刘洪祥
- 作品数：32 被引量：71H指数：6
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术机械工程更多>>
- 双离子束溅射技术制备带通滤光片
- 研究了采用双离子束溅射沉积技术、以沉积时间作为膜厚控制手段制备带通滤光片的工艺。简要介绍了离子束溅射系统的基本工作原理和膜厚控制技术,描述了分别在K9玻璃和有色玻璃上制备由多层Ta2O5和SiO2薄膜组成的滤光片以及短波...
- 申林熊胜明刘洪祥李凌辉张云洞
- 关键词：带通滤光片
- 文献传递
- 一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜层的制备方法
- 本发明提供一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜的制备方法，采用的膜层序列为Sub/CrNx/Ag/CrNx/SiOx/Air，制备过程中所有的蒸发源位于镜面上方，逆向热蒸发；承载铬(Cr)材料的主要部件为钨杆，承载银(Ag...
- 裴文俊刘洪祥
- 文献传递
- 一种大型望远镜铝反射主镜介质保护膜层的制备方法
- 本发明提供一种大型望远镜铝反射主镜介质保护膜层的制备方法，其采用主镜面朝上、保护膜蒸发源位于镜面上方，自上向下的制备方式，保护膜材料为一氧化硅（SiO），装载于经过特殊设计的钼蒸发舟中，加热升华向下蒸发，通过氧化作用生成...
- 刘洪祥裴文俊
- 文献传递
- 一种光学薄膜偏振保真度的测量方法
- 一种光学薄膜偏振保真度的测量方法，其特征在于：激光器发射特定波长激光光束，通过起偏器后产生振动方位角45°线偏振光，经待测光学薄膜元件反射后，旋转检偏器，通过光功率计测量最大功率与最小功率，则最大功率与最小功率之比即为光...
- 刘洪祥刘志国庞薇
- 文献传递
- 一种向下热蒸发介质保护膜层的制备方法
- 本发明提供一种向下热蒸发介质保护膜层的制备方法，其特征在于：装载介质材料的蒸发源位于真空室内部上方、待镀主镜位于下方自上而下蒸发，采用常见的热蒸方式。保护膜材料为一氧化硅（SiO），装载于经过特殊设计的钼蒸发舟中，加热升...
- 裴文俊刘洪祥
- 文献传递
- 氧化物激光薄膜的离子束溅射制备技术
- 研究了由TaO和SiO组成的多层氧化物激光薄膜的双离子束溅射制备工艺。简要介绍了离子束溅射技术的基本工作原理和应用,着重分析了薄膜厚度均匀性的调控方法。先后得到了TaO和SiO单层薄膜厚度均匀性调控结果以及不同波长处薄膜...
- 申林熊胜明刘洪祥李凌辉张云洞
- 关键词：离子束溅射增透膜
- 文献传递
- 宽束离子源的均匀性分析被引量：8
- 2002年
- 在离子束溅射和离子辅助沉积光学薄膜技术中,离子源是其中最关键的单元技术之一。通 过测试宽束离子源束流密度的空间分布,研究了影响离子束均匀性分布的两个主要因素:加速电压和E/B。结果表明,随着加速电压的增加,离子束束流密度的分布趋向均匀;而E/B对离子束均匀性的影响不大。
- 刘洪祥张云洞李凌辉熊胜明
- 关键词：离子束溅射离子源均匀性光学薄膜
- 自动控制离子束溅射沉积光学薄膜系统设计
- 本文利用射频离子源RF-2001 控制器USER INTERFACE 接口具有遥控开关控制的功能，采用继电器控制输出及开关量隔离输入卡DAC-7325E，实现了计算机对离子源的程序控制。由于离子源具有长期运行非常稳定的优...
- 刘洪祥李凌辉申林熊胜明张云洞
- 关键词：光学薄膜离子束溅射光电传感器
- 文献传递
- 时间监控离子束溅射沉积光学薄膜的厚度修正
- 通过单层和多层膜的实验模拟,研究了离子束溅射沉积速率和沉积时间的关系。在溅射镀膜的初始阶段,对于Ta2O5,沉积速率随时间增加而增大;对于SiO2,沉积速率随时间先显著地增加,随后逐渐地减小。结果表明,通过对高、低折射率...
- 刘洪祥李凌辉申林熊胜明张云洞
- 关键词：离子束溅射光学厚度
- 文献传递
- 离子束溅射沉积干涉光学薄膜技术被引量：26
- 2001年
- 离子束溅射技术是近些年发展起来的制备高质量光学薄膜的一种非常重要的方法,它具有其它制膜技术所无法比拟的优点。但是,国内对这方面的研究和介绍甚少,且鲜见报到。本文着重介绍了离子束溅射技术的发展、原理和特征以及应用前景。
- 张云洞刘洪祥
- 关键词：离子束溅射光学薄膜光腔衰荡
