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室温下柔性衬底上制备高性能AZO透明导电薄膜的方法
本发明公开了一种室温下柔性衬底上制备高性能AZO透明导电薄膜的方法,工艺步骤如下,将柔性衬底放入磁控溅射装置里,并对进样室和溅射室抽真空;将柔性衬底送到溅射室的转盘上,再将溅射室的真空度抽至1×10<Sup>-4</Su...
朱德亮
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一种磁控溅射掺杂ZnO基薄膜的制备方法
本发明提供了一种磁控溅射掺杂生长ZnO基薄膜的制备方法,包括步骤:将衬底放置在磁控溅射装置的反应室内,反应室抽真空至压力低于1×10<Sup>-4</Sup>Pa;分别将ZnO靶材和掺杂源元素靶材放置在反应室转盘上的射频...
马晓翠
吕有明
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