闫鹏勋
- 作品数：84 被引量：270H指数：11
- 供职机构：兰州大学更多>>
- 发文基金：甘肃省自然科学基金甘肃省科技攻关计划国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学金属学及工艺冶金工程更多>>
- 硅基自旋注入研究进展
- 2015年
- 自旋注入、自旋探测和自旋操控是构建半导体自旋电子器件的基础。在硅基材料上采用电的方式进行自旋注入,有利于自旋器件与微电子芯片的集成化,是当前该领域的研究热点课题之一。简要概述了硅基自旋注入的研究进展,首先介绍了半导体自旋注入的原理和方法,着重评述了以磁隧道结(MTJ)结构为核心的硅基自旋注入的研究进程,然后详细论述了硅基自旋注入的测试原理、器件结构和实验方法,最后给出了硅基自旋注入的主要研究目标和发展方向,并展望了硅基自旋电子器件的前景。
- 卢启海黄蓉郑礴李俊韩根亮闫鹏勋李成
- 关键词：磁隧道结
- 镍纳米粉的粒度研究被引量：4
- 2006年
- 采用阳极弧放电等离子体方法制备了高纯镍纳米粉末并对其粒度进行了表征。利用X射线衍射法(XRD)测试样品的晶型和粒度,用谢乐Scherrer公式计算颗粒粒度;采用透射电子显微镜(TEM)分析样品的形貌和粒度分布;采用表面吸附仪测定样品的N2吸附-脱附等温线,并由BET理论模型计算出样品的比表面积和颗粒粒度。实验结果表明三者测得的值基本一致。
- 王明旭魏志强李年春赵学福闫鹏勋
- 关键词：粒度TEM法
- 约束弧等离子体制备铝纳米粉体的研究
- 2006年
- 利用自行研制的约束弧等离子体制备金属纳米粉试验装置,成功制备了平均粒度为44nm的铝纳米粉体.利用X射线衍射（XRD）、BET吸附法、透射电子显微镜（TEM）和相应选区电子衍射（SAED）等测试手段对所制备样品的晶体结构、形貌、粒度及其分布、比表面积进行性能表征.试验结果表明：约束弧等离子体法制备的铝纳米粉晶体结构为fcc结构的晶态,与体材料相比晶格常数发生膨胀.比表面积为41m^2·g^-1,粒径范围分布在20～70nm之间,平均粒径为44m,粒度均匀,分散性好,呈规则球形链状分布.
- 魏智强夏天东闫志巾白利锋闫鹏勋
- 关键词：等离子体纳米粉形貌晶体结构粒度
- 镍纳米粉的比表面积测试研究被引量：8
- 2003年
- 采用阳极弧放电等离子体方法制备了高纯镍纳米粉末.利用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)对样品的形貌、晶体结构、粒度进行性能表征.依据BET多层吸附原理,采用静态低温氮气等温吸附方法,测试镍纳米粉末在液氮温度(77K)环境下在气体饱和蒸气压力范围内对氮气的吸附量,利用图解法由吸附等温线求出单层吸附容量,由BET吸附公式计算出纳米粉末比表面积为14.23m2/g.
- 魏智强乔宏霞温贤伦闫鹏勋
- 关键词：镍纳米粉比表面积等离子体图解法氮晶体结构
- 氮化铜薄膜的制备及其物理性能被引量：4
- 2005年
- 氮化铜薄膜的光学性能及其突出的低温热分解特性,使得它在信息存储方面有广阔的应用前景。本文概述了国际上制备多晶态氮化铜薄膜的研究进展及其物理性能,并对其应用前景进行展望。
- 岳光辉闫鹏勋
- 关键词：物理性能热分解特性氮化晶态铜薄膜信息存储
- 镍纳米粉的阳极弧等离子体制备与粒度研究被引量：2
- 2005年
- 采用阳极弧放电等离子体方法成功制备了高纯镍纳米粉体并对其粒度进行表征.采用X射线衍射(XRD)测试样品的物相和结构,并用Scherrer公式计算晶粒粒度;采用透射电子显微镜(TEM)分析样品的形貌、结构和粒度分布;采用表面吸附仪测定样品的N2吸附-脱附等温线,并由BET理论模型计算出样品的比表面积和颗粒粒度.实验结果表明:本法所制备的镍纳米的晶体结构与相应的块体材料基本相同,为fcc结构的晶态,呈规则的球形链状分布,比表面积为14.23m2/g,粒径范围分布在(20～70) nm,平均粒径为47 nm,三种方法测得的结果基本一致.
- 魏智强夏天东戴剑锋冯旺军王青闫鹏勋
- 关键词：粒度TEM法
- 银纳米粉的比表面积研究被引量：1
- 2004年
- 采用阳极弧放电等离子体方法制备了高纯银纳米粉末。利用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)对样品的形貌、晶体结构、粒度进行性能表征。利用静态表面吸附仪依据BET多层吸附原理,在液氮温度下(78K)和气体饱和蒸气压力范围内测试样品对N_2的吸附-脱附等温线,用图解法根据吸附等温线求出单层吸附容量,由BET吸附公式计算出纳米粉末比表面积。结果表明:银纳米粉末的晶体结构为fcc结构,粒径范围在10～50nm,平均粒径为26nm,比表面积为23.81m^2/g。
- 魏智强巩纪君乔宏霞冯旺军王青戴剑锋闫鹏勋
- 关键词：比表面积平均粒径性能表征纳米粉末BET
- 金属Ti与非金属C复合对CrN薄膜的微观结构及摩擦学性能影响的研究
- 利用中频磁控溅射方法,在P（111）硅片上制备了CrN、CrTiN币CrCN薄膜。采用X射线衍射（XRD） 分析显示:CrN薄膜呈现比较随机的取向,而CrTiN薄膜明显的（200）取向,结晶性也变差;CrCN则没有出现结...
- 张广安王鹏陈友明张俊彦闫鹏勋
- 关键词：摩擦学性能
- 文献传递
- (Ti_(1-x)Al_x)N硬质涂层的研究进展被引量：9
- 2007年
- TiAlN作为一种三元复合纳米涂层材料,具有非常好的性能。该涂层克服了TiN涂层所存在的一些缺陷,其硬度远远高于TiN涂层,最高可达47GPa,并且具有很好的热稳定性,在700℃高温下仍很稳定,而TiN涂层在500℃时就已被氧化。TiAlN涂层还具有抗磨损,摩擦系数小,热膨胀系数及热传导系数低等特性,这些特性与涂层中Al含量的多少有关,Al含量的改变会导致涂层微观结构的改变,从而使其性能发生变化。氮分压和基底温度对TiAlN涂层的性质有着极其重要影响。本文结合国内外对TiAlN涂层的最新研究进展,对TiAlN涂层的应用,制备方法,结构,抗氧化性及硬度作了简要论述。
- 张飞闫鹏勋陈江涛苗彬彬李冠斌王君
- 关键词：TIALN涂层晶体结构抗氧化性
- Ar对柱状靶多弧直流磁控溅射制备的Cu3N薄膜的沉积速率、结构、形貌和热稳定的影响
- 采用柱状靶多弧磁控溅射系统制备了氮化铜薄膜,利用XRD和SEM分析了薄膜的相结构和表面形貌,并采用真空热处理研究了氮化铜的热稳定性。结果表明,发现氩的加入对氮化铜薄膜的相结构没有明显的影响,但是对薄膜表面的形貌有较大影响...
- 王明旭张广安吴志国范晓彦闫鹏勋
- 文献传递
