。同时对相应的成膜机理进行了讨论。
- 闫鹏勋李晓春李春李鑫徐建伟
- 两种物理气相沉积氮化钛涂层的结构及摩擦性能研究被引量：42
- 2002年
- 分别利用磁过滤阴极弧等离子体沉积装置和直流磁控溅射装置在不锈钢基底上制备了 Ti N涂层 ,采用 X射线光电子能谱仪、X射线衍射仪和扫描电子显微镜对涂层的结构及形貌进行了表征 ;利用纳米压痕仪测定了涂层的硬度 ;在 DF- PM型动摩擦系数精密测定仪上考察了涂层的摩擦学性能 .结果表明 :与采用直流磁控溅射法在 40 0℃基底上制备的 Ti N涂层相比 ,采用磁过滤沉积装置在室温下制备的 Ti N涂层更加致密 ,表面平滑 ,最大硬度达 3 5 GPa,摩擦系数明显较小 ( 0 .1～ 0 .4) 。
- 韩修训阎鹏勋阎逢元刘维民余画洋徐建伟吴志国
- 关键词：物理气相沉积氮化钛涂层纳米压入PVD
