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刘正伟
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沈阳芯源微电子设备有限公司
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电子电信
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合作作者
徐春旭
沈阳芯源微电子设备有限公司
苗涛
沈阳芯源微电子设备有限公司
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沈阳芯源微电子设备有限公司
陈焱
沈阳芯源微电子设备有限公司
宗润福
沈阳芯源微电子设备有限公司
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作者
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刘正伟
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一种光刻胶收集杯自动清洗系统
本发明涉及半导体晶片加工过程中匀胶机的光刻胶收集杯清洗设备,具体地说是一种光刻胶收集杯自动清洗系统,包括外罩、防溅盖、微型接头、调压阀、清洗液罐、药液阀及回吸阀,外罩罩在晶片的外围,在外罩的顶部安装有防溅盖;微型接头安装...
刘正伟
文献传递
一种废液收集装置
本发明涉及一种废液收集装置,可用于半导体晶片加工过程中匀胶、显影设备的废液收集,包括废液桶固定架、废液汇集盒、套管、手柄及废液桶,其中废液汇集盒安装在所述废液桶固定架上,该废液汇集盒的排废管上套设有可相对升降的套管;所述...
刘正伟
文献传递
一种方型晶片对中结构
本发明涉及半导体晶片加工过程中晶片精确定位的设备,具体地说是一种方型晶片对中结构,包括夹紧气缸、X轴夹紧块、Y轴夹紧组件、真空吸盘及支架,真空吸盘安装在支架上,方型晶片放在该真空吸盘上;方型晶片在X轴方向的两侧分别设有连...
刘正伟
文献传递
后道匀胶机胶嘴结晶问题分析
2017年
文章对半导体后道工艺所用匀胶机胶嘴结晶的问题进行了分析,提出了Dummy及保湿两种具体解决结晶问题的方法,并通过两种方法共同作用,初步解决了胶嘴结晶问题,经过工艺现场测试验证了其有效性。
刘正伟
徐春旭
提升器结构
本实用新型涉及半导体晶片加工过程中片盒精确运动技术,具体地说是一种对片盒中晶片进行准确定位的提升器结构,解决晶片在加工完成以后不能被准确的送回到原来的取片片盒中等问题。该提升器结构设有放置及固定片盒装置、伺服控制系统、激...
刘正伟
文献传递
一种方型晶片对中结构
本发明涉及半导体晶片加工过程中晶片精确定位的设备,具体地说是一种方型晶片对中结构,包括夹紧气缸、X轴夹紧块、Y轴夹紧组件、真空吸盘及支架,真空吸盘安装在支架上,方型晶片放在该真空吸盘上;方型晶片在X轴方向的两侧分别设有连...
刘正伟
文献传递
全自动双腔匀胶机
1.本外观设计产品的名称:全自动双腔匀胶机。;2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于晶圆匀胶制造工艺。;3.本外观设计产品的设计要点:在于产品整体形状。;4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:立体图。
郭生华
刘正伟
提升器结构
本发明涉及半导体晶片加工过程中片盒精确运动技术,具体地说是一种对片盒中晶片进行准确定位的提升器结构,解决晶片在加工完成以后不能被准确的送回到原来的取片片盒中等问题。该提升器结构设有放置及固定片盒装置、伺服控制系统、激光传...
刘正伟
文献传递
一种对晶片中心进行定位的光学对中系统及其对中方法
本发明属于半导体晶片加工过程中晶片精确定位领域,具体地说是一种对晶片中心进行定位的光学对中系统及其对中方法,对中系统中X轴移动伺服控制系统安装在底板上,Y轴移动伺服控制系统设置在X轴移动伺服控制系统上;晶片通过真空吸盘安...
刘正伟
文献传递
集成电路制造匀胶显影设备
宗润福
胡延兵
徐春旭
王绍勇
郑春海
张军
苗涛
陈焱
张怀东
李东海
刘正伟
匀胶显影(又称Track系统)是集成电路制造的关键设备之一,用于集成电路制造光刻工艺中晶圆的涂胶和显影。该成果技术指标达到了预期目标: 1.满足线宽工艺达到0.25微米 2.涂胶考核均匀度:10000±25 3.光...
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集成电路
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